JPH05239525A - 溶融還元炉用酸素ランス - Google Patents
溶融還元炉用酸素ランスInfo
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- JPH05239525A JPH05239525A JP29019091A JP29019091A JPH05239525A JP H05239525 A JPH05239525 A JP H05239525A JP 29019091 A JP29019091 A JP 29019091A JP 29019091 A JP29019091 A JP 29019091A JP H05239525 A JPH05239525 A JP H05239525A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、鉄浴型の溶融還元炉を操業するに
際して用いる燃焼・熱効率のよいランスを提供する。 【構成】 本発明の上吹き酸素ランスは、ランスの半径
方向へ１５°以上の広がり角を有する孔を４つ以上持つ
多孔ランスで、それらの孔の形状は、ランスの周を切る
長さが小さい扇形や楕円形等のものであり、隣接する孔
の間隔を大きくすることによって酸素ジェットは多量の
周囲ガスを巻き込みながら広がっていき、スラグ面に衝
突して広いキャビティーを形成することにより高い燃焼
・熱効率を得ることが可能となる。
際して用いる燃焼・熱効率のよいランスを提供する。 【構成】 本発明の上吹き酸素ランスは、ランスの半径
方向へ１５°以上の広がり角を有する孔を４つ以上持つ
多孔ランスで、それらの孔の形状は、ランスの周を切る
長さが小さい扇形や楕円形等のものであり、隣接する孔
の間隔を大きくすることによって酸素ジェットは多量の
周囲ガスを巻き込みながら広がっていき、スラグ面に衝
突して広いキャビティーを形成することにより高い燃焼
・熱効率を得ることが可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、酸素の上吹きを行う鉄
浴式の溶融還元炉を用い、鉄鉱石と石炭から溶銑を製造
する溶融還元製鉄法において用いるのに適したランスに
関する。
浴式の溶融還元炉を用い、鉄鉱石と石炭から溶銑を製造
する溶融還元製鉄法において用いるのに適したランスに
関する。
【０００２】
【従来の技術】高炉を用いない製鉄法の１つとして溶融
還元製鉄法がある。この方法で使用する溶融還元炉は、
使用する原燃料の制約を受けることなく、より小規模な
設備により鉄系合金溶湯を製造することを目的として開
発されたものである。
還元製鉄法がある。この方法で使用する溶融還元炉は、
使用する原燃料の制約を受けることなく、より小規模な
設備により鉄系合金溶湯を製造することを目的として開
発されたものである。
【０００３】溶融還元炉の生産性を上げるには、熱供給
を効率よく行うことが重要であるが、例えば上吹き酸素
により二次燃焼を行い、高い熱効率を得る装置が特開昭
６２−１９２５１３号公報に提案されている。
を効率よく行うことが重要であるが、例えば上吹き酸素
により二次燃焼を行い、高い熱効率を得る装置が特開昭
６２−１９２５１３号公報に提案されている。
【０００４】このとき上吹き酸素ランスは通常の転炉と
同様な酸素ランスを用いるが、転炉よりもソフトブロー
な吹酸が要求されるため、孔径が大きいランスや多孔の
ランスが用いられる。転炉で二次燃焼を行うためのラン
スは、例えば特開昭６２−３３７１０号公報や特開昭６
２−４４５１７号公報に提案されている。
同様な酸素ランスを用いるが、転炉よりもソフトブロー
な吹酸が要求されるため、孔径が大きいランスや多孔の
ランスが用いられる。転炉で二次燃焼を行うためのラン
スは、例えば特開昭６２−３３７１０号公報や特開昭６
２−４４５１７号公報に提案されている。
【０００５】また、孔を非円形にし、酸素ガスを吹き込
む際に多くの雰囲気ガスを巻き込むようにすることで二
次燃焼を促進させるランスが、特開昭６１−１４３５０
７号公報や特開昭６２−２２８４２４号公報に提案され
ている。
む際に多くの雰囲気ガスを巻き込むようにすることで二
