JPS638294A - 気相法によるダイヤモンド合成法 - Google Patents
気相法によるダイヤモンド合成法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は有機炭素化合物から気相法でダイヤモンドを合
成する方法に関する。
成する方法に関する。
ダイヤモンド合成には黒鉛を超高圧下でダイヤモンドに
変換する方法と炭化水素等のガスを加熱でプラズマ等の
エネルギーで励起し、そのガスからダイヤモンドを析出
させるいわゆる気相法ダイヤモンド合成法がある。前者
は主として粒状のダイヤモンドが得られ、後者が微粒子
状あるいは膜状のダイヤモンドが得られる。
変換する方法と炭化水素等のガスを加熱でプラズマ等の
エネルギーで励起し、そのガスからダイヤモンドを析出
させるいわゆる気相法ダイヤモンド合成法がある。前者
は主として粒状のダイヤモンドが得られ、後者が微粒子
状あるいは膜状のダイヤモンドが得られる。
従来の技術
気相法ダイヤモンド合成で従来発表されているものはガ
スは殆んどメタン、エタン等炭化水素と水素ガスの混合
ガスを用いている。このガスの励起には各種の方法があ
り、大別すると加熱フィラメントを用いる方法(特開昭
59−91100) 、マイクロ波による方法(特開昭
59−3098 ) 、高周波による方法(特開昭58
−135117 )があり、その他特殊なものとしては
グロー放電、アーク放電、スパッタリング法、イオンビ
ーム法、紫外線照射などがある。
スは殆んどメタン、エタン等炭化水素と水素ガスの混合
ガスを用いている。このガスの励起には各種の方法があ
り、大別すると加熱フィラメントを用いる方法(特開昭
59−91100) 、マイクロ波による方法(特開昭
59−3098 ) 、高周波による方法(特開昭58
−135117 )があり、その他特殊なものとしては
グロー放電、アーク放電、スパッタリング法、イオンビ
ーム法、紫外線照射などがある。
発明が解決しようとする問題点
マイクロ波や高周波によるプラズマ発生はガスの圧力範
囲がaTorr〜100 Torr程度とかなり減圧に
しなければならない、また安定なプラズマ状態を保つの
がむづかしい、さらにプラズマ化している空間が狭いの
で広い面積に亘って析出させることができない。そして
ダイヤモンドの析出速度も遅い。
囲がaTorr〜100 Torr程度とかなり減圧に
しなければならない、また安定なプラズマ状態を保つの
がむづかしい、さらにプラズマ化している空間が狭いの
で広い面積に亘って析出させることができない。そして
ダイヤモンドの析出速度も遅い。
加熱フィラメント法も減圧下で行なわれており、またダ
イヤモンドの析出速度も0.1〜l gmと遅い。
イヤモンドの析出速度も0.1〜l gmと遅い。
気相法によるダイヤモンド合成では、いずれの方法でも
、Siなどの何らかの基板を用いるかあるいはダイヤモ
ンドの種子の上に析出させることが必要であるが、いず
れの場合も従来の方法では析出速度が遅く、また析出面
積も小さい。
、Siなどの何らかの基板を用いるかあるいはダイヤモ
ンドの種子の上に析出させることが必要であるが、いず
れの場合も従来の方法では析出速度が遅く、また析出面
積も小さい。
本発明はガスの励起方法について種々研究した結果到達
したもので、その目的はダイヤモンドの析出速度を早め
、かつ析出面積の大きなものでも可能にすること、操作
も容易である等から常圧付近でも析出ができるようにす
ることにある。
したもので、その目的はダイヤモンドの析出速度を早め
、かつ析出面積の大きなものでも可能にすること、操作
も容易である等から常圧付近でも析出ができるようにす
ることにある。
問題点を解決するための手段
本発明はダイヤモンド合成において ガスの励起方法と
して従来知られていなかった無声放電を利用することを
特徴とする。
して従来知られていなかった無声放電を利用することを
特徴とする。
無声放電はオゾンをつくる際に用いられる放電方法で、
先の尖った電極を少なくとも一方に用い、高電圧下で放
電させるが、音が出ないことからこの名があり、アーク
放電やグロー放電とは区別される。
先の尖った電極を少なくとも一方に用い、高電圧下で放
電させるが、音が出ないことからこの名があり、アーク
放電やグロー放電とは区別される。
本発明はこの無声放電を用いて有機炭素化合物及びキャ
