JPS639129U - - Google Patents

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JPS639129U
JPS639129U JP10137786U JP10137786U JPS639129U JP S639129 U JPS639129 U JP S639129U JP 10137786 U JP10137786 U JP 10137786U JP 10137786 U JP10137786 U JP 10137786U JP S639129 U JPS639129 U JP S639129U
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JP
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semiconductor wafer
resist
spinner head
center
coating apparatus
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JP10137786U
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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例の装置でコーテイ
ングを行つた状態を示す断面図、第2図はこの考
案の一実施例の装置を示す断面図、第3図は従来
の装置を示す断面図、第4図は中心に歪吸収用穴
を有する半導体ウエハを示す平面図である。 1……スピナーカツプ、2……半導体ウエハ、
3……スピナーヘツド、4……モータ、5……レ
ジスト、6……ノズル、7……歪吸収用穴、8…
…突部。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 カツプ状外囲器中心のスピナーヘツド上に半導
    体ウエハを吸着保持し、その半導体ウエハ面にノ
    ズルよりレジストを滴下させると同時に、前記ス
    ピナーヘツドにより半導体ウエハを回転させるこ
    とにより、前記レジストを半導体ウエハ上の全面
    に塗布するようにした半導体ウエハのレジストコ
    ーテイング装置において、 中心に歪吸収用穴を有する半導体ウエハの前記
    歪吸収用穴に嵌合される先端円錐状の突部を前記
    スピナーヘツドの中心に設け、 この突部の真上に前記レジスト滴下用のノズル
    が位置することを特徴とする半導体ウエハのレジ
    ストコーテイング装置。
JP10137786U 1986-07-03 1986-07-03 Pending JPS639129U (ja)

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JP10137786U JPS639129U (ja) 1986-07-03 1986-07-03

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JP10137786U JPS639129U (ja) 1986-07-03 1986-07-03

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JPS639129U true JPS639129U (ja) 1988-01-21

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ID=30972054

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JP10137786U Pending JPS639129U (ja) 1986-07-03 1986-07-03

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