次燃焼を促進させるランスが、特開昭６１−１４３５０
７号公報や特開昭６２−２２８４２４号公報に提案され
ている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このような溶融還元炉
の操業において、上吹き酸素ジェットは周囲の雰囲気ガ
スを巻き込んで反応しつつスラグ面に衝突し、スラグ面
にキャビティー（凹み）を形成する。このキャビティー
の形状は、炉内のガス流れや温度分布などの燃焼に関わ
る現象や、高温のガスからの対流あるいは放射によるス
ラグ・鉄浴への伝熱に大きな影響を与える。例えば同じ
ランスでは、ランス−スラグ間の距離が小さいほどキャ
ビティーは狭く、深くなる。
の操業において、上吹き酸素ジェットは周囲の雰囲気ガ
スを巻き込んで反応しつつスラグ面に衝突し、スラグ面
にキャビティー（凹み）を形成する。このキャビティー
の形状は、炉内のガス流れや温度分布などの燃焼に関わ
る現象や、高温のガスからの対流あるいは放射によるス
ラグ・鉄浴への伝熱に大きな影響を与える。例えば同じ
ランスでは、ランス−スラグ間の距離が小さいほどキャ
ビティーは狭く、深くなる。
【０００７】ところが、キャビティーが静止時のスラグ
厚さに近い程度にまで深くなると、酸素が溶銑を酸化し
て二次燃焼率を低下させる。また、キャビティーが狭い
場合は、ガスからスラグ層への伝熱が十分に行われな
い。したがってキャビティーが広さを確保しつつ一定限
度以上深くならないようにして操業することが望まし
い。
厚さに近い程度にまで深くなると、酸素が溶銑を酸化し
て二次燃焼率を低下させる。また、キャビティーが狭い
場合は、ガスからスラグ層への伝熱が十分に行われな
い。したがってキャビティーが広さを確保しつつ一定限
度以上深くならないようにして操業することが望まし
い。
【０００８】スラグ面にこのようなキャビティーを形成
させるためには、吹酸する際に各孔から噴射されるジェ
ットが広がるように各々の孔に角度をつけた多孔ランス
の設計が考えられる。しかし、各孔から噴射されるジェ
ットに周囲の雰囲気ガスが十分に巻き込まれないような
場合には、ジェットに囲まれる内側の領域すなわちラン
スの下部で圧力が低くなり、ジェットはこの方向に偏向
するようになる。結局単孔のランスによって吹酸した場
合と似た挙動を示す。
させるためには、吹酸する際に各孔から噴射されるジェ
ットが広がるように各々の孔に角度をつけた多孔ランス
の設計が考えられる。しかし、各孔から噴射されるジェ
ットに周囲の雰囲気ガスが十分に巻き込まれないような
場合には、ジェットに囲まれる内側の領域すなわちラン
スの下部で圧力が低くなり、ジェットはこの方向に偏向
するようになる。結局単孔のランスによって吹酸した場
合と似た挙動を示す。
【０００９】本発明が解決すべき課題は、溶融還元炉に
おいて広さを確保しつつ一定限度以上深くならないよう
なキャビティーをスラグ面に形成し、高い熱効率を確保
できるようなランスを提供することにある。
おいて広さを確保しつつ一定限度以上深くならないよう
なキャビティーをスラグ面に形成し、高い熱効率を確保
できるようなランスを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、溶融還元炉に
おいて上吹きランスから噴射される酸素ジェットが十分
な量の雰囲気ガスを巻き込んで反応できるようにすると
ともに、スラグ面に広さを確保しつつ一定限度以上深く
ならないようなキャビティーを形成できるよう、各孔か
ら噴射されるジェットが広がるように各々の孔に角度を
つけ、かつ隣接する孔の間隔を大きくとった多孔ランス
を用いて吹酸することを特徴とする。
おいて上吹きランスから噴射される酸素ジェットが十分
な量の雰囲気ガスを巻き込んで反応できるようにすると
ともに、スラグ面に広さを確保しつつ一定限度以上深く
ならないようなキャビティーを形成できるよう、各孔か
ら噴射されるジェットが広がるように各々の孔に角度を
つけ、かつ隣接する孔の間隔を大きくとった多孔ランス
を用いて吹酸することを特徴とする。
【００１１】一定の吹酸量を確保しつつ十分な量の雰囲
気ガスが巻き込まれるようにするためには、孔の面積に