リアガスを励起し、これを所定の温度に加熱した基板、
ダイヤモンド種子等の表面に導いて、そこでダイヤモン
ドとして析出させる方法である。
リアガスを励起し、これを所定の温度に加熱した基板、
ダイヤモンド種子等の表面に導いて、そこでダイヤモン
ドとして析出させる方法である。
使用される有機炭素化合物としてはメタン、エタン等の
&化水素、アセトン、アルコール等の含酸素有機化合物
、アミン等の含窒素有機化合物、メルカプタン等の硫黄
を含む有機化合物、クロロメタン等の塩素を含む有機化
合物などである。この中では特にアセトンやアルコール
等の含酸素有機化合物がダイヤモンドの析出速度が大き
く好ましい。
&化水素、アセトン、アルコール等の含酸素有機化合物
、アミン等の含窒素有機化合物、メルカプタン等の硫黄
を含む有機化合物、クロロメタン等の塩素を含む有機化
合物などである。この中では特にアセトンやアルコール
等の含酸素有機化合物がダイヤモンドの析出速度が大き
く好ましい。
キャリアガスは主として水素ガスであり、またこれにア
ルゴン等の不活性ガスを混合したものが適する。
ルゴン等の不活性ガスを混合したものが適する。
有機炭素化合物とキャリアガスの混合ガス中における有
機炭素化合物の濃度は0.01〜30容量%が適当であ
る。
機炭素化合物の濃度は0.01〜30容量%が適当であ
る。
本発明において有機炭素化合物とキャリアゴスとは混合
後無声放電で励起してもよく、また励起後ダイヤモンド
の析出面上で混合してもよい、特に後者の場合は放電の
条件を別々に行なうことができるので、夫々最適の条件
を選ぶことができるなど無声放電の制御には都合がよい
。
後無声放電で励起してもよく、また励起後ダイヤモンド
の析出面上で混合してもよい、特に後者の場合は放電の
条件を別々に行なうことができるので、夫々最適の条件
を選ぶことができるなど無声放電の制御には都合がよい
。
以下図面を参考に具体的に本発明を説明する。
第1図はH2とCH4の混合ガスを無声放電で励起する
状態を示す概略断面図、第2図は基板にダイヤモンドを
析出させる状態を示す概略断面図である。図において1
は石英管(以下「励起管」という)でその中に電極とな
るタングステン棒3が石英管2の中に挿入配置されてい
る。励起管の外側には電極となる円筒状銅箔4が設けら
れている。
状態を示す概略断面図、第2図は基板にダイヤモンドを
析出させる状態を示す概略断面図である。図において1
は石英管(以下「励起管」という)でその中に電極とな
るタングステン棒3が石英管2の中に挿入配置されてい
る。励起管の外側には電極となる円筒状銅箔4が設けら
れている。
電極3と4間には高電圧5が印加される。ガスは励起管
の上部の入口6より導入され、無声放電帯域(両電極間
)で励起される。励起されたガスは、例えばH2とCH
4の混合ガスの場合、原子状水素、水素イオン、メチル
ラジカル等を含む励起状態になっている。
の上部の入口6より導入され、無声放電帯域(両電極間
)で励起される。励起されたガスは、例えばH2とCH
4の混合ガスの場合、原子状水素、水素イオン、メチル
ラジカル等を含む励起状態になっている。
この励起管を用いてダイヤモンドを析出させるには1例
として第2図のように構成する。図では励起管は2未配
列したものであるが、さらに多く配列することも可能で
ある。励起管の1例は第1図に示すが、これを用いて有
機炭素化合物とキャリアガスの混合ガスを励起してもよ
いが、各励起管で有機炭素化合物とキャリアガスを別々
に励起し、これを交互に配列するなどの方法も可能であ
る。第2図で7は基板でヒーター8により所定の温度に
加熱される。9はこれら全体を囲む反応容器である。基
板7はシリコン、モリブデン、タンタル、タングステン
などの金属板、炭化珪素、窒化チタン、石英、窒化アル
ミなどのセラミック板などを用いることができる。さら
にダイヤモンドの種子や炭化珪素の粒子の上にダイヤモ
ンドを析出成長させることもできる。
として第2図のように構成する。図では励起管は2未配
列したものであるが、さらに多く配列することも可能で
ある。励起管の1例は第1図に示すが、これを用いて有
機炭素化合物とキャリアガスの混合ガスを励起してもよ
いが、各励起管で有機炭素化合物とキャリアガスを別々
に励起し、これを交互に配列するなどの方法も可能であ
る。第2図で7は基板でヒーター8により所定の温度に
加熱される。9はこれら全体を囲む反応容器である。基
