JPS6382472A - 感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 塵ｌよΩ郵月分野 本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有する感光体に
関する。

従来技術 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、電子写真用感光体にも様々な材料が開発さ
れ実用化されてきた。

従来用いられて来た電子写真感光体材料の主なものとし
ては、非晶質セレン、セレン砒素、セレンテルル、硫化
カドミウム、酸化亜鉛、アモルファスシリコン等の無機
物質、ポリビニルカルバゾール、全屈フタロシアニン、
ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン顔料、トリフ
ェニルメタン化合物、トリフェニルアミン化合物、ヒド
ラゾン化合物、スチリル化合物、ピラゾリン化合物、オ
キサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、等の有機
物質が挙げられる。また、その構成形態としては、これ
らの物質を単体で用いる単層型構成、結着材中に分散さ
せて用いるバインダー型構成、機能別に電荷発生層と電
荷輸送層とを設ける積層型構成等が挙げられる。

しかしながら、従来用いられて来た電子写真感光体材料
にはそれぞれ欠点があった。その一つとして人体への有
害性が挙げられるが、前述したアモルファスシリコンを
除く無機物質においては、何れも好ましくない性質を持
つものであった。また、電子写真感光体が実際に複写機
内で用いられるためには、帯電、露光、現像、転写、除
電、清掃等の苛酷な環境条件に曝された場合においても
、常に安定な性能を維持している必要があるが、前述し
た有機物質においては、何れも耐久性に乏しく、性能面
での不安定要素が多かった。

このような欠点を解消すべく、近年、有害性を改善し耐
久性に富んだ材料として、グロー放電法により生成され
るアモルファスシリコンの電子写真感光体への応用が進
んで来ている。しかし、アモルファスシリコンは、原料
としてシランガスを多量に必要とする反面、高価なガス
であることから、出来上がった電子写真感光体も従来の
感光体に比べ大幅に高価なものとなる。また、成膜速度
が遅く、成膜時間の増大に伴い爆発性を有するシラン未
分解生成物を粉塵状に発生する等、生産上の不都合も多
い。また、この粉塵が製造時に感光層中に混入した場合
には、画像品質に著しく悪影響を及ぼす。さらに、アモ
ルファスシリコンは、元来、比誘電率が高いため帯電性
能が低く、複写機内で所定の表面電位に帯電するために
は膜厚を厚くする必要があり、高価なアモルファスシリ
コン族を長時間堆積きせなくてはならない。

ところでアモルファスカーボン膜自体は、プラズマ有閑
重合膜として古くより知られており、例えばジエン（Ｍ
、５ｈｅｎ）及びベル（Ａ、Ｔ。

Ｂｅ１ｌ）により、１９７３年発行ののジャーナル・オ
ブ・アプライド・ポリマー・サイエンス（Ｊｏｕｒｎａ
ｌ　　ｏｆ　　Ａｐｐｌｉｅｄ　　Ｐ。

ｌｙｍｅｒ　　５ｃｉｅｎｃｅ）第１７巻の第８８５頁
乃至第８９２頁において、あらゆる有機化合物のガスか
ら作製され得る事が、また、同著者により、１９７９年
のアメリカンケミカルソサエティー　（Ａｍｅｒ　１ｃ
ａｎ　　Ｃｈｅｍｉｃａ　ｌ５ｏｃｉｅｔｙ）発行によ
るプラズマボリマライゼーション（Ｐｌａｓｍａ　　Ｐ
ｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）の中でもその成膜性が論
じられている。

しかしながら従来の方法で作製したプラズマ有機重合膜
は絶縁性を前提とした用途に限って用いられ、即ちそれ
らの膜は通常のポリエチレン膜の如＜１０！６ΩＣｍ程
度の比抵抗を有する絶縁膜と考えられ、或は、少なくと
もそのような膜であるとのＤ　識のもとに用いられてい
た。実際に電子写真感光体への用途にしても同様の認識
から、保護層、接着層、ブロッキング層もしくは絶縁層
に限られており、所謂アンダーコート層もしくはオーバ
ーコート層としてしか用いられていなかった。

例えば、特開昭５９−２８１６１号公報には、基板上に
ブロッキング層及び接着層としてプラズマ重合された網
目構造を有する高分子層を設け、その上にアモルファス
シリコン層を設けた感光体が開示されている。特開昭５
９−３８７５３号公報には、基板上にブロッキング層及
び接着層として酸素と窒紫と炭化水素の混合ガスから生
成される１０１３〜１０１らΩｃｍの高抵抗のプラズマ
重合膜を１０人〜１００人設けた上にアモルファスシリ
コン層を設けた感光体が開示されている。特開昭５９−
１３６７４２号公報には、アルミ基板上に設けたアモル
ファスシリコン層内へ光照射時にアルミ原子が拡散する
のを防止するための保護層として１〜５μｍ程度の炭素
膜を基板表面に形成せしめた感光体が開示されている。

特開昭６０−６３５４１号公報には、アルミ基板とその
上に設けたアモルファスシリコン層との接着性を改善す
るために、接着層として２００人〜２μｍのダイヤモン
ド状炭素膜を中間に設けた感光体が開示され、残留電荷
の面から膜厚は２μｍ以下が好ましいとされている。

これらの開示は、何れも基板とアモルファスシリコン層
との間に、所謂アンダーコート層を設けた発明であり、
電荷輸送性についての開示は全くなく、また、ａ−３ｉ
の有する前記した本質的問題を解決するものではない。

また、例えば、特開昭５０−２０７２８号公報には、ポ
リビニルカルバゾール−セレン系感光体の表面に保護層
としてグロー放電重合によるポリマー股を０．１〜１μ
ｍ設けた感光体が開示されている。特開昭５９−２１４
８５９号公報には、アモルファスシリコン感光体の表面
に深謀層としてスチレンやアセチレン等の有機炭化水素
モノマーをプラズマ重合させて５μｍ程度の膜を形成き
せる技術が開示されている。特開昭６０−６１７６１号
公報には、表面保護層として、５００Ａ〜２μｍのダイ
ヤモンド状炭素薄膜を設けた感光体が開示され、透光性
の面から膜厚は２μｍ以下が好ましいとされてている。

特開昭６０−２４９１１５号公報には、０．０５〜５ｕ
ｍ程度の無定形炭素または硬質炭素膜を表面保護だとし
て用いる技術が開示され、膜厚が５μｍを越えると感光
体活性に悪影響が及ぶとされている。

これらの開示は、何れも感光体表面に所謂オーバーコー
ト層を設けた発明であり、電荷輸送性についての開示は
全くなく、また、ａ−Ｓｉの有する前記した本質的問題
を解決するものではない。

また、特開昭５１−４６１３０号公報には、ポリビニル
カルバゾール系電子写真感光体の表面にグロー放電重合
を行なって０．００１〜３μｍのポリマー膜を形成せし
めた電子写真感光板が開示されているが、電荷輸送性に
ついては全く言及されていないし、ａ−３ｉの持つ前記
した本質的問題を解決するものではない。