比べて隣接する孔の間隔を大きくとることが望ましい。
気ガスが巻き込まれるようにするためには、孔の面積に
比べて隣接する孔の間隔を大きくとることが望ましい。
【００１２】すなわち、本発明による溶融還元炉用酸素
ランスは、４つ以上の非円形の孔を持ち、それらの孔が
以下の３条件をすべて満たしたものである。 ランスの中央を中心として各孔の重心を通る円を描い
たとき、どの円に対しても中心から同じ位置関係にある
２つ以上の同形の孔があり、それらの重心は円周方向に
等間隔に配置されている。 最も内側の同心円上に重心がある孔は半径方向に１５
°〜３０°の広がり角を持ち、その他の孔は、該孔より
も内側の同心円上に重心がある孔以上の広がり角を持
つ。 ランスの中央を中心とする任意の円が孔部分を横切る
長さの合計は、該円周の７０％を超えない。特に、以上
の特徴に加えて、中心に円形の１孔を持ったものは溶融
還元炉用酸素ランスとしてより優れている。
ランスは、４つ以上の非円形の孔を持ち、それらの孔が
以下の３条件をすべて満たしたものである。 ランスの中央を中心として各孔の重心を通る円を描い
たとき、どの円に対しても中心から同じ位置関係にある
２つ以上の同形の孔があり、それらの重心は円周方向に
等間隔に配置されている。 最も内側の同心円上に重心がある孔は半径方向に１５
°〜３０°の広がり角を持ち、その他の孔は、該孔より
も内側の同心円上に重心がある孔以上の広がり角を持
つ。 ランスの中央を中心とする任意の円が孔部分を横切る
長さの合計は、該円周の７０％を超えない。特に、以上
の特徴に加えて、中心に円形の１孔を持ったものは溶融
還元炉用酸素ランスとしてより優れている。
【００１３】また、ランス本体に穿設したガス通路を複
数の分岐通路に分割し、該分岐通路をランス本体の中央
を中心とする円の半径方向に広がるように配設するとと
もに、各分岐通路の先端が、そのまま上記のような孔を
構成するようにしたランスも同様に溶融還元炉用酸素ラ
ンスとして優れている。
数の分岐通路に分割し、該分岐通路をランス本体の中央
を中心とする円の半径方向に広がるように配設するとと
もに、各分岐通路の先端が、そのまま上記のような孔を
構成するようにしたランスも同様に溶融還元炉用酸素ラ
ンスとして優れている。
【００１４】以上述べてきたような溶融還元炉用酸素ラ
ンスのうちいずれか１つを用いて溶融還元炉の操業を行
なう際には、吹酸されたジェットが溶融還元炉内のスラ
グ面に衝突することによって生成するスラグ面のキャビ
ティーの最大深さＬと最大半径ｒが、それぞれ静止時の
スラグ深さＬo とスラグ面の炉内半径Ｒに対して、０．
５＜Ｌ／Ｌo ＜０．８かつ０．５＜ｒ／Ｒ＜０．８とな
るようにランス高さと吹酸量とを制御することによっ
て、極めて高い熱効率を確保することが可能となる。
ンスのうちいずれか１つを用いて溶融還元炉の操業を行
なう際には、吹酸されたジェットが溶融還元炉内のスラ
グ面に衝突することによって生成するスラグ面のキャビ
ティーの最大深さＬと最大半径ｒが、それぞれ静止時の
スラグ深さＬo とスラグ面の炉内半径Ｒに対して、０．
５＜Ｌ／Ｌo ＜０．８かつ０．５＜ｒ／Ｒ＜０．８とな
るようにランス高さと吹酸量とを制御することによっ
て、極めて高い熱効率を確保することが可能となる。
【００１５】具体的な孔の形状の例を、図面を用いて説
明する。図１は、中央に円形の孔があり、その外側にラ
ンス半径方向に広がる中心角の小さい扇形が４孔以上あ
るもので、ここでは８孔の例を示している。
明する。図１は、中央に円形の孔があり、その外側にラ
ンス半径方向に広がる中心角の小さい扇形が４孔以上あ
るもので、ここでは８孔の例を示している。
【００１６】中央の孔からのジェットの噴出方向は下向
きで、外側の扇形の孔からのジェットの噴出方向はいず
れも鉛直方向に対して炉の半径方向に１５°〜３０°の
範囲にある特定の広がり角を持つものとする。
きで、外側の扇形の孔からのジェットの噴出方向はいず
れも鉛直方向に対して炉の半径方向に１５°〜３０°の
範囲にある特定の広がり角を持つものとする。
【００１７】また図２は別の孔の形状の例で、中央には
図１と同じく円形の孔があり、その外側にはランスの半
