JPS6384879A - 研磨テ−プ - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気記録再生装置の磁気ヘッド等の研磨に用い
る研磨テープに関し、主として2つのリール間を走行さ
せて磁気ヘッドの研磨を行なう研磨テープに関するもの
である。
る研磨テープに関し、主として2つのリール間を走行さ
せて磁気ヘッドの研磨を行なう研磨テープに関するもの
である。
(従来の技術)
ビデオ用あるいは高級オーディオ用等の磁気ヘッドはテ
ープ摺動面の平滑性がとくに要求されるため、一般に磁
気ヘッドを製作する際、粗削りの模この磁気ヘッドを所
定の位置に配し、この磁気ヘッドを挾む2つのリール間
に研磨テープを走行させて磁気ヘッドのテープ摺動面を
平滑に仕上げることが行なわれている。このような研磨
テープは、一般に可撓性支持体上に微細な研磨材(粒子
)、結合剤(バインダ)および必要に応じて添加される
潤滑剤等の添加剤を混練した研磨塗液を塗着して成るも
のであり、支持体は可撓性を有しているので磁気ヘッド
のテープ摺動面の曲面形状になじんでこの面を精密に研
磨仕上することができろ。
ープ摺動面の平滑性がとくに要求されるため、一般に磁
気ヘッドを製作する際、粗削りの模この磁気ヘッドを所
定の位置に配し、この磁気ヘッドを挾む2つのリール間
に研磨テープを走行させて磁気ヘッドのテープ摺動面を
平滑に仕上げることが行なわれている。このような研磨
テープは、一般に可撓性支持体上に微細な研磨材(粒子
)、結合剤(バインダ)および必要に応じて添加される
潤滑剤等の添加剤を混練した研磨塗液を塗着して成るも
のであり、支持体は可撓性を有しているので磁気ヘッド
のテープ摺動面の曲面形状になじんでこの面を精密に研
磨仕上することができろ。
従来このようなテープとしては、例えば、酸化亜鉛(Z
n O)からなる研磨材と、塩化ビニル系樹脂を主体と
する結合剤と、各種の添加剤、例えばポリイソシアネー
ト等の硬化剤やシリコーンオイル等の潤滑剤とを混練し
た研磨塗液を支持体上に塗着して成るクリーニングテー
プが知られている。(特開昭53−102017号公報
)従って、例えばそのクリーニングテープにおいて研磨
材のみを酸化亜鉛よりもさらに硬いものに替えてそれを
研磨テープとして使用することが考えられる。
n O)からなる研磨材と、塩化ビニル系樹脂を主体と
する結合剤と、各種の添加剤、例えばポリイソシアネー
ト等の硬化剤やシリコーンオイル等の潤滑剤とを混練し
た研磨塗液を支持体上に塗着して成るクリーニングテー
プが知られている。(特開昭53−102017号公報
)従って、例えばそのクリーニングテープにおいて研磨
材のみを酸化亜鉛よりもさらに硬いものに替えてそれを
研磨テープとして使用することが考えられる。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、このように結合剤として塩化ビニル系樹脂を用
いて成る研磨テープでは、塩化ビニル系樹脂による研磨
材の分散性が悪く、研磨材が固ま。
いて成る研磨テープでは、塩化ビニル系樹脂による研磨
材の分散性が悪く、研磨材が固ま。
りとなって−ケ所に集中してしまうことがあり、被研磨
面を傷つける原因となっていた。
面を傷つける原因となっていた。
また、最近パーマロイ製のヘッドが多く使用されている
が、パーマロイは柔かく腐蝕されやすい合金であるため
、咳ヘッドのテープ摺動面は腐蝕されやすい性質を有し
ている。前述した結合剤として塩化ビニル系樹脂を用い
て成る研磨テープは、結合剤から脱塩酸が生じやすく、
この脱塩酸によってテープと接触している被研磨面を腐
蝕させやすい。従って、被研磨体が前記パーマロイヘッ
ドの如く腐蝕しやすいものである場合には特にこの影響
を受けやすく、好ましくなし1゜ 本発明の目的は、上記事情に鑑み、結合剤として塩化ビ
ニル系樹脂を用いた研磨テープであって、研磨材の分散
性に優れ、パーマロイヘッド等の腐蝕しやすい被研磨面
であっても腐蝕されるおそれの少ない、特に仕上げ研磨
に適する研磨テープを提供することにある。
が、パーマロイは柔かく腐蝕されやすい合金であるため
、咳ヘッドのテープ摺動面は腐蝕されやすい性質を有し
ている。前述した結合剤として塩化ビニル系樹脂を用い
て成る研磨テープは、結合剤から脱塩酸が生じやすく、
この脱塩酸によってテープと接触している被研磨面を腐
蝕させやすい。従って、被研磨体が前記パーマロイヘッ
ドの如く腐蝕しやすいものである場合には特にこの影響
を受けやすく、好ましくなし1゜ 本発明の目的は、上記事情に鑑み、結合剤として塩化ビ