一方、アモルファスシリコン膜については、スピア（Ｗ
、Ｅ、５ｐｅａｒ）及びレコンバ（Ｐ。

Ｇ、ＬｅＣｏｍｂｅｒ）により１９７６年発行のフィロ
ソフィカル・マガジン（Ｐｈｉｌｏｓｏｐｈｉｃａｌ　
　Ｍａｇａｚｉｎｅ）第３３巻の第９３５頁乃至第９４
９頁において、極性制御が可能な材料である事が報じら
れて以来、征々の充電デバイスへの応用が試みられて来
た。感光体への応用に関しては、例えば、特開昭５６−
６２２５４号公報、特開昭５７−１１９３５６号公報、
特開昭５７−１７７１４７号公報、特開昭５７−１１９
３５７号公報、特開昭５７−１７７１４９号公報、特開
昭５７−１１９３５７号公報、特開昭５７−１７７１４
６号公報、特開昭５７−１７７１４８号公報、特開昭５
７−１７４４４８号公報、特開昭５７−１７４４４９号
公報、特開昭５７−１７４４５０号公報、等に、炭素原
子を含有したアモルファスシリコン感光体が開示されて
いるが、何れもアモルファスシリコンの光導電性を炭素
原子により調整する事を目的としたものであり、また、
アモルファスシリコン自体厚い膜を必要としている。

６口が解トしようとする問題Φ 以上のように、従来、電子写真感光体に用いられている
プラズマ有機重合膜は所謂アンダーコート層もしくはオ
ーバーコート層として使用されていたが、それらはキャ
リアの輸送機能を必要としない膜であって、有８１重合
膜が絶縁性で有るとの判断にたって用いられている。従
ってその膜厚も高々５Ｌ１ｍ程度の極めて薄い膜として
しか用いられず、キャリアはトンネル効果で膜中を通過
するか、トンネル効果が期待できない場合には、残留電
位の発生に関して事実上間顕にならずに済む程度の薄い
膜でしか用いられていない。また、従来、電子写真に用
いられているアモルファスシリコン膜は所謂厚膜で使用
されており、価格或は生産性等に、不都合な点が多い。

本発明者らは、アモルファスカーボン膜の電子写真感光
体への応用を検討しているうちに、本来絶縁性であると
考えられていた水素化アモルファスカーボン膜が膜中に
ハロゲン原子を含有せしめる事により、燐原子及び硼素
原子のうち少なくとも一方を含有すると共に窒素原子を
含有してなる水素化或は弗素化アモルファスシリコンゲ
ルマニウム膜との積層においては電荷輸送性を有し、容
易に好適な電子写真特性を示し始める事を見出した。そ
の理論的解釈には本発明者においても不明確な点が多く
詳細に亙り言及はできないが、ハロゲン原子含有水素化
アモルファスカーボン膜中に捕捉されている比較的不安
定なエネルギー状態の電子、例えばπ電子、不対電子、
残存フリーラジカル等が形成するバンド構造が、燐原子
及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有すると共に窒
素原子を含有してなる水素化或は弗素化アモルファスシ
リコンゲルマニウム膜が形成するバンド構造と電導帯も
しくは荷電子帯において近似したエネルギー準位を有す
るため、燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含
有すると共に窒素原子を含有してなる水素化或は弗素化
アモルファスシリコンゲルマニウム膜中で発生したキャ
リアが容易にハロゲン原子含有水素化アモルファスカー
ボン膜中へ注入され、さらに、このキャリアは前述の比
較的不安定なエネルギー状態の電子の作用によりハロゲ
ン原子含有水素化アモルファスカーボン膜中を好適に走
行し得るためと推定きれる。

本発明はその新たな知見を利用することにより、アモル
ファスシリコン感光体の持つ前述の如き本質的問題点を
全て解消し、また従来とは全く使用目的も特性も異なる
、有機プラズマ重合膜、特に少なくともハロゲン原子を
含有してなる水素化アモルファスカーボン膜を電荷輸送
層として使用し、かつ、燐原子及び硼素原子のうち少な
くとも一方を含有すると共に窒素原子を含有してなる水
素化或は弗素化アモルファスシリコンゲルマニウムの薄
膜を電荷発生層として使用した感光体を提供する事を目
的とする。

２題点を解決するための 即ち、本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有する１
３Ｍ能分離型感光体において、該電荷輸送層がプラズマ
重合反応から生成される少なくともハロゲン原子を含有
する水素化アモルファスカーボン膜であり、かつ、該電
荷発生層が燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を
含有すると共に窒素原子を含有してなる水素化或は弗素
化アモルファスシリコンゲルマニウム膜であることを特
徴とする感光体に関する（以下、本発明による電荷輸送
層をａ−Ｃ膜及び電荷発生層をａ−５ｉ膜と称する）。

本発明は、従来のアモルファスシリコン感光体において
は、電荷発生層として優れた機能を有するアモルファス
シリコンを、電荷発生能が無くても電荷輸送能きえあれ
ば済む電荷輸送層としても併用していたため発生してい
たこれらの問題点を解決すべく成きれたものである。

即ち、本発明は、電荷輸送層としてグロー放電により生
成される少なくともハロゲン原子を含有してなる水素化
アモルファスカーボン膜を設け、かつ、電荷発生層とし
て同じくグロー放電により生成される燐原子及び硼素原
子のうち少なくとも一方を含有すると共に窒素原子を含
有してなる水素化或は弗素化アモルファスシリコンゲル
マニウム膜を設けた事を特徴とする機能分離型感光体に
関する。該電荷輸送層は、可視光もしくは半導体レーザ
ー光付近の波長の光に対しては明確なる光導電性は有き
ないが、好適な輸送性を有し、さらに、帯電能、耐久性
、耐候性、耐環境汚染性等の電子写真感光体性能に優れ
、しかも透光性にも優れるため、機能分離型感光体とし
ての積層構造を形成する場合においても極めて高い自由
度が得られるものである。また、該電荷発生層は、可視
光もしくは半導体レーザー光付近の波長の光に対して優
れた光導電性を有し、しかも従来のアモルファスシリコ
ン感光体に比べて極めて薄い膜厚で、その機能を活かす
事ができるものである。

本発明においては、ａ−Ｃ膜を形成するために有し素化
合物ガス、特に炭化水素ガスが用いられる。

該炭化水素における相状態は常温常圧において必ずしも
気相である必要はなく、加熱或は減圧等により溶融、蒸
発、昇華等を経て気化しうるものであれば、液相でも固
相でも使用可能である。

使用可能な炭化水素には８類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デ
カン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカ
ン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オク
タデカン、ノナデカン、エイコサン、ヘンエイコサン、
トコサン、トリコサン、テトラコサン、ペンタコサン、
ヘキサコサン、ヘプタコサン、オクタコサン、ノナコサ
ン、トリアコンタン、トドリアコンタン、ペンタトリア
コンタン、等のノルマルパラフィン並びに、イソブタン
、イソペンタン、ネオペンタン、イソヘキサン、ネオヘ
キサン、２．３−ジメチルブタン、２−メチルヘキサン
、３−エチルペンタン、２．２−ジメチルペンタン、２
．４−ジメチルペンタン、３．３−ジメチルペンタン、
トリブタン、２−メチルへブタン、３−メチルへブタン
、２．２−ジメチルヘキサン、２，２．５−ジメチルヘ
キサン、２．２．３−トリメチルペンタン、２．２．４
−トリメチルペンタン、２，３゜３−トリメチルペンタ
ン、２，３．４−トリメチルペンタン、イソナノン、等
のイソパラフィン、等が用いられる。不飽和炭化水素と
しては、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン
、１−ブテン、２−ブテン、１−ペンテン、２−ペンテ
ン、′２−メチルー１−ブテン、３−メチル−１−ブテ
ン、２−メチル−２−ブテン、１−ヘキセン、テトラメ
チルエチレン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネ
ン、１−デセン、等のオレフィン、並びに、アレン、メ
チルアレン、ブタジェン、ペンタジェン、ヘキサジエン
、シクロペンタジェン、等のジオレフィン、並びに、オ
シメン、アロオシメン、ミルセン、ヘキサトリエン、等
のトリオレフイン、並びに、アセチレン、ブタジイン、
１゜３−ペンタジイン、２，４−へキサジイン、メチル
アセチレン、１−ブチン、２−ブチン、１−ペンチン、
１−ヘキシン、１−ヘプチン、１−オクチン、１−ノニ
ン、１−デシン、等が用いられる。