径方向に長軸を持つ楕円の孔が４孔以上あるもので、こ
こでは８孔の例を示している。
図１と同じく円形の孔があり、その外側にはランスの半
径方向に長軸を持つ楕円の孔が４孔以上あるもので、こ
こでは８孔の例を示している。
【００１８】この８孔のうち１つおきの４孔と残りの４
孔は、それぞれの孔の中心が、ランス中央を中心とする
半径の異なる２つの同心円上にある。ここで、内側の同
心円上に中心がある４孔からのジェットの噴出方向は、
いずれも鉛直方向に対してランス本体の中央を中心とす
る円の半径方向に１５°〜３０°の範囲にある特定の広
がり角（例えば１５°）を持ち、外側の同心円上に中心
がある４孔からのジェットの噴出方向は、いずれも鉛直
方向に対して同じ円の半径方向に内側の４孔の広がり角
以上の特定の広がり角（例えは３０°）を持つものとす
る。
孔は、それぞれの孔の中心が、ランス中央を中心とする
半径の異なる２つの同心円上にある。ここで、内側の同
心円上に中心がある４孔からのジェットの噴出方向は、
いずれも鉛直方向に対してランス本体の中央を中心とす
る円の半径方向に１５°〜３０°の範囲にある特定の広
がり角（例えば１５°）を持ち、外側の同心円上に中心
がある４孔からのジェットの噴出方向は、いずれも鉛直
方向に対して同じ円の半径方向に内側の４孔の広がり角
以上の特定の広がり角（例えは３０°）を持つものとす
る。
【００１９】なお、本実施例では８孔とも同一形状であ
るが、本発明では中心の１孔が円であり、それ以外のす
べての孔が同一形状である必要はなく、例えば本実施例
の内側の４孔と外側の４孔が異なるものでもよい。
るが、本発明では中心の１孔が円であり、それ以外のす
べての孔が同一形状である必要はなく、例えば本実施例
の内側の４孔と外側の４孔が異なるものでもよい。
【００２０】図３には、本発明のうち分岐通路を配設し
たランスの例を示す。このランスは、ランス本体に穿設
したガス通路をランス本体先端部で６本の分岐通路に分
割し、該分岐通路を斜め下向きに広がり角が１５°〜３
０°となるように形成して、それぞれの分岐通路の先端
に、中心が同心円上に等間隔に位置する楕円形の開口を
設けたものである。
たランスの例を示す。このランスは、ランス本体に穿設
したガス通路をランス本体先端部で６本の分岐通路に分
割し、該分岐通路を斜め下向きに広がり角が１５°〜３
０°となるように形成して、それぞれの分岐通路の先端
に、中心が同心円上に等間隔に位置する楕円形の開口を
設けたものである。
【００２１】なお、広がり角（孔からのジェットの噴出
方向すなわち孔の中心線と鉛直方向とのなす角度）を１
５°〜３０°の範囲としたのは以下の理由による。すな
わち、１５°よりも小さい場合には、隣接する孔から噴
射する酸素ジェットと重なって、十分な量の雰囲気ガス
を巻き込むことができず、十分な二次燃焼を期待できな
くなる点、並びに、ジェットがスラグ面に衝突したとき
の伝熱面積を十分に稼げなくなる点の２点で好ましくな
く、３０°よりも大きい場合には、酸素ジェットがスラ
グ面のみならず、溶融還元炉内壁にも衝突し、有効なキ
ャビティーを形成できなくなる可能性が大きくなる点で
好ましくない。
方向すなわち孔の中心線と鉛直方向とのなす角度）を１
５°〜３０°の範囲としたのは以下の理由による。すな
わち、１５°よりも小さい場合には、隣接する孔から噴
射する酸素ジェットと重なって、十分な量の雰囲気ガス
を巻き込むことができず、十分な二次燃焼を期待できな
くなる点、並びに、ジェットがスラグ面に衝突したとき
の伝熱面積を十分に稼げなくなる点の２点で好ましくな
く、３０°よりも大きい場合には、酸素ジェットがスラ
グ面のみならず、溶融還元炉内壁にも衝突し、有効なキ
ャビティーを形成できなくなる可能性が大きくなる点で
好ましくない。
【００２２】また、ランスの中央を中心とする任意の円
が孔部分を横切る長さの合計が、該円周の７０％を超え
ると、隣接する孔から噴射する酸素ジェットと重なっ
て、十分な量の雰囲気ガスを巻き込むことができず、十
分な二次燃焼を期待できなくなる点で好ましくない。
が孔部分を横切る長さの合計が、該円周の７０％を超え