ニル系樹脂を用いた研磨テープであって、研磨材の分散
性に優れ、パーマロイヘッド等の腐蝕しやすい被研磨面
であっても腐蝕されるおそれの少ない、特に仕上げ研磨
に適する研磨テープを提供することにある。
(問題点を解決するための手段)
本発明に係る研磨テープは、前記問題点を解決するため
に、結合剤として一8O3Ml(MはLi、Na、)(
を表わす)とエポキシ基との双方を有する塩化ビニル系
樹脂を使用したことを特徴とする。
に、結合剤として一8O3Ml(MはLi、Na、)(
を表わす)とエポキシ基との双方を有する塩化ビニル系
樹脂を使用したことを特徴とする。
この塩化ビニル系樹脂は共重合体であり、その他の極性
基、例えば−〇H,−000M、 −08O3’M、−
P (OM)z 、−NHz tr導入スルモノマー
が入っていてもよい。(Mは水素又はアルカリ金属 M
’ は水素、アルカリ金属又は炭化。
基、例えば−〇H,−000M、 −08O3’M、−
P (OM)z 、−NHz tr導入スルモノマー
が入っていてもよい。(Mは水素又はアルカリ金属 M
’ は水素、アルカリ金属又は炭化。
水素基)
もちろん、本発明に係る研磨テープの結合剤は、上記塩
化ビニル系樹脂のみから成っていても良いし、該樹脂と
他のものとから成っていても良い。
化ビニル系樹脂のみから成っていても良いし、該樹脂と
他のものとから成っていても良い。
(作 用)
本発明による研磨テープは、その研磨層を形成するにあ
たって、前述したような一SO3M基とエポキシ基とを
有する塩化ビニル系樹脂を係合剤として使用している。
たって、前述したような一SO3M基とエポキシ基とを
有する塩化ビニル系樹脂を係合剤として使用している。
上記−SO3M基は、優れた分散性を有し、研磨層にお
いて研磨材が一ケ所に凝集することなく研WllII内
に均一に研磨材を分散させ、被1ilI磨面の傷付きを
防止する作用を有する。
いて研磨材が一ケ所に凝集することなく研WllII内
に均一に研磨材を分散させ、被1ilI磨面の傷付きを
防止する作用を有する。
また、上記エポキシ基は塩化ビニルの脱塩酸の弊害を防
止し、その脱塩酸によるパーマロイヘッド等の被研磨面
の腐蝕を防止する作用を有している。
止し、その脱塩酸によるパーマロイヘッド等の被研磨面
の腐蝕を防止する作用を有している。
(実 施 例)
以下、本発明の実施例について詳細に説明する。
本発明の実施例による研磨テープは、図面に示すように
可撓性を有する支持体1と、この支持体1上に形成され
た研磨層2から構成されている。
可撓性を有する支持体1と、この支持体1上に形成され
た研磨層2から構成されている。
この研磨層2は、研磨材3と結合剤と、必要に応じて用
いられる各種の添加剤等とを混練した研磨塗液を前記支
持体1上に塗布し乾燥させて製造したものである。
いられる各種の添加剤等とを混練した研磨塗液を前記支
持体1上に塗布し乾燥させて製造したものである。
被研磨体の一例である磁気ヘッド4のテープ摺動面を研
磨する際は、磁気ヘッド4を挾む2つの位置に配された
リール(図示されていない)の−方から他方へこの研磨
テープを定速で走行させ、磁気ヘッド4に研磨WJ2を
摺動させる。このとき研磨1112表面から突出した硬
い研磨材3により、磁気ヘッド4のテープ摺動面が平滑
に研磨される。
磨する際は、磁気ヘッド4を挾む2つの位置に配された
リール(図示されていない)の−方から他方へこの研磨
テープを定速で走行させ、磁気ヘッド4に研磨WJ2を
摺動させる。このとき研磨1112表面から突出した硬
い研磨材3により、磁気ヘッド4のテープ摺動面が平滑
に研磨される。
研磨層に含有される上記結合剤は一SO3M基(MはL
i 、 Na l Kを表わす)とエポキシ基の双方を
有する塩化ビニル系樹脂を含むものである。
i 、 Na l Kを表わす)とエポキシ基の双方を
有する塩化ビニル系樹脂を含むものである。
ここにいう塩化ビニル系樹脂とは、塩化ビニルとffi
合可能な他のモノマー、たとえば酢酸ビニルに代表され
るようなビニルエステル誘導体、塩化ビニリデン、アク
リロニトリル、スチレン、アクリル酸エステル等との共
重合体であり、このポリマーに一SO3M基、およびエ
ポキシ基が結合される。この塩化ビニル系樹脂の数平均
分子量は15.000〜60,000の範囲が好ましい
。またこの樹脂の塩化ビニル含量は60wt%以上、他
の共重合可能な組成分は40wt%より小であるのが好
ましく、塩化ビニル含量がSO〜90wt%、他の共重
合可能な組成分が20〜10wt%であるのがより好ま