板7はシリコン、モリブデン、タンタル、タングステン
などの金属板、炭化珪素、窒化チタン、石英、窒化アル
ミなどのセラミック板などを用いることができる。さら
にダイヤモンドの種子や炭化珪素の粒子の上にダイヤモ
ンドを析出成長させることもできる。
無声放電の条件は励起管の太さ等によって変るが、電極
間層#3〜20mmで電圧5〜15KVが適当である。
間層#3〜20mmで電圧5〜15KVが適当である。
ガスの圧力は50mmHg以上から常圧以上、例えば+
000+mHgでも可能である。励起されているガスの
温度は室温〜500°Cにあるのが好ましい。
000+mHgでも可能である。励起されているガスの
温度は室温〜500°Cにあるのが好ましい。
ダイヤモンドを析出させる基板等の温度は従来の方法と
変りなく、200〜900°Cの範囲が好ましい。基板
の位置は励起管の先端から0.5〜20mm位離したと
ころがよい。
変りなく、200〜900°Cの範囲が好ましい。基板
の位置は励起管の先端から0.5〜20mm位離したと
ころがよい。
本発明によって得られるダイヤモンドは基板上に析出さ
せた膜状物、あるいはダイヤモンドの種子や炭化珪素粒
子の上に析出させた粒状物である。膜状のものは基材に
被覆して耐摩耗性部材、研摩材などに利用でき、粒状の
ものは研摩材等に利用することかでさる。
せた膜状物、あるいはダイヤモンドの種子や炭化珪素粒
子の上に析出させた粒状物である。膜状のものは基材に
被覆して耐摩耗性部材、研摩材などに利用でき、粒状の
ものは研摩材等に利用することかでさる。
実施例1
原料ガスとしてアセトン濃度1容量%の水素ガスを用い
、第2図に示すような励起管2本を用いてダイヤモンド
を基板上に析出させた。ガスの流量は 1oocc/分
(標準状態)とし、内容圧は 100Tarrとした。
、第2図に示すような励起管2本を用いてダイヤモンド
を基板上に析出させた。ガスの流量は 1oocc/分
(標準状態)とし、内容圧は 100Tarrとした。
励起管は直径20mm、電極4の長さは40fflI1
1である。基板はシリコンウェハーを用い、その位置は
励起管先端中心の電極先端の下方的3mmである。
1である。基板はシリコンウェハーを用い、その位置は
励起管先端中心の電極先端の下方的3mmである。
AC電圧8000〜9000Vを電極間に印加し、無声
放電を行なった。この電圧で約0.1〜1 mAの放電
電流があった。基板はヒーターの加熱により 650℃
とした。また基板は0.1rpmで回転させ、基板に均
等に析出させるようにした。基板からの放射熱及び無声
放電により放電部分のガスの温度は約200℃になった
。
放電を行なった。この電圧で約0.1〜1 mAの放電
電流があった。基板はヒーターの加熱により 650℃
とした。また基板は0.1rpmで回転させ、基板に均
等に析出させるようにした。基板からの放射熱及び無声
放電により放電部分のガスの温度は約200℃になった
。
上の条件で1時間継続操作したところシリコンウェハー
の上に厚さ4pmの析出物を得た。この析出物は光学顕
微鏡、ラマンスペクトル、電子線内 回折の結果自形の面のよく現われている良質のダイヤモ
ンドであることが確認された。
の上に厚さ4pmの析出物を得た。この析出物は光学顕
微鏡、ラマンスペクトル、電子線内 回折の結果自形の面のよく現われている良質のダイヤモ
ンドであることが確認された。
実施例2
第2図の装置を用い、一方の励起管にはメタンガス、他
方には水素ガスを流した。流量はメタンガス lcc/
分(標準状態)、水素ガスは1oocc/分(標準状態
)である、電圧はメタン励起管が5〜l0KV、水素側
が8〜l0KVである。その他の条件は実施例1と同様
である。基板は実施例と同様に回転させた。
方には水素ガスを流した。流量はメタンガス lcc/
分(標準状態)、水素ガスは1oocc/分(標準状態
)である、電圧はメタン励起管が5〜l0KV、水素側
が8〜l0KVである。その他の条件は実施例1と同様
である。基板は実施例と同様に回転させた。
上の状態で1時間継続操作したところ厚さ2p−vaの
析出物を得た。実施例1と同様の分析を自 したところ自形面がはっきり現れたダイヤモンドである
ことが確認された。
析出物を得た。実施例1と同様の分析を自 したところ自形面がはっきり現れたダイヤモンドである
ことが確認された。
実施例3