ると、隣接する孔から噴射する酸素ジェットと重なっ
て、十分な量の雰囲気ガスを巻き込むことができず、十
分な二次燃焼を期待できなくなる点で好ましくない。
【００２３】
【作用】溶融還元炉においては、鉱石の溶解・還元等に
多量の熱を必要とするため、酸素を上吹きして石炭分解
生成ガスや還元で生成したＣＯガスを燃焼させて熱を発
生させ、スラグ・メタル層に着熱させる。
多量の熱を必要とするため、酸素を上吹きして石炭分解
生成ガスや還元で生成したＣＯガスを燃焼させて熱を発
生させ、スラグ・メタル層に着熱させる。
【００２４】スラグ中に懸濁している固体の炭材も一部
燃焼し、伝熱の媒体となる。上吹きされた酸素ジェット
は周囲のガスを巻き込みながら反応し、スラグ面に衝突
してキャビティーを形成し、ガスからスラグ層へ直接あ
るいは対流または放射によって熱が伝わる。
燃焼し、伝熱の媒体となる。上吹きされた酸素ジェット
は周囲のガスを巻き込みながら反応し、スラグ面に衝突
してキャビティーを形成し、ガスからスラグ層へ直接あ
るいは対流または放射によって熱が伝わる。
【００２５】円形の孔を持つランスに比べて隣接する孔
との間隔が大きいため、本発明に示す構造の多孔ランス
を用いて酸素を上吹きすることにより、酸素ジェットは
十分に周囲の雰囲気ガスを巻き込んでランスの半径方向
に広がることができ、スラグ面に広いキャビティーを形
成する。
との間隔が大きいため、本発明に示す構造の多孔ランス
を用いて酸素を上吹きすることにより、酸素ジェットは
十分に周囲の雰囲気ガスを巻き込んでランスの半径方向
に広がることができ、スラグ面に広いキャビティーを形
成する。
【００２６】このキャビティーは容易には深くならない
ため、メタルを酸化することはなく、高い二次燃焼率を
得ることができ、また、ガスとスラグの接触面積が大き
いため、十分な着熱効率を得ることができる。
ため、メタルを酸化することはなく、高い二次燃焼率を
得ることができ、また、ガスとスラグの接触面積が大き
いため、十分な着熱効率を得ることができる。
【００２７】
【実施例】孔部分の構造が図１に示されるランスを用い
て溶融還元炉を操業した例を示す。ランスは中心孔が直
径８０mmφの円形、周囲の孔がランス半径方向に広がる
半径２１０mm、中心角３０°の扇形で、それが８個ある
ものを用いた。
て溶融還元炉を操業した例を示す。ランスは中心孔が直
径８０mmφの円形、周囲の孔がランス半径方向に広がる
半径２１０mm、中心角３０°の扇形で、それが８個ある
ものを用いた。
【００２８】扇形の８個の孔はその重心の位置がランス
中央を中心とする１つの円周上に等間隔に配置されてい
る。中心孔からのジェットは下向きであるが、周囲の扇
形の孔からのジェットはランスの中心線から半径方向に
２０°の広がり角を持つ。
中央を中心とする１つの円周上に等間隔に配置されてい
る。中心孔からのジェットは下向きであるが、周囲の扇
形の孔からのジェットはランスの中心線から半径方向に
２０°の広がり角を持つ。
【００２９】図４に示す容量３００ｔの転炉型の溶融還
元炉に、予備還元炉によって５０％予備還元された鉱石
原料投入口１１より毎分２．５ｔの速度で装入し、これ
に炭素原料として揮発分２０％の石炭を燃料投入口１２
より毎分１．６ｔ、また、スラグ形成材として石灰石を
毎分０．２４ｔ装入し、これに当該ランスから酸素を毎
分１５００Nm3 吹き付けて溶融し還元した。メタル・ス
ラグが生成するのに伴ってスラグレベルが上昇し、それ
に対応してランスを上昇させながら操業した。この操業
の間、二次燃焼率は５０％、二次燃焼着熱効率は９０％
でほぼ安定していた。この操業結果から、当該ランスか
らの酸素ジェットにより、スラグ面には伝熱するに十分
な広さを持ち、かつメタルの酸化が起こらないような深
さのキャビティーが形成していたと考えられる。
元炉に、予備還元炉によって５０％予備還元された鉱石
原料投入口１１より毎分２．５ｔの速度で装入し、これ
に炭素原料として揮発分２０％の石炭を燃料投入口１２
より毎分１．６ｔ、また、スラグ形成材として石灰石を
毎分０．２４ｔ装入し、これに当該ランスから酸素を毎
分１５００Nm3 吹き付けて溶融し還元した。メタル・ス