しい。上記−SO5M基の結合量は、SOaに換算して
塩化ビニル系樹脂に対して0.1〜(0wt%が好まし
く、0.2〜1,5wt%であればさらに好ましく、0
.5〜1.0wt%であればさらに合理的に効果を得ら
れるものである。
合可能な他のモノマー、たとえば酢酸ビニルに代表され
るようなビニルエステル誘導体、塩化ビニリデン、アク
リロニトリル、スチレン、アクリル酸エステル等との共
重合体であり、このポリマーに一SO3M基、およびエ
ポキシ基が結合される。この塩化ビニル系樹脂の数平均
分子量は15.000〜60,000の範囲が好ましい
。またこの樹脂の塩化ビニル含量は60wt%以上、他
の共重合可能な組成分は40wt%より小であるのが好
ましく、塩化ビニル含量がSO〜90wt%、他の共重
合可能な組成分が20〜10wt%であるのがより好ま
しい。上記−SO5M基の結合量は、SOaに換算して
塩化ビニル系樹脂に対して0.1〜(0wt%が好まし
く、0.2〜1,5wt%であればさらに好ましく、0
.5〜1.0wt%であればさらに合理的に効果を得ら
れるものである。
上記エポキシ基の結合量は、塩化ビニル系樹脂に対して
0.1〜10W【%が好ましく、0.8〜8wt%であ
ればより好ましく、特に 1.5〜7wt%であればよ
り合理的に効果を19られ好ましい。
0.1〜10W【%が好ましく、0.8〜8wt%であ
ればより好ましく、特に 1.5〜7wt%であればよ
り合理的に効果を19られ好ましい。
なお、上記−SO3M基のMはl−i、Na、Kから選
択されるが、なかでも−8O3Naが分散性が最も優れ
ていて好ましい。
択されるが、なかでも−8O3Naが分散性が最も優れ
ていて好ましい。
更に、本発明の緒特性に悪影響を及ぼさない範囲(SO
3M基およびエポキシ基を有する塩化ビニル系樹脂の全
量に対して1〜1.5wt%)で、前記した塩化ビニル
系樹脂以外の他のポリマーを結合剤として添加すること
ができる。このようなポリマーとして、例えばアクリロ
ニトリル−ブタジェンコポリマー、スチレン−ブタジェ
ンコポリマー等のゴム系ポリマー、セルロースナイトレ
ート、セルロースアセテート等のセルロース誘導体ポリ
ウレタンなどが挙げられる。
3M基およびエポキシ基を有する塩化ビニル系樹脂の全
量に対して1〜1.5wt%)で、前記した塩化ビニル
系樹脂以外の他のポリマーを結合剤として添加すること
ができる。このようなポリマーとして、例えばアクリロ
ニトリル−ブタジェンコポリマー、スチレン−ブタジェ
ンコポリマー等のゴム系ポリマー、セルロースナイトレ
ート、セルロースアセテート等のセルロース誘導体ポリ
ウレタンなどが挙げられる。
この発明において、前述の一SO3M基およびエポキシ
基を有する塩化ビニル系樹脂は結合剤中に全結合剤量の
30重量%以上含まれているのが好ましく、これより少
ないと十分な効果が期待できない。
基を有する塩化ビニル系樹脂は結合剤中に全結合剤量の
30重量%以上含まれているのが好ましく、これより少
ないと十分な効果が期待できない。
また、前記−SO5M基およびエポキシ基を有する塩化
ビニル系樹脂の量は、研磨材100部に対して15〜5
0部が好ましく、20〜40部であればさらに好ましい
。
ビニル系樹脂の量は、研磨材100部に対して15〜5
0部が好ましく、20〜40部であればさらに好ましい
。
本発明においては、研磨塗液中に、・上記の如き結合剤
と共に硬化作用を有するポリイソシアネートを添加剤と
して添加するのが望ましい。このポリイソシアネート、
例えばイソシアネート基を複数布する分子ff1150
〜2000の低分子ポリイソシアネート化合物を添加す
ることにより、研磨層内に三次元網目構造を形成せしめ
て研磨層を物理強度的に更に優れたものとし、その結果
研磨層の耐久性を向上させ、被研磨面のスリキズを減少
させることができる。この低分子量ポリイソシアネート
化合物の添加量は、全結合剤の1〜60wt%が好まし
く、補強効果と液のポットライフから、特に10〜40
wt%が好ましい。また、この低分子量ポリイソシアネ
ート化合物の添加量は、前記結合剤としての塩化ビニル
系樹脂100部に対して20%以上、さらには30〜6
0%が好ましい。低分子ポリイソシアネート化合物とは
、イソシアネート基を複数布しているイソシアネート単
量体、およびそれらの多量体、あるいはそれら単量体ま
たは多量体と、たとえば前記多価アルコールのような化
合物とのアダクト体を包含する。イソシアネート単量体
として、たとえば、エタンジイソシアネート、2゜2.