脂環式炭化水雷としては、例えば、シクロプロパン、シ
クロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
へブタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカ
ン、シクロウンデカン、シクロドデカン、シクロトリデ
カン、シクロテトラデカン、シクロペンタジェン、シク
ロテトラデカン、等のシクロパラフィン並びに、シクロ
プロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキ
セン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン
、シクロデセン、等のシクロオレフィン並びに、リモネ
ン、テルビルン、フエランドレン、シルベストレン、ツ
エン、カレン、ピネン、ボルニレン、カンフエン、フエ
ンチェン、シクロウンデカン、トリシクレン、ビサボレ
ン、ジンギベレン、クルクメン、フムレン、カジネンセ
スキベニヘン、セリネン、カリオフィレン、サンタレン
、セドレン、カンホレン、フィロクラテン、ボドカルブ
レン、デシン、等のテルペン並びに、ステロイド等が用
いられる。芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン
、トルエン、キシレン、ヘミメンテン、プソイドクメン
、メシチレン、プレニテン、イソジュレン、ジュレン、
ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチル
ベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ビフ
ェニル、テルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェニ
ルメタン、ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフタ
リン、テトラリン、アントラセン、フェナントレン、等
が用いられる。

ざらに、炭化水素以外でも、例えば、アルコール類、ケ
トン類、エーテル類、エステル類、等炭紫と成りうる化
合物であれば使用可能である。

本発明におけるａ　−Ｃ膜中に含まれる水素原子の量は
グロー放電を用いるというその製造面から必然的に定ま
るが、炭素原子と水素原子の総量に対して、概ね３０乃
至６０原子％含有される。ここで、炭素原子並びに水素
原子の膜中含有量は、有機元素分析の常法、例えばＯＮ
Ｈ分析を用いる事により知る事ができる。

本発明におけるａ　−Ｃ膜中に含まれる水素原子の量は
、成膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化するが
、例えば、基板温度を高くする、圧力を低くする、原料
炭化水素ガスの希釈率を低くする、印加電力を高くする
、交番電界の周波数を低くする、交番電界に重畳せしめ
た直流電界強度を高くする、等の手段、或は、これらの
組合せ操作は、含有水素量を低くする効果を有する。

本発明における電荷輸送層としてのａ　−Ｃ膜の膜厚は
、通常の電子写真プロセスで用いるためには、５乃至５
０μｍ１特に７乃至２０μｍが適当であり、５μｍより
薄いと、帯電電位が低いため充分な複写画像濃度を得る
事ができない。また、５０μｍより厚いと、生産性の面
で好ましくない。

このａ−Ｃ膜は、高透光性、高暗抵抗を有するとともに
電荷輸送性に富み、膜厚を上記の襟に５μｍ以上として
もキャリアはトラップされる事無く輸送きれ明減衰に寄
与する事が可能である。

本発明における原料気体からａ　−Ｃ膜を形成する過程
としては、原料気体が、直流、低周波、高周波、或はマ
イクロ波等を用いたプラズマ法により生成きれるプラズ
マ状態を経て形成きれる方法が最も好ましいが、その他
にも、イオン化蒸着法、或はイオンビーム蒸着法等によ
り生成されるイオン状態を経て形成されてもよいし、真
空蒸着法、或はスパッタリング法等により生成きれる中
性粒子から形成されてもよいし、ざらには、これらの組
み合わせにより形成されてもよい。

本発明においては炭化水素の他に、ａ　−Ｃ膜中に少な
くともハロゲン原子を添加するためにハロゲン化合物が
使用される。ここでハロゲン原子とは、弗素原子、塩素
原子、臭素原子、及び沃素原子をいう。該ハロゲン化合
物における相状態は常温常圧において必ずしも気相であ
る必要はなく、加熱或は減圧等により溶融、蒸発、昇華
等を経て気化しうるものであれば、液相でも固相でも使
用可能である。ハロゲン化合物としては、例えば、弗素
、塩素、臭素、沃素、弗化水素、弗化塩素、弗化臭素、
弗化沃素、塩化水素、塩化臭素、塩化沃素、臭化水素、
臭化沃素、沃化水素、等の無機化合物、ハロゲン化アル
キル、ハロゲン化アリール、ハロゲ化スチレン、ハロゲ
ン化ポリメチレン、へロホルム、等の有機化合物が用い
られる。ハロゲン化アルキルとしては、例えば、フッ化
メチル、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、フッ
化エチル、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、フ
ッ化プロピル、塩化プロピル、臭化プロピル、ヨウ化プ
ロピル、フッ化ブチル、塩化ブチル、臭化ブチル、ヨウ
化ブチル、フッ化アミル、塩化アミル、臭化アミル、ヨ
ウ化アミル、フッ化ヘキシル、塩化ヘキシル、臭化ヘキ
シル、ヨウ化ヘキシル、フッ化へブチル、塩化へブチル
、臭化へブチル、ヨウ化ヘプチル、フッ化オクチル、塩
化オクチル、臭化オクチル、ヨウ化オクチル、フッ化ノ
ニル、塩化ノニル、臭化ノニル、ヨウ化ノニル、フッ化
デシル、塩化デシル、臭化デシル、ヨウ化デシル、等が
用いられる。ハロゲン化アリールとしては、例えば、フ
ルオルベンゼン、クロルベンゼン、ブロムベンゼン、ヨ
ードベンゼン、クロルトルエン、ブロムトルエン、クロ
ルナフタリン、ブロムナフタリン、等が用いられる。ハ
ロゲン化スチレンとしては、例えば、クロルスチレン、
ブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、
等が用いられる。ハロゲン化ポリメチレンとしては、例
えば、塩化メチレン、臭化メチレン、ヨウ化メチレン、
塩化エチレン、臭化エチレン、ヨウ化エチレン、塩化ト
リメチレン、臭化トリメチレン、ヨウ化トリメチレン、
ジ塩化ブタン、ジ臭化ブタン、ショウ化ブタン、ジ塩化
ペンタン、ジ臭化ペンタン、ショウ化ペンタン、ジ塩化
ヘキサン、ジ臭化ヘキサン、ショウ化ヘキサン、ジ塩化
へブタン、ジ臭化へブタン、ショウ化へブタン、ジ塩化
オクタン、ジ臭化オクタン、ショウ化オクタン、ジ塩化
ノナン、ジ臭化ノナン、ジ塩化デカン、ジヨウ化デカン
、等が用いられる。へロホルムとしては、例えば、フル
オロホルム、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホル
ム、等が用いられる。