ラグが生成するのに伴ってスラグレベルが上昇し、それ
に対応してランスを上昇させながら操業した。この操業
の間、二次燃焼率は５０％、二次燃焼着熱効率は９０％
でほぼ安定していた。この操業結果から、当該ランスか
らの酸素ジェットにより、スラグ面には伝熱するに十分
な広さを持ち、かつメタルの酸化が起こらないような深
さのキャビティーが形成していたと考えられる。
【００３０】これに対して、各孔が上記のランスと同じ
断面積と広がり角を持ち、形状が円形の孔である従来型
のランスを用いて同様の条件で操業した場合には、上記
本発明におけるランスと同じスラグ−ランス間距離にす
ると二次燃焼率は下がる。
断面積と広がり角を持ち、形状が円形の孔である従来型
のランスを用いて同様の条件で操業した場合には、上記
本発明におけるランスと同じスラグ−ランス間距離にす
ると二次燃焼率は下がる。
【００３１】もし５０％の二次燃焼率を得ようとする場
合は、上記ランスを使用した場合と比べてスラグ−ラン
ス間距離を大きく取らねばならず、その結果、着熱効率
がさらに低くなり、鉱石供給量を減らさない限り溶銑温
度が低下するという熱供給における問題が生じた。
合は、上記ランスを使用した場合と比べてスラグ−ラン
ス間距離を大きく取らねばならず、その結果、着熱効率
がさらに低くなり、鉱石供給量を減らさない限り溶銑温
度が低下するという熱供給における問題が生じた。
【００３２】この操業結果から、この従来型のランスか
らの酸素ジェットは本発明のランスよりも周囲ガスの巻
き込み量が少なく、かつ深く狭いキャビティーを形成し
ていることが推定される。
らの酸素ジェットは本発明のランスよりも周囲ガスの巻
き込み量が少なく、かつ深く狭いキャビティーを形成し
ていることが推定される。
【００３３】
【発明の効果】本発明によるランスを用いることによ
り、上吹きランスからの酸素ジェットが十分な量の周囲
の雰囲気ガスを巻き込んで反応することが可能となり、
一方、スラグ面に衝突して、スラグ面に広く浅いキャビ
ティーを形成する。その結果、メタルを酸化させること
なく高い二次燃焼率と熱効率を得ることができる。加え
て、高い熱効率を得ることから排ガスの温度を低く抑え
ることができ、従って、炉内耐火物や煙道への熱負荷を
軽減することができる。
り、上吹きランスからの酸素ジェットが十分な量の周囲
の雰囲気ガスを巻き込んで反応することが可能となり、
一方、スラグ面に衝突して、スラグ面に広く浅いキャビ
ティーを形成する。その結果、メタルを酸化させること
なく高い二次燃焼率と熱効率を得ることができる。加え
て、高い熱効率を得ることから排ガスの温度を低く抑え
ることができ、従って、炉内耐火物や煙道への熱負荷を
軽減することができる。
【図１】本発明に係る上吹き酸素ランスの第一の例で、
その孔部分の構造の説明図である。
その孔部分の構造の説明図である。
【図２】本発明に係る上吹き酸素ランスの第二の例の説
明図である。
明図である。
【図３】本発明の更に他の分岐通路を配設したランスの
例の説明図で（ａ）は側面図、（ｂ）は背面図である。
例の説明図で（ａ）は側面図、（ｂ）は背面図である。
【図４】本発明の実施例で使用した溶融還元炉の概要図
である。
である。
１ ランス本体 ２ 中心孔 ３ 周囲孔 ４ 各周囲孔の重心を通る同心円 ５ ４孔の重心を通る内側の同心円 ６ 他の４孔の重心を通る外側の同心円 ７ ガス通路 ８ 分岐通路 ９ 先端開口部 １０ 鉄浴炉 １１ 原料投入口 １２ 燃料投入口 １３ 酸素ジェット １４ 排ガスダクト １５ 溶銑 １６ スラグ １７ スラグキャビティー
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年１月９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１８】この８孔のうち１つおきの４孔と残りの４
孔は、それぞれの孔の中心が、ランス中央を中心とする
半径の異なる２つの同心円上にある。ここで、内側の同
心円上に中心がある４孔からのジェットの噴出方向は、
いずれも鉛直方向に対してランス本体の中央を中心とす
る円の半径方向に１５°〜３０°の範囲にある特定の広