4−トリメチルペンタンジイソシアネート、ω、ω′−
ジイソシアネートー1.3−ジメチルペンゾール、ω、
ω′−ジイソシアネートー1゜2−ジメチルシクロヘキ
サンジイソシアネート、ナフタリン−1,4−ジイソシ
アネート、トリフェニルメタン−4,4’ 、4” −
トリイソシアネート等が挙げられる。
と共に硬化作用を有するポリイソシアネートを添加剤と
して添加するのが望ましい。このポリイソシアネート、
例えばイソシアネート基を複数布する分子ff1150
〜2000の低分子ポリイソシアネート化合物を添加す
ることにより、研磨層内に三次元網目構造を形成せしめ
て研磨層を物理強度的に更に優れたものとし、その結果
研磨層の耐久性を向上させ、被研磨面のスリキズを減少
させることができる。この低分子量ポリイソシアネート
化合物の添加量は、全結合剤の1〜60wt%が好まし
く、補強効果と液のポットライフから、特に10〜40
wt%が好ましい。また、この低分子量ポリイソシアネ
ート化合物の添加量は、前記結合剤としての塩化ビニル
系樹脂100部に対して20%以上、さらには30〜6
0%が好ましい。低分子ポリイソシアネート化合物とは
、イソシアネート基を複数布しているイソシアネート単
量体、およびそれらの多量体、あるいはそれら単量体ま
たは多量体と、たとえば前記多価アルコールのような化
合物とのアダクト体を包含する。イソシアネート単量体
として、たとえば、エタンジイソシアネート、2゜2.
4−トリメチルペンタンジイソシアネート、ω、ω′−
ジイソシアネートー1.3−ジメチルペンゾール、ω、
ω′−ジイソシアネートー1゜2−ジメチルシクロヘキ
サンジイソシアネート、ナフタリン−1,4−ジイソシ
アネート、トリフェニルメタン−4,4’ 、4” −
トリイソシアネート等が挙げられる。
また、本発明においては、研磨塗液中に、上記の如き結
合剤と共に従来より普及しているクリーニングテープに
みられるように潤滑剤を添加剤として加え、研磨テープ
の走行の安定性を向上させることが望ましい。
合剤と共に従来より普及しているクリーニングテープに
みられるように潤滑剤を添加剤として加え、研磨テープ
の走行の安定性を向上させることが望ましい。
前記研磨材としては、従来のクリーニングテープに使用
されている研磨材より硬質の研磨材であるモース硬度6
以上のものが好ましく、特にモース硬度8以上のものが
好ましい。
されている研磨材より硬質の研磨材であるモース硬度6
以上のものが好ましく、特にモース硬度8以上のものが
好ましい。
このようなモース硬度の高いものとしては、例えば酸化
クロム(Cr z O3、モース硬度8.5)、酸化ア
ルミニウム(α−ALzO3,、モース硬度9)、炭化
ケイjl!(α−8i c、モース硬度9.5)等があ
るが、仕上げ研磨用としては、特に酸化クロムが適度な
硬度を有するため研磨性にも優れ被研磨面を傷付ける可
能性も少なく適当である。
クロム(Cr z O3、モース硬度8.5)、酸化ア
ルミニウム(α−ALzO3,、モース硬度9)、炭化
ケイjl!(α−8i c、モース硬度9.5)等があ
るが、仕上げ研磨用としては、特に酸化クロムが適度な
硬度を有するため研磨性にも優れ被研磨面を傷付ける可
能性も少なく適当である。
この研磨材16μ而〜0.1μm程度の粒子径のものが
好ましく、特に精度を要する最終仕上げ用としては、1
μ7FL〜0.1μm程麿0粒子径のものが好ましい。
好ましく、特に精度を要する最終仕上げ用としては、1
μ7FL〜0.1μm程麿0粒子径のものが好ましい。
前記の如き研磨材、結合剤、添加剤等から成る研磨塗液
により形成される研磨層2の厚みは、被研磨体が磁気ヘ
ッドである場合、その磁気ヘッドの形状、材質にもよる
が、この厚みが厚すぎると磁気ヘッドと研磨テープの接
触が悪くなるので50μm以下にするのが好ましい。
により形成される研磨層2の厚みは、被研磨体が磁気ヘ
ッドである場合、その磁気ヘッドの形状、材質にもよる
が、この厚みが厚すぎると磁気ヘッドと研磨テープの接
触が悪くなるので50μm以下にするのが好ましい。
また可撓性を有する支持体1としては、例えばポリエチ
レンテレフタレート(PET)、ポリエチレン−2,6
−ナフタレートが使用される。
レンテレフタレート(PET)、ポリエチレン−2,6
−ナフタレートが使用される。
つぎに実施例を挙げてさらに詳細に説明する。
〈実施例1〉
厚さ12μmのポリエチレンテレフタレート(PET)
支持体上に下記の組成の研磨塗液を5μmの厚さで塗布
し乾燥させて研磨テープを作成した。
支持体上に下記の組成の研磨塗液を5μmの厚さで塗布
し乾燥させて研磨テープを作成した。
なお、以下の説明において部はすべて重量部(固形分重
量)を示す。
量)を示す。
研磨塗液組成
・CrzOs ・・・・・
・ 300部(粒状、サイズ0.3μ、モース硬度8.
5)・塩化ビニル系樹脂 ・・・・・・5
5.7部(塩化ビニル87wt%、数平均分子@ 2.