本発明において化学的修飾物質として含有されるハロゲ
ン原子の量は、全構成原子に対して０゜１乃至２５原子
％である。ここで、膜中に含有されるハロゲン原子の量
は、元毒分析の常法、例えばオージェ分析により知る事
ができる。ハロゲン原子の量が０．１原子％より低い場
合には、必ずしも好適な電荷輸送性が保証されず、感度
低下もしくは残留電位の発生等を生じ易くなり、また、
経時的感度安定性も保証されなくなる。ハロゲン原子の
量が２５原子％より高い場合には、適量の添加では好適
な電荷輸送性と残留電位発生防止を保証していたハロゲ
ン原子が、逆に、帯電能の低下、さらには経時後の暗抵
抗を低くする作用を示し、数カ月単位の保管中に電荷保
持能の低下を招く。また、必ずしも成膜性が保証きれな
くなり、膜の剥雛、油状化もしくは粉体化を招く。従っ
て、本発明におけるハロゲン原子添加量の範囲は重要で
ある。

本発明において化学的修飾物質として含有きれるハロゲ
ン原子の量は、主に、プラズマ反応を行なう反応室への
前述のハロゲン化合物の導入量を°増減することにより
制御用することが可能である。

ハロゲン化合物の導入量を増大させれば、本発明による
ａ−Ｃ膜中へのハロゲン原子の添加量な高くすることが
可能であり、逆にハロゲン化合物の導入量を減少させれ
ば、本発明によるａ　−Ｃ膜中へのハロゲン原子の添加
量を低くすることが可能である。

本発明においては、ａ−Ｓｉ膜を形成するためにシラン
ガス、ジシランガス、或は、弗化シランガスが用いられ
る。また、化学的修飾物質として燐原子或は硼素原子を
膜中に含有せしめるための原料ガスとして、ホスフィン
ガス或はジボランガス等が用いられる。ざらに、化学的
修飾物質として窒素原子を膜中に含有せしめるための原
料ガスとして、窒素ガス、アンモニアガス、亜酸化窒素
ガス、或は、二酸化窒素ガス、等の窒素化合物ガスが用
いられる。また、ゲルマニウム原子を含有させるために
、ゲルマンガスが用いられる。

本発明におけるａ−Ｓｉ膜中に含有されるゲルマニウム
原子の含有量は、シリコン原子とゲルマニウム原子との
総和に対して、３０原子％以下が好ましい。ここで、ゲ
ルマニウム原子及びシリコン原子の含有率は、元素分析
の常法、例えばオージェ分析により知る事ができる。ゲ
ルマニウム原子の含有量は、膜形成時に流入するゲルマ
ンガスの流量を増加する事により高くなる。ゲルマニウ
ム原子の含有量が高くなるにつれ本発明感光体の長波長
感度は向上し、短波長領域から長波長領域にまで幅広く
露光源が選択され得るようになり好ましいが、ゲルマニ
ウム原子が３０原子％より多く含有されると帯電能の低
下を招くため、過剰の添加は好ましくない。従って、本
発明におけるａ　−３ｉＩ］’ｉ？中に含有されるゲル
マニウム原子の含有量は重要である。

本発明において化学的修飾物質として含有される燐原子
或は硼素原子の量は、全構成原子に対して２００００原
子ｐｐｍ以下である。ここで燐原子或は硼素原子の膜中
含有量は、元素分析の常法、例えばオージェ分析或はＩ
ＭＡ分析により知る事ができる。燐原子或は硼素原子の
膜中含有量が２００００原子ｐｐｍより高い場合には、
少量の添加では好適な輸送性、或は、極性制御効果を保
証していた燐原子或は硼素原子が、逆に膜の低挺抗化を
招く作用を示し、帯電能の低下を来たす。従って、本発
明における燐原子或は硼素原子添加量の範囲は重要であ
る。

本発明において化学的修飾物質として含有される窒素原
子の量は、全構成原子に対して○、ＯＯ１乃至３原子％
である。ここで窒素原子の膜中含有量は、元素分析の常
法、例えばオージェ分析或はＩＭＡ分析により知る事が
できる。窒素原子の膜中含有量が０．００１原子％より
低い場合には、ａ−Ｓｉ膜の電気抵抗値が低くなる事が
らａ−５ｉ膜にコロナ帯電等による電界がかかりにくく
なり、光励起キャリアが必ずしも効率よ＜ａ−Ｃ膜中に
注入されなくなり感度の低下を招く。また、帯電能も低
下する。窒素原子の膜中含有量が３原子％より高い場合
には、微量の添加においては好゛適な帯電能を保証して
いた窒素原子が、過剰の添加ではａ−３ｉ膜を高抵抗化
し電荷の易動度を低下ならしめることから感度低下を招
く。従って、本発明における窒素原子添加量の範囲は重
要である、 本発明におけるａ−３ｉ膜中に含まれる水素原子或は弗
素原子の星はグロー放電を用いるというその製造面から
必然的に定まるが、シリコン原子と水素原子或はシリコ
ン原子と弗素原子の総量に対して、概ね１０乃至３５原
子％含有される。ここで、水素原子或は弗素原子の膜中
含有量は、元素分析の常法、例えばＯＮＨ分析、オージ
ェ分析等を用いる事により知る事ができる。

本発明における電荷発生層としてのａ−３ｉ膜の膜厚は
、通常の電子写真プロセスで用いるためには、ｏ、１乃
至５μｍが適当であり、０．１μｍより薄いと、光吸収
が不十分となり充分な電荷発生が行なわれなくなり、感
度の低下を招く。また、５μｍより厚いと、生産性の面
で好ましくない。このａ−３ｉ膜は電荷発生能に富み、
ざらに、本発明の最も特徴とするところのａ−Ｃ膜との
積層溝成において効率よ＜ａＣ膜中に発生キャリアを注
入せしめ、好適な明減衰に寄与する事が可能である。

本発明における原料気体からａ−Ｓｉ膜を形成する過程
は、ａ−Ｃ膜を形成する場合と同罎にして行なわれる。

本発明において化学的修飾物質として含有される窒素原
子、燐原子、或は、硼素原子の量は、主に、プラズマ反
応を行なう反応室への前述の窒素化合物ガス、ホスフィ
ンガス、或は、ジボランガスの導入量を増減することに
より制擲することが可能である。窒素化合物ガス、ホス
フィンガス、或は、ジボランガスの導入量を増大きせれ
ば、本発明によるａ−Ｓｉ膜中への窒素原子、燐原子、
或は、−素原子の添加量を高くすることが可能であり、
逆に窒素化合物ガス、ホスフィンガス、或は、ジボラン
ガスの導入量を減少させれば、本発明によるａ−３ｉ膜
中への窒素原子、燐原子、或は、硼素原子の添加量を低
くすることが可能である。

本発明における感光体は、電荷発生層と電荷輸送層から
成る機能分離型の構成とするのが最適で、該電荷発生層
と該電荷輸送層の積層構成は、必要に応じて適宜選択す
ることが可能である。