がり角（例えば１５°）を持ち、外側の同心円上に中心
がある４孔からのジェットの噴出方向は、いずれも鉛直
方向に対して同じ円の半径方向に内側の４孔の広がり角
以上の特定の広がり角（例えば３０°）を持つものとす
る。
孔は、それぞれの孔の中心が、ランス中央を中心とする
半径の異なる２つの同心円上にある。ここで、内側の同
心円上に中心がある４孔からのジェットの噴出方向は、
いずれも鉛直方向に対してランス本体の中央を中心とす
る円の半径方向に１５°〜３０°の範囲にある特定の広
がり角（例えば１５°）を持ち、外側の同心円上に中心
がある４孔からのジェットの噴出方向は、いずれも鉛直
方向に対して同じ円の半径方向に内側の４孔の広がり角
以上の特定の広がり角（例えば３０°）を持つものとす
る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３０】これに対して、各孔が上記のランスと同じ
断面積と広がり角を持ち、形状が円形の孔である従来型
のランスを用いて同様の条件で操業した場合には、上記
本発明におけるランスと同じスラグ−ランス間距離にす
ると二次燃焼率は下がった。
断面積と広がり角を持ち、形状が円形の孔である従来型
のランスを用いて同様の条件で操業した場合には、上記
本発明におけるランスと同じスラグ−ランス間距離にす
ると二次燃焼率は下がった。
Claims (3)
- 【請求項１】 ４つ以上の非円形の孔を持ち、それらの
孔が以下の各条件をすべて満たした溶融還元炉用酸素ラ
ンス。 １．ランスの中央を中心として各孔の重心を通る円を描
いたとき、どの円に対しても中心から同じ位置関係にあ
る２つ以上の同形の孔があり、それらの重心は円周方向
に等間隔に配置されている。 ２．最も内側の同心円上に重心がある孔は半径方向に１
５°〜３０°の広がり角を持ち、その他の孔は、同じく
１５°〜３０°の広がり角の範囲で、該孔よりも内側の
同心円上に重心がある孔以上の広がり角を持つ。 ３．ランスの中央を中心とする任意の円が孔部分を横切
る長さの合計は、該円周の７０％を超えない。 - 【請求項２】 中心に円形の１孔を設けた請求項１記載
の溶融還元炉用酸素ランス。 - 【請求項３】 ランス本体に穿設したガス通路を複数の
分岐通路に分割し、該分岐通路をランス本体の中央を中
心とする円の半径方向に広がるように配設するととも
に、各分岐通路の先端がそのまま請求項１または２に記
載の孔を構成するようにした溶融還元炉用酸素ランス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29019091A JPH05239525A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | 溶融還元炉用酸素ランス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29019091A JPH05239525A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | 溶融還元炉用酸素ランス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05239525A true JPH05239525A (ja) | 1993-09-17 |
Family
ID=17752918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29019091A Withdrawn JPH05239525A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | 溶融還元炉用酸素ランス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05239525A (ja) |
-
1991
- 1991-11-06 JP JP29019091A patent/JPH05239525A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990204 |