6xlO’ 。
・ 300部(粒状、サイズ0.3μ、モース硬度8.
5)・塩化ビニル系樹脂 ・・・・・・5
5.7部(塩化ビニル87wt%、数平均分子@ 2.
6xlO’ 。
エポキシ基含有fi 3.5wt%、スルホン酸ソーダ
基含有量0.5wt%、前記wt%は、塩化ビニル系樹
脂重量に対するwt%である。) ・大豆レシチン ・・・・・・2.4
部・シリコーン油(ジメチルポリシロキサン)・・・・
・・0.1部 ・ポリイソシアネート ・・・・・・ 18
部(3モルの2.4−トリレンジイソシアネート化合物
と1モルのトリメチロールプロパンの反応生成物の75
wt%酢酸エチル溶液) ・メチルエチルケトン ・・・・・・400
部・トルエン ・・・・・・
400部〈実施例2〉 実施例1の研磨テープの研磨塗液組成においてポリイン
シアネートを除去し、塩化ビニル系樹脂の量を73.7
部に変更した研磨塗液を使用し、他は実施例1と同様の
方法で研磨テープを作成した。
基含有量0.5wt%、前記wt%は、塩化ビニル系樹
脂重量に対するwt%である。) ・大豆レシチン ・・・・・・2.4
部・シリコーン油(ジメチルポリシロキサン)・・・・
・・0.1部 ・ポリイソシアネート ・・・・・・ 18
部(3モルの2.4−トリレンジイソシアネート化合物
と1モルのトリメチロールプロパンの反応生成物の75
wt%酢酸エチル溶液) ・メチルエチルケトン ・・・・・・400
部・トルエン ・・・・・・
400部〈実施例2〉 実施例1の研磨テープの研磨塗液組成においてポリイン
シアネートを除去し、塩化ビニル系樹脂の量を73.7
部に変更した研磨塗液を使用し、他は実施例1と同様の
方法で研磨テープを作成した。
く比較例1〉
前記実施例に対する比較例として前記実施例1と略同様
の支持体上に下記の組成の研磨塗液を塗布し乾燥させて
研磨テープを作った。なお、本比較例1は特開昭53−
102017号公報に開示されたサンプル社24と同様
のものである。
の支持体上に下記の組成の研磨塗液を塗布し乾燥させて
研磨テープを作った。なお、本比較例1は特開昭53−
102017号公報に開示されたサンプル社24と同様
のものである。
研磨塗液組成
・ZnO・・・・・・ 300部
(サイズ120μm径、モース硬度4.5)・塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体・・・・・・34.7部(共重
合比87:13.重合度350)・ポリエステルポリオ
ール ・・・・・・ 21部(アジピン!!1モ
ルとジエチレングリコール1モルとトリメチロールプロ
パン0.0部モルの反応生成物 粘度(75℃) 10000 P 、比重1.18oH
価60、酸価〈2) ・大豆レシチン ・・・・・・2.4
部・シリコーン油(ジメチルポリシロキサン)・・・・
・・0.1部 ・ポリイソシアネート ・・・・・・ 18
部(3モルの2.4トリレンジイソシアネ一ト化合物と
1モルのトリメチロールプロパンの反応生成物の75w
t%酢酸エチル溶液) ・メチルエチルケトン ・・・・・・400
部φトルエン ・・・・・・
400部く比較例2〉 実施例1の研磨塗液組成において塩化ビニル系樹脂のエ
ポキシ基およびスルホン酸ソーダ基の含有mの塩化ビニ
ル系樹脂、重量に対する重量比を以下のように変化させ
た研磨塗液を使用し、他は実施例1と同様の方法で研磨
テープを作成した。
ル−酢酸ビニル共重合体・・・・・・34.7部(共重
合比87:13.重合度350)・ポリエステルポリオ
ール ・・・・・・ 21部(アジピン!!1モ
ルとジエチレングリコール1モルとトリメチロールプロ
パン0.0部モルの反応生成物 粘度(75℃) 10000 P 、比重1.18oH
価60、酸価〈2) ・大豆レシチン ・・・・・・2.4
部・シリコーン油(ジメチルポリシロキサン)・・・・
・・0.1部 ・ポリイソシアネート ・・・・・・ 18
部(3モルの2.4トリレンジイソシアネ一ト化合物と
1モルのトリメチロールプロパンの反応生成物の75w
t%酢酸エチル溶液) ・メチルエチルケトン ・・・・・・400
部φトルエン ・・・・・・
400部く比較例2〉 実施例1の研磨塗液組成において塩化ビニル系樹脂のエ
ポキシ基およびスルホン酸ソーダ基の含有mの塩化ビニ
ル系樹脂、重量に対する重量比を以下のように変化させ
た研磨塗液を使用し、他は実施例1と同様の方法で研磨
テープを作成した。
エポキシ基含有量 Qwt%スルホン酸ソ
ーダ基含有51 0.5wt%〈比較例3〉 実施例1の研磨塗液組成において塩化ビニル系樹脂のエ
ポキシ基およびスルホン酸ソーダ基の含有量の塩化ビニ
ル系樹脂重量に対する重量比を以下のように変化させた
研磨塗液を使用し、他は実施例1と同様の方法で研磨テ
ープを作成した。
ーダ基含有51 0.5wt%〈比較例3〉 実施例1の研磨塗液組成において塩化ビニル系樹脂のエ
ポキシ基およびスルホン酸ソーダ基の含有量の塩化ビニ