第１図は、その一形態として、導電性基板（１）上に電
荷輸送層（２）と電荷発生Ｎ（３）を順次積層してなる
構成を示したものである。第２図は、別の一形態として
、導電性基板（１）上に電荷発生層（３）と電荷輸送Ｎ
（２）を順次積層してなる構成を示したものである。第
３図は、別の一形態として、導電性基板（１）上に、電
荷輸送層（２）と電荷発生層（３）と電荷輸送層（２）
を順次積層してなる構成を示したものである。

感光体表面を、例えばコロナ帯電器等により正帯電した
後、画像露光して使用する場合においては、第１図では
電荷発生層（３）で発生した正孔が電荷輸送層（２）中
を導電性基板（１）に向は走行し、第２図では電荷発生
層（３）で発生した電子が電荷輸送層（２）中を感光体
表面に向は走行し、第３図では電荷発生層（３）で発生
した正孔が導電性基板側の電荷輸送層（２）中を導電性
基板（１）に向は走行すると共に、同時に電荷発生層（
３）で発生した電子が表面側の電荷輸送層（２）中を感
光体表面に向は走行し、好適な明減衰に保証された静電
潜像の形成が行なわれる。反対に感光体表面を負帯電し
た後、画像露光して使用する場合においては、電子と正
孔の挙動を入れ代えて、キャリアーの走行性を解すれば
よい。第２図及び第３図では、画＠露光用の照射光が電
荷輸送層中を通過する事になるが、本発明による電荷輸
送層は透光性に優れることから、好適な潜像形成を行な
うことが可能である。

第４図は、ざらなる一形態として、導電性基板（１）上
に電荷輸送層（２）と電荷発生層（３）と表面保護層（
４）を順次積層してなる構成を示したものである。即ち
第１図の形態に表面保護層を設けた形態に相当するが、
第１図の形態では、最表面が耐湿性に乏しいａ−３ｉ膜
で有ることから、多くの場合実用上の対湿度安定性を確
保するために表面保護層を設けることが好ましい。第２
図及び第３図の構成の場合、最表面が耐久性に優れたａ
−Ｃｈ４であるため表面保護層を設けなくてもよいが、
例えば現像剤の付着による感光体表面の汚れを防止する
ような、複写機内の各種エレメントに対する整合性を調
整する目的から、表面保護層を設けることもざらなる一
形態と成りうる。

第５図は、さらなる一形態として、導電性基板（１）上
に中間層（５）と電荷発生層（３）と電荷輸送層（２）
を順次積層してなる構成を示したものである。即ち第２
図の形態に中間層を設けた形態に相当するが、第２図の
形態では、導電性基板との接合面がａ−Ｓｉ膜である事
から、多くの場合接着性及び注入阻止効果を確保するた
めに中間層を設ける事が好ましい。第１図及び第３図の
構成の場合、導電性基板との接合面が、接着性及び注入
阻止効果に優れた、本発明による電荷輸送層であるため
、中間層を設けなくてもよいが、例えば導電性基板の前
処理方法のような、感光層形成以前の製造工程との整合
性を調整する目的から、中間層を設けることもさらなる
一形態と成りうる。

第６図は、さらなる一形態として、導電性基板て１）上
に中間層（５）と電荷輸送層（２）と電荷発生層（３）
と表面保護層（４）を順次積層してなる構成を示したも
のである。即ち第１図の形態に中間層と表面保護層を設
けた形態に相当する。

中間層と表面保護層の設置理由は前述と同様であり、従
って第２図及び第３図の構成において中間層と表面像１
１Ｆｆを設けることもざらなる一形態と成りうる。

本発明において中間層と表面保護層は、材料的にも、製
法的にも、特に限定を受けるものではなく所定の目的が
達せられるものであれば、適宜選択することが可能であ
る。本発明によるａ−ＣＭを用いてもよい。但し、用い
る材料が、例えば従来例で述べた如き絶縁性材料である
場合には、残留電位発生の防止のため膜厚は５μｍ以下
に留める必要がある。

本発明による感光体の電荷輸送層は、気相状態の分子を
減圧下で放電分解し、発生したプラズマ雰囲気中に含ま
れる活性中性種あるいは荷電極を基板上に拡散、電気力
、あるいは磁気力等により訪導し、基板上での再結合反
応により固相として堆積させる、所謂プラズマ重合反応
から生成される事が好ましい。

第７図は本発明に係わる感光体の製造装置を示し、図中
（７０１）〜（７０６）は常温において気相状態にある
原料化合物及びキャリアガスを密封した第１乃至第６タ
ンクで、各々のタンクは第１乃至第６調節弁（７０７）
〜（７１２）と第１乃至第６流量制御器（７１３）〜（
７１８）に接続されている。図中（７１９）〜（７２１
）は常温において液相または同相状態にある原料化合物
を封入した第１乃至第３容器で、各々の容器は気化のた
め第１乃至第３温調器（７２２）〜（７２４）により与
熱可能であり、ざらに各々の容器は第７乃至第９調節弁
（７２５）〜（７２７）と第７乃至第９流量制葬器（７
２８）〜（７３０）に接＄３！されている。これらのガ
スは混合器（７３１）で混合きれた後、主管（７３２）
を介して反応室（７３３）に送り込まれる。途中の配管
は、常温において液相または固相状態にあった原料化合
物が気化したガスが、途中で凝結しないように、適宜配
置きれた配管加熱器（７３４）により、与熱可能ときれ
ている。反応室内には接地電極（７３５）と電力印加電
極（７３６）が対向して設置され、各々の電極は電極加
熱器（７３７）により与熱可能とされている。電力印加
電極（７３６）には、高周波電力用整合器（７３８）を
介して高周波電源（７３９Ｌ低周波電力用整合器（７４
０）を介して低周波電源（７４１）、ローパスフィルタ
（７４２）を介して直流電源（７４３）が接続きれてお
り、接続選択スイッチ（７４４）により周波数の異なる
電力が印加可能とされている。反応室（７３３）内の圧
力は圧力制御弁（７４５）により調整可能であり、反応
室（７３３）内の減圧は、排気系選択弁（７４６）を介
して、拡散ポンプ（７４７）　、油回転ポンプ（７４８
）　、或は、冷却除外装Ｍ　（７４９）　、メカニカル
ブースターポンプ（７５０）、油回転ポンプ（７４８）
により行なわれる。排ガスについては、ざらに適当な除
外装置（７５３）により安全無害化した後、大気中に排
気きれる。これら排気系配管についても、常温において
液相または固相状態にあった原料化合物が気化したガス
が、途中で凝結しないように、適宜配置された配管加熱
器（７３４）により、与熱可能ときれている。反応室（
７３３）も同様の理由から反応室加熱器（７５１）によ
り与熱可能とされ、内部に配された電極上に導電性基板
（７５２）が設置される。第７図において導電性基板（
７５２）は接地電極（７３５）に固定して配きれている
が、電力印加電極（７３６）に固定して配されてもよく
、さらに双方に配されてもよい。

第８図は本発明に係わる感光体の製造装置の別の一形態
を示し、反応室（８３３）内部の形態以外は、第７図に
示した本発明に係わる感光体の製造装置と同様であり、
付記された番号は、７００番台のものを８００番台に置
き換えて解すればよい。第８図において、反応室（８３
３）内部には、第７図における接地電極（７３５）を兼
ねた円筒形の導電性基板（８５２）が設置きれ、内側に
は電極加熱器（８３７）が配されている。導電性基板（
８５２）周囲には同じく円筒形状をした電力印加電極（
８３６）が配きれ、外側には電極加熱器（８３７）が配
されている。導電性基板（８５２）は、外部より駆動モ
ータ（８５４）を用いて自転可能となっている。