励起管を直径10mmと細くし、内圧を780Torr
とし、基板と励起管の中心電極先端との距離を 1mf
f1とした外は実施i罎同様にして行なったが、結果は
実施例1と同様であった。
とし、基板と励起管の中心電極先端との距離を 1mf
f1とした外は実施i罎同様にして行なったが、結果は
実施例1と同様であった。
発明の効果
本発明は無声放電という全く新しい方法によりガスを励
起し、ダイヤモンドを生成させることに成功したもので
ある。この方法によれば低圧ばかりでなく常圧付近でも
可能であり、操作がし易いばかりでなく、グイ、ヤモン
ドの析出速度も大である。
起し、ダイヤモンドを生成させることに成功したもので
ある。この方法によれば低圧ばかりでなく常圧付近でも
可能であり、操作がし易いばかりでなく、グイ、ヤモン
ドの析出速度も大である。
本発明において励起管を多数使用すれば大きな面積の部
分に析出させることができる。
分に析出させることができる。
第1図は無声放電によるガスの励起方法を示す断面図、
第2はこの励起によりダイヤモンドを析出させる状態を
示す断面図である。 l、2・・・・・・石英管、3・・・・・・タングステ
ン棒4・・・・・・銅箔、7・・・・・・基板、8・・
・・・・ヒーター9・・・・・・反応容器、10・・・
・・・排出口11・・・・・・ガス導入口
第2はこの励起によりダイヤモンドを析出させる状態を
示す断面図である。 l、2・・・・・・石英管、3・・・・・・タングステ
ン棒4・・・・・・銅箔、7・・・・・・基板、8・・
・・・・ヒーター9・・・・・・反応容器、10・・・
・・・排出口11・・・・・・ガス導入口
Claims (3)
- (1)有機炭素化合物と水素ガス等のキャリアガスとか
ら気相法によりダイヤモンドを合成する方法において、
有機炭素化合物とキャリアガスを無声放電で励起するこ
とを特徴とするダイヤモンド合成法。 - (2)有機炭素化合物とキャリアガスとの混合ガスを無
声放電で励起する特許請求の範囲第1項記載のダイヤモ
ンド合成法。 - (3)有機炭素化合物とキャリアガスとを別々に無声放
電で励起した後混合する特許請求の範囲第1項記載のダ
イヤモンド合成法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14701486A JPS638294A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 気相法によるダイヤモンド合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14701486A JPS638294A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 気相法によるダイヤモンド合成法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS638294A true JPS638294A (ja) | 1988-01-14 |
Family
ID=15420593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14701486A Pending JPS638294A (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 気相法によるダイヤモンド合成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS638294A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01164796A (ja) * | 1987-12-19 | 1989-06-28 | Fujitsu Ltd | ダイヤモンド膜の合成法 |
-
1986
- 1986-06-25 JP JP14701486A patent/JPS638294A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01164796A (ja) * | 1987-12-19 | 1989-06-28 | Fujitsu Ltd | ダイヤモンド膜の合成法 |
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