ル系樹脂重量に対する重量比を以下のように変化させた
研磨塗液を使用し、他は実施例1と同様の方法で研磨テ
ープを作成した。
エポキシ基含有量 3.5wt%スルホン酸
ソーダ基含有量 9wt%く比較例4〉 実施例1の研磨塗液組成において塩化ビニル系樹脂のエ
ポキシ基およびスルホン酸ソーダ基の含有量の塩化ビニ
ル系樹脂重量に対する重量比を以下のように変化させた
研磨塗液を使用し、他は実施例1と同様の方法で研磨テ
ープを作成した。
ソーダ基含有量 9wt%く比較例4〉 実施例1の研磨塗液組成において塩化ビニル系樹脂のエ
ポキシ基およびスルホン酸ソーダ基の含有量の塩化ビニ
ル系樹脂重量に対する重量比を以下のように変化させた
研磨塗液を使用し、他は実施例1と同様の方法で研磨テ
ープを作成した。
エポキシ基含有@ Qwt%スルホン酸
ソーダ基含有@ Qwt%前記実施例1.2と比
較例1,2,3.4の各研磨テープについてフェライト
製ビデオヘッドを研磨した後のヘッド表面傷の状態を調
べ、またパーマロイ製オーディオヘッドに接触させて、
そのヘッド表面の腐蝕の度合いを観察し腐蝕特性を調べ
たので、その結果を第1表に示す。
ソーダ基含有@ Qwt%前記実施例1.2と比
較例1,2,3.4の各研磨テープについてフェライト
製ビデオヘッドを研磨した後のヘッド表面傷の状態を調
べ、またパーマロイ製オーディオヘッドに接触させて、
そのヘッド表面の腐蝕の度合いを観察し腐蝕特性を調べ
たので、その結果を第1表に示す。
第1表において、ヘッド表面の傷はフェライト製ビデオ
ヘッドを各々の1iPl磨テープで1分間研磨した後そ
の被研磨面を顕微鏡でみて確認された幅2μm以上の傷
である。またヘッド腐蝕は、テープをヘッドに接触させ
たまま60℃、SO%R,H下で3日保った後、ヘッド
表面を観察したものである。
ヘッドを各々の1iPl磨テープで1分間研磨した後そ
の被研磨面を顕微鏡でみて確認された幅2μm以上の傷
である。またヘッド腐蝕は、テープをヘッドに接触させ
たまま60℃、SO%R,H下で3日保った後、ヘッド
表面を観察したものである。
第1表から、本実施例の研磨テープは比較例のそれと比
ベヘッド表面傷が大幅に減少しまたヘッド表面腐蝕も十
分に防止されていることがわかる。
ベヘッド表面傷が大幅に減少しまたヘッド表面腐蝕も十
分に防止されていることがわかる。
SO3M基は研磨材の分散性を向上させ、その結果研磨
材を研磨層に均一に分散させて被研磨面の傷つきを防止
するという作用をなし、エポキシ基は脱塩酸を防止し、
その結果脱塩酸による被研磨面の腐蝕、特に腐蝕されや
すいパーマロイ等から成る被研磨面の腐蝕を防止すると
いう作用をなす。
材を研磨層に均一に分散させて被研磨面の傷つきを防止
するという作用をなし、エポキシ基は脱塩酸を防止し、
その結果脱塩酸による被研磨面の腐蝕、特に腐蝕されや
すいパーマロイ等から成る被研磨面の腐蝕を防止すると
いう作用をなす。
前記実施例1.2はいずれも塩化ビニル系樹脂に一SO
3M基とエポキシ基との双方が含有されているものであ
り、いずれか一方の基のみを含有する比較例2.3と比
較してみると容易に理解される様に、本実施例において
はいずれか一方の基のみを有する場合よりもはるかに優
れたヘッドすり傷防止効果とヘッド腐蝕防止効果とが発
揮されている。つまり、 SO3M基とエポキシ基とは
協働してお互いの傷付き防止効果と腐蝕防止効果とを高
めあっており、本実施例における優れた傷付き防止およ
び腐蝕防止効果はこれら雨曇の組み合せによる効果であ
るということができる。
3M基とエポキシ基との双方が含有されているものであ
り、いずれか一方の基のみを含有する比較例2.3と比
較してみると容易に理解される様に、本実施例において
はいずれか一方の基のみを有する場合よりもはるかに優
れたヘッドすり傷防止効果とヘッド腐蝕防止効果とが発
揮されている。つまり、 SO3M基とエポキシ基とは
協働してお互いの傷付き防止効果と腐蝕防止効果とを高
めあっており、本実施例における優れた傷付き防止およ
び腐蝕防止効果はこれら雨曇の組み合せによる効果であ
るということができる。
この様な組合せ効果が生じる理由としては、SO3M基
の存在により研磨材の表面に塩化ビニル系樹脂が均一に
存在し、研磨層内において局部内に研磨材部と塩化ビニ
ル系樹脂部とが存在する事がなく、その為エポキシ基の
脱塩酸防止によるヘッド腐蝕防止効果がより向上せしめ
られるものと考えられ、またヘッド表面は脱塩酸により
傷付き易くなるが、エポキシ基による脱塩酸防止により
503MMの研磨材分数によるヘッド傷付き防止効果が
より向上せしめられるものと考えられる。
の存在により研磨材の表面に塩化ビニル系樹脂が均一に
存在し、研磨層内において局部内に研磨材部と塩化ビニ
ル系樹脂部とが存在する事がなく、その為エポキシ基の
脱塩酸防止によるヘッド腐蝕防止効果がより向上せしめ
られるものと考えられ、またヘッド表面は脱塩酸により