感光体製造に供する反応室は、拡散ポンプにより予め１
０−４乃至１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程度にまで減圧し、真空度
の確認と装置内部に吸着したガスの脱看を行なう。同時
に電極加熱器により、電極並びに電極に固定して配され
た導電性基板を所定の温度まで昇温する。導電性基板に
は、前述の如き感光体構成の中から所望のｔｌｌ￥成を
得るために、必要であれば、予めアンダーコート層或は
電荷発生層を設けて置いてもよい。アンダーコート層或
は電荷発生層の設置には、本装置を用いてもよいし別装
置を用いてもよい。次いで、第１乃至第６タンク及び第
１乃至第３容器から、原料ガスを適宜第１乃至第９流量
制御器を用いて定流量化しながら反応室内に導入し、圧
力調節弁により反応室内を一定の減圧状態に保つ。ガス
流量が安定化した後、接続選択スイッチにより、例えば
高周波電源を選択し、電力印加電極に高周波電力を投入
する。両電極間には放電が開始きれ、時間と共に基板上
に固相の膜が形成される。ａ−３ｉ膜或はａ　−Ｃ膜は
、原料ガスを代える事により任意に形成可能である。放
電を一旦停止し、原料ガス組成を変更した後、再び放電
を再開すれば異なる組成の灰を積層する事ができる。ま
た、放電を持続させながら原料ガス流量だけを徐々に代
え、異なる組成の膜を勾記を持たせながら積層する事も
可能である。

反応時間により膜厚を制御し、所定の膜厚並びにｖＩ層
溝成に達したところで放電を停止し、本発明による感光
体を得る。次いで、第１乃至第９調節弁を閉じ、反応室
内を充分に排気する。ここで所望の感光体構成が得られ
る場合には反応室内の真空を破り、反応室より本発明に
よる感光体を取り出す。更に所望の感光体構成において
、電荷発生層或はオーバーコート層が必要ときれる場合
には、そのまま本装置を用いるか、或は同様に一旦真空
を破り取り出して別装置に移してこれらの層を設け、本
発明による感光体を得る。

以下実施例を挙げながら、本発明を説明する。

実流カ１ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
値Ｊ（７３３）の内部を１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程度の高真空
にした後、第３調節弁（７０９）を解放し、第３タンク
（７０３）よ四弗化炭素ガスを出力圧１．０Ｋｇ／ｃｍ
２の下で第３流量制御器（７１５）内へ流入させた。同
時に、第１容器（７１９）よりスチレンガスを第１温調
器（７２２）温度５２℃のもと第７流量制御器（７２８
）内へ流入させな。四弗化炭素ガスの流量を２５ｓｃａ
ｍ、及びスチレンガスの流量を３８ｓｅｃｍとなるよう
に設定して、途中混合器（７３１）を介して、主管（７
３２）より反応室（７３３）内へ流入した。各々の流量
が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力が１．２Ｔ
ｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を調整した。

一方、導電性基板（７５２）としては、樅５０×横５０
×厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて、予め２０ｏｔ
に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、
予め接続選択スイッチ（７４４）により接続しておいた
低周波電源（７４１）を投入し、電力印加１ｔＥｉｙ（
７３６）に１５０Ｗａｔｔの電力を周波数６０　Ｋ　Ｈ
ｚの下で印加して約２時開平プラズマ重合反応を行ない
、導電性基板（７５２）上に厚き１５μｍのａ−Ｃ膜を
電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印加を
停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を充分に排
気した。

以上のようにして得られたａ−Ｃ膜につき有機元素分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して４４原子％であった。また、
オージェ分析より含有されるハロゲン原子、即ち、弗素
原子の量は、全構成原子に対して、２１原子％であった
。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調筋弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から窒素ガス、及び第６タンク（
７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ｃｍ２の下
で第１、Ｍ２、第５、及び第６流量制御器（７１３，７
１４，７１７、及び７１８）内へ流入させな。同時に、
第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７０４）
より水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボランガス
を、出力圧１．５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制御器（
７１６）内へ、流入させた。

各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を２００
ｓｅｃｍｓゲルマンガスの流ｆｉ６ｓｃｃｍ１を窒素ガ
スの流量をＯ，Ｏｌｓｅｃｍ、シランガスの流量を１０
１００５ｅ、水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボ
ランガスの流量を１０１０５ｅとなるように設定し、反
応室（７３３）内に流入させた。各々の流量が安定した
後に、反応室（７３３）内の圧力が０．８Ｔｏｒｒとな
るように圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、ａ−
Ｃ膜が形成されている導電性基板’　（７５２）は、２
５０℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状
態で、高周波電源（７３９）より周波数１３．５６ＭＨ
ｚの下で電力印加電極（７３６）に３５Ｗａｔｔの電力
を印加し、グロー放電を発生させな。この放電を５分間
行ない、厚き０．３μｍの電荷発生層を得た。

得られたａ−Ｓｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して２３原子％、硼素原子は１０原子ｐｐｍ
％窒素原子は０．００１原子％、ゲルマニウム原子は１
１原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時のとす定値を括弧内に示すが、最
高帯電電位は一２８０Ｖ　（＋２６０Ｖ）で有り、即ち
、全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当
りの帯電能は１８Ｖ／μｍ（１７Ｖ／μｍ）と極めて高
く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解され
た。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約８秒（約７秒）
であり、このことから充分ｔｔ’ｌＸ荷保持性能を有す
る事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した
後、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位に
まで明減衰きせたとこる必要とされた光量は４．フルッ
クス・秒（４゜４ルックス◆秒）であり、このことから
充分な光感度性能を有する事が理解才れた。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理Ｍきれる。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

実施例２ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第３調節弁（７０９）を解放し、第３タ
ンク（７０３）より四塩化炭素ガスを出力圧１．０Ｋｇ
／ｃｍ２の下で第３流量制ｉ卸器（７１５）内へ流入さ
せた。同時に、第１容器（７１９）よりミルセンガスを
第１温調器（７２２）温度４５℃のもと第７流量制御器
（７２８）内へ流入させた。四塩化炭素ガスの流量を２
５ｓｅｃｍ１及びミルセンガスの流量を１５ｓｅｃｍと
なるように設定して、途中混合器（７３１）を介して、
主管（７３２）より反応室（７３３）内へ流入した。各
々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力が
１．５Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を調
整した。一方、導電性基板（７５２）としては、樅５０
×横５０×厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて、予め
２００℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した
状態で、予め接続選択スイッチ（７４４）により接続し
ておいた低周波電源（７４１）を投入し、電力印加型ｉ
　（７３６）に１７０Ｗａｔｔの電力を周波数３５ＫＨ
ｚの下で印加して約１時間２０分プラズマ重合反応を行
ない、導電性基板（７５２）上に厚き１５μｍのａ−Ｃ
膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印
加を停止し、調停弁を閉じ、反応室（７３３）内を充分
に排気した。