傷付き易くなるが、エポキシ基による脱塩酸防止により
503MMの研磨材分数によるヘッド傷付き防止効果が
より向上せしめられるものと考えられる。
本発明は、その要旨を越えない範囲において秒々変形可
能であり、上記実施例に限定されるものではない。また
、本発明に係る研磨テープは、実施例に示した細長いテ
ープ状のもに限らず、薄い円形基板上に研磨層を形成し
たディスク状のものも含むものである。
能であり、上記実施例に限定されるものではない。また
、本発明に係る研磨テープは、実施例に示した細長いテ
ープ状のもに限らず、薄い円形基板上に研磨層を形成し
たディスク状のものも含むものである。
(発明の効果)
本発明に係る研磨テープは、結合剤として用いる塩化ビ
ニル系樹脂として、 SO3MIとエポキシ基との双方
を有する塩化ビニル系樹脂を使用しているが、−8O3
Muの研磨材分散性向上によるヘッドすり傷防止効果と
エポキシ基の脱塩酸防止によるヘッド腐蝕防止効果とが
奏されると共に、両雄の存在による相乗効果によってそ
れらの効果は両雄がそれぞれ単独で存在する場合よりも
著るしく高められるという利点を有する。
ニル系樹脂として、 SO3MIとエポキシ基との双方
を有する塩化ビニル系樹脂を使用しているが、−8O3
Muの研磨材分散性向上によるヘッドすり傷防止効果と
エポキシ基の脱塩酸防止によるヘッド腐蝕防止効果とが
奏されると共に、両雄の存在による相乗効果によってそ
れらの効果は両雄がそれぞれ単独で存在する場合よりも
著るしく高められるという利点を有する。
図面は磁気ヘッドの研磨時における、本発明の一実施例
による研磨テープの拡大断面図である。 1・・・可撓性支持体 2・・・研 磨 層3
・・・研 磨 材 4・・・磁気ヘッド1、 事
件の表示 昭和61年特許願 第226.459 J!2、 発
明の名称 研磨テープ 3、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称 (
520)富士写真フィルム株式会社代!I者大西 實 4、代理人 住 所 東京都港区六本木5−2−1 はう
らいやピル7階6、補正の対象 明細書の「発明の詳
細な説明」の欄7、補正の内容 1)明細書第5頁第2行 r (OM)* Jを’ (OM ’)t Jと訂正す
る。
による研磨テープの拡大断面図である。 1・・・可撓性支持体 2・・・研 磨 層3
・・・研 磨 材 4・・・磁気ヘッド1、 事
件の表示 昭和61年特許願 第226.459 J!2、 発
明の名称 研磨テープ 3、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称 (
520)富士写真フィルム株式会社代!I者大西 實 4、代理人 住 所 東京都港区六本木5−2−1 はう
らいやピル7階6、補正の対象 明細書の「発明の詳
細な説明」の欄7、補正の内容 1)明細書第5頁第2行 r (OM)* Jを’ (OM ’)t Jと訂正す
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 可撓性を有する支持体上に研磨材および結合剤を含む研
磨塗液を塗布し、乾燥させて研磨層を形成して成る研磨
テープにおいて、 前記結合剤が、−SO_3M基(MはLi、Na、Kを
表わす)およびエポキシ基を有する塩化ビニル系樹脂を
含有していることを特徴とする研磨テープ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61226459A JPS6384879A (ja) | 1986-09-25 | 1986-09-25 | 研磨テ−プ |
US07/100,857 US4840842A (en) | 1986-09-25 | 1987-09-25 | Abrasive tape |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61226459A JPS6384879A (ja) | 1986-09-25 | 1986-09-25 | 研磨テ−プ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6384879A true JPS6384879A (ja) | 1988-04-15 |
JPH0575553B2 JPH0575553B2 (ja) | 1993-10-20 |
Family
ID=16845426
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61226459A Granted JPS6384879A (ja) | 1986-09-25 | 1986-09-25 | 研磨テ−プ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4840842A (ja) |
JP (1) | JPS6384879A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5126763A (en) * | 1990-04-25 | 1992-06-30 | Arkwright Incorporated | Film composite for electrostatic recording |
US5242965A (en) * | 1990-08-29 | 1993-09-07 | Chisso Corporation | Vinyl chloride resin composition |
JPH0628636A (ja) * | 1992-07-07 | 1994-02-04 | Sony Corp | 磁気ヘッドクリーニング装置 |
ES2124806T3 (es) * | 1993-03-22 | 1999-02-16 | Union Carbide Chem Plastic | Medios de registro magneticos. |
US5399413A (en) * | 1993-04-30 | 1995-03-21 | Rexham Graphics Inc. | High performance composite and conductive ground plane for electrostatic recording of information |
JPH08112769A (ja) * | 1994-10-14 | 1996-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テープ |
US6212726B1 (en) | 1998-05-18 | 2001-04-10 | Technology Creations, Inc. | Apparatus for cleaning a computer mouse device |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5712411A (en) * | 1980-06-24 | 1982-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Cleaning tape |
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JPS595423A (ja) * | 1982-07-01 | 1984-01-12 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
US4600521A (en) * | 1984-10-09 | 1986-07-15 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Electron-beam reactive magnetic coating composition for magnetic recording media |
JPS6190327A (ja) * | 1984-10-09 | 1986-05-08 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
US4707410A (en) * | 1985-09-11 | 1987-11-17 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Magnetic recording media |
JPH0632906B2 (ja) * | 1985-10-18 | 1994-05-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気ヘッド研磨用研磨テープ |
JPS6294269A (ja) * | 1985-10-18 | 1987-04-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テ−プ |
JPS6294267A (ja) * | 1985-10-18 | 1987-04-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テ−プ |
-
1986
- 1986-09-25 JP JP61226459A patent/JPS6384879A/ja active Granted
-
1987
- 1987-09-25 US US07/100,857 patent/US4840842A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4840842A (en) | 1989-06-20 |
JPH0575553B2 (ja) | 1993-10-20 |
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