以上のようにして得られたａ−Ｃ膜につき有機元素分析
を行なったところ、含有きれる水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して４７原子％であった。また、
オージェ分析より含有されるハロゲン原子、即ち、塩素
原子の量は全構成原子に対して１３．４原子％であった
。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）からアンモニアガス、及び第６タ
ンク（７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ａｍ
２の下で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１
３，７１４，７１７、及び７１８）内へ流入きせた。同
時に、第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７
０４）より水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボラ
ンガスを、出力圧１．５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制
那器（７１６）内へ、流入させた。各流量制御器の目盛
を調整して水素ガスの流量を１８０ｓｅｃｍ、ゲルマン
ガスの流量を８ｓｅｃｍ、アンモニアガスの流量を２ｓ
ｅｃｍ１シランガスの流量を１０１００５ｅ、水素ガス
で１１００ｐｐに希釈されたジボランガスの流量を１０
１０５ｅに設定し、反応室（７３３）内に流入させな。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．９Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、ａ−Ｃ膜が形成されている導電性基板
（７５２）は、２４０℃に加熱しておき、ガス流量及び
圧力が安定した状態で、高周波電源（７３９）より周波
数１３．５６ＭＨｚの下で電力印加電極（７３６）に４
５Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電を発生させた。

この放電を５分間行ない、厚き０．３μｍの電荷発生層
を得た。

得られたａ−３ｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して２１原子％、硼素原子は１１原子ｐｐｍ
５窒素原子は０．３原子％、ゲルマニウム原子は１３．
２原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一３８０Ｖ　（＋３８０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は２５■／μｍ　（２５Ｖ／μｍ）と極めて高
く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解され
た。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約１１秒（約１０
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要とされた光量は６．２ルツク
ス・秒（３，２ルツクス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解きれる。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

Ｘ旅ガ旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１、第２、及び第３調節弁（７０７，
７０８、及び７０９）を解放い第１タンク（７０１）よ
り水素ガス、第２タンク（７０２）よりアセチレンガス
、及び第３タンク（７０３）より四弗化炭素ガスを各々
出力圧１゜０Ｋｇ／ｃｍ２の下で第１、第２、及び第３
流量制御器（７１３，７１４、及び７１５）内へ流入さ
せた。そして各流量ｉ制御器の目盛を調整して、水素ガ
スの流量を１２０ｓｅｃｍ１アセチレンガスの流量を３
５ｓｅｃｍ、及び四弗化炭素ガスの流量が７５ｃｃｍと
なるように設定して、途中混合器（７３１）を介して、
主！　（７３２）より反応室（７３３）内へ流入した。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が２．ＯＴ。

ｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を調整した。一
方、導電性基板（７５２）としては、！５ＱＸ横５０Ｘ
厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて、予め２００℃に
加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、予
め接続選択スイッチ（７４４）により接続しておいた高
周波電源（７３９）を投入し、電力印加電極（７３６）
に２００Ｗａｔｔの電力を周波数１３．５６ＭＨｚの下
で印加して約５時間プラズマ重合反応を行ない、導電性
基板（７５２）上に厚き１５μｍのａ　−Ｃ膜を電荷輸
送層として形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し
、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を充分に排気した
。

以上のようにして得られたａ−Ｃ膜につき有機元素分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して３ｏ原子％、また、オージェ
分析より含有されるハロゲン原子、即ち、弗素原子の量
は全構成原子に対して０．９原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から窒素ガス、及び第６タンク（
７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ｃｍ２の下
で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１３，７
１４，７１７、及び７１８）内へ流入させた。同時に、
第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７０４）
より水素ガスで１１００１）Ｐに希釈きれたジボランガ
スを、出力圧１．５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制御器
（７１６）’内へ、流入きせた。

各流量ＵＳ器の目盛をＰＩ整して水素ガスの流量を２０
０ｓｅｃｍ、窒素ガスの流量を１０１０５ｅ。

ゲルマンガスの流量を１０ｓ１０５ｅシランガスの流量
を１０１００５ｅ、水素ガスで１１００ｐｐに希釈され
たジボランガスの流量を５０ｓｅｃｍに設定し、反応室
（７３３）内に流入きせな。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．８Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、ａ　−Ｃ膜が形成されている導電性基
板（７５２）は、２５０℃に加熱しておき、ガス流量及
び圧力が安定した状態で、高周波電源（７３９）より周
波数１３．５６ＭＨｚの下で電力印加電極（７３６）に
４０Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電を発生とせな
。この放電を５分間行ない、厚さ０．３μｍの電荷発生
層ｔ−得た。

得られたａ−３ｔ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所ｔＡＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及び
ＩＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全
構成原子に対して２４原子％、硼素原子は４５原子１）
　Ｐ　ｍ　％窒素原子は１．０原子％、ゲルマニウム原
子は１５．８原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一９１０Ｖ（＋９３０Ｖ）で有り、即ち、全
感光体膜厚が１５゜百μｍであることから１μｍ当りの
帯電能は５９■／μｍ（６１Ｖ／μｍ）と極めて高く、
このことから充分な帯電性能を有する事が理解された。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約４２秒（約４０
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。′また、最高帯電電位に初期帯電した
後、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位に
まで明減衰させたところ必要とされた光量は４．３ルツ
クス・秒（２，９ルツクス・秒）であり、このことから
充分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解きれる。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

寒旗男４ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程； 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１、第２、及び第３（７０７，７０８
、及び７０９）　を解放し、第１タンク（７０１）より
水素ガス、第２タンク（７０２）よりエチレンガス、及
び第３タンク（７０３）より四弗化炭素ガスを各々出力
圧１．０Ｋｇ／ｃｍ２の下で第１、第２、及び第３流量
制御器（７１３，７１４、及び７１５）内へ流入させた
。

そして各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量
を６０ｓｅｃｍ、エチレンガスの流量を６０ｓｅｃｍｓ
及び四弗化炭素ガスの流量を３０ｓｅｃｍとなるように
設定して、途中混合器（７３１）を介して、主管（７３
２）より反応室（７３３）内へ流入した。各々の流量が
安定した後に、反応室（７３３）内の圧力が１．５Ｔｏ
ｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を調整した。一
方、導電性基板（７５２）としては、樅５０Ｘ横５０×
厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて、予め２５０℃に
加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、予
め接続選択スイッチ（７４４）により接続しておいた高
周波電源（７３９）を投入し、電力中加電ＪＭ（７３６
）に２００Ｗａｔｔの電力を周波数１３．５６Ｍ）（ｚ
の下で印加して約１０時間プラズマ重合反応を行ない、
導電性基板（７５２）上に厚さ１５μｍのａ　−Ｃ膜を
電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印加を
停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を充分に排
気した。

以上のようにして得られたａ　−Ｃ膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有きれる水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して３９原子％、また、オージ
ェ分析より含有されるハロゲン原子、即ち、弗素原子の
量は全構成原子に対して１．８原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第３調節弁（７０９）、第５調
節弁（７１１Ｌ及び第６調節弁（７１２）を解放し、第
１タンク（７０１）から水素ガス、第２タンク（７０２
）力・らゲルマンガス、第３タンク（７０３）から四弗
化シランガス、第５タンク（７０５）から窒素ガス、及
び第６タンク（７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫ
ｇ／ｃｍ２の下で第１、第２、第３、第５、及び第６流
量制罪器（７１３，７１４，７１５，７１７、及び７１
８）内へ流入させた。同時に、第４調節弁（７１０）を
解放し、第４タンク（７０４）より水素ガスで１１００
ｐｐに希釈されたジボランガスを、出力圧１．５Ｋｇ／
ａｍ２の下で第４流量制御器（７１６）内へ、流入させ
た。各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を２
００　ｓ　ｅｃｍ１ゲルマンガスの流量を６　ｓ　ｃ　
ｃ　ｍｚ四弗化シランガスの流量を５０ｓｅｃｍ、窒素
ガスの流量をｌｓｅｃｍ、シランガスの流量を５０ｓｅ
ｃｍ１水毒ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボランガ
スの流量を１０１００５ｅとなるように設定し、反応室
（７３３）内に流入させた。各々の流量が安定した後に
、反応室（７３３）内の圧力が０．９Ｔｏｒｒとなるよ
うに圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、ａ−Ｃ膜
が形成きれている導電性基板（７５２）は、２５０℃に
加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、高
周波電源（７３９）より周波数１３．５６ＭＨｚの下で
電力印加量ｗ１（７３６）に３５Ｗａｔｔの電力を中力
「シ、グミ−放電を発生させた。この放電を５分間行な
い、厚さ０．３μｍの電荷発生層を得た。

得られたａ−３ｔ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して２２原子％、硼素原子は９５原子ｐｐｍ
１弗素原子は５原子％、・　窒素原子は０．１原子％、
ゲルマニウム原子は１０．３原子％であった。　□ 特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の」り定値を括弧内に示すが、最
高帯電電位は一９００Ｖ　（＋９７０■）で有り、即ち
、全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当
りの帯電能は５９Ｖ／ｕｍ　Ｃ６３Ｖ／ｕｍ）と１】め
で高く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解
された。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａＸの９０％の表面電
位にまでｇＢ減衰するのに要した時間りよ約３１秒（約
３０秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有
する事が理贋された。また、最高帯電電位に初期帯電し
た後、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位
にまで明減衰させたとこる必要とされた光量は１．８ル
ツクス・秒（１，フルックス・秒）であり、このことか
ら充分な光感度性能を有する事が理解された。また、最
高帯電電位に初期帯電した後、半導体レーザー光（発光
波長７８０ｎｍ）を用いて最高帯電電位の２０％の表面
電位にまで明減衰させたところ必要とされた光量は９．
８ｅｒｇ／ａｍ２（９，２ｅｒｇ／ｃｍ２）であり、こ
のことから充分な長波長光感度性能を有する事が理解き
れた。

゛以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光
体として傑れた性能を有するものである事が理解される
。また、この感光体に対して常用のカールソンプロセス
の中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られ
た。

害旅然旦 本発明に係わる製造装量を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（？　３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の
高真空にした後、第１、第２、及び第３調節弁（７０７
，７０８、及び７０９）を解放し、第１タンク（７０１
）より水素ガス、第２タンク（７０２）よりブタジェン
ガス、及び第３タンク（７０３）より四塩化炭素ガスを
各々出力圧１゜０Ｋｇ／ｃｍ２の下で第１、第２、及び
第３流量制御器（７１３，７１４、及び７１５）内へ流
入させた。水素ガスの流量を６０ｓｅｃｍ、ブタジェン
ガスの流量を６０ｓｃｃｍ、及び四塩化炭素ガスの流量
を３０ｓｅｃｍとなるように設定して、途中混合器（７
３１）を介して、・主！（７３２）より反応室（７３３
）内へ流入した。各々の流量が安定した後に、反応室（
７３３）内の圧力が２゜０Ｔｏｒｒとなるように圧力調
節弁（７４５）を調整した。一方、導電性基板（７５２
）としては、樅５０Ｘ横５０×厚３ｍｍのアルミニウム
基板を用いて、予め１２０℃に加熱しておき、ガス流量
及び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（７
４４）により接続しておいた低周波電源（７４１）を投
入し、電力印加電極（７３６）に１２０Ｗａｔｔの電力
を周波数３００ＫＨｚの下で印加して約３０分間プラズ
マ重合反応を行ない、導電性基板（７５２）上に厚き１
５μｍのａ−Ｃ股を電荷輸送層として形成した。成膜完
了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７
３３）内を充分に排気した。

以上のようにして得られたａ　−Ｃ膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して５５原子％、また、オージ
ェ分析より含有されるハロゲン原子、即ち、塩素原子の
量は全構成原子に対して５．９原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から窒素ガス、及び第６タンク（
７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ｃｍ２の下
で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１３，７
１４，７１７、及び７１８）内へ流入させた。同時に、
第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７０４）
より水素ガスで１０ｐｐｍに希釈されたホスフィンガス
を、出力圧１．５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制御器（
７１６）内へ、流入させた。

各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を２００
ｓｅｃｍｓゲルマンガスの流量を６ｓｅｃｍ１窒素ガス
の流量を３ｓｅｃｍ、シランガスの流量を２００ｓｅｃ
ｍ、水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたホスフィンガ
スの流量を１０１０５ｅに設定し、反応室（７３３）内
に流入させな。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．９Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、ａ　−Ｃ膜が形成されている導電性基
板（７５２）は、２５０℃に加熱しておき、ガス流量及
び圧力が安定した状態で、高周波電源（７３９）より周
波数１３．５６ＭＨ２の下で電力印加電極（７３６）に
３５Ｗａｔｔの電力を印加いグロー放電を発生させな。

この放電を５分間行ない、厚さ０．３μｍの電荷発生層
を得た。

得られたａ−Ｓｉ膜につき、金属中○ＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して１８原子％、燐原子は１２原子ｐｐｍ５
窒素原子は０．３原子％、ゲルマニウム原子は１０．０
原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一４８０Ｖ　（＋７２０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１ｕｍ当り
の帯電能は３１Ｖ／μｍ　（４７Ｖ／μｍ）と極めて高
く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解きれ
た。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約１２秒（約１８
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたところ必要とされた光量は１．１ルツク
ス・秒（３，５ルツクス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画体が得られた
。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第６図は本発明感光体の構成を示す図面、第
７図乃至第８図は本発明に係わる感光体の製造装置を示
す図面である。 出願人　ミノルタカメラ株式会社 第１図 第３図 第５図 第２図 第４図 第６図 手続補正書 昭和６２年１０月２１日 昭和６１　年ｑｙ許ｊ７Ｉｈ＜　ｌ／−２″Ｌ’／４４
４号２、発明の名称 感光体 ３、補正をする者 事件との関係　　出願人 住所　大阪市東区安土町２丁目３０番地　大阪国際ビル
名称　（［３０７）　　　ミノルタカメラ株式会社自発
補正 ５、補正の対象 図面 ６、補正の内容 図面第８図を「訂正第８図」の通り補正します。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 電荷発生層と電荷輸送層とを有する機能分離型感光体に
   おいて、該電荷輸送層は少なくともハロゲン原子を含有
   してなる水素化アモルファスカーボン膜であり、かつ、
   該電荷発生層は窒素原子を含有すると共に燐原子及び硼
   素原子のうち少なくとも一方を含有してなる水素化アモ
   ルファスシリコンゲルマニウム膜或は窒素原子を含有す
   ると共に燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含
   有してなる弗素化アモルファスシリコンゲルマニウム膜
   であることを特徴とする感光体。