JPS6378325A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高密度磁気記録層として強磁性金属薄膜を有
する磁気記録媒体の製造方法に関する。

従来の技術 近年、高密度磁気記録層として、Ｇｏ−Ｎｉの斜め蒸着
膜や、垂直方向に磁化できるＣ！ｏ−Ｃｒスパッタ膜等
の強磁性金属薄膜が実用化に向は検討されている。

特に、垂直磁気記録方式は、今後の高密度化に重要な技
術として注目されている〔外国論文誌；アイイーイーイ
ー　トランザクシヨンズ　オン　マグネｆイクｙ、（Ｉ
ＥＥＥ　　ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ　　ＯＮＭＡＧＮ
ＥＴＩＣ８）ｖｏｗ、ＭＧＡ−１３、Ａ５　　Ｐ、Ｐ、
１２７２〜１２７７　（１９７７）　：ｌ。

垂直記録では媒体面に垂直な反平行磁化転移を形成させ
るので、磁化転移が極めて狭いものとなり、高密度の記
録が可能になるが、この方式の実現には、垂直異方性を
有する媒体の使用が不可欠で、耐久性のある、信号出力
対雑音比（以下Ｃ／Ｎと記す）の大きな媒体が量産規模
で得られることが鍵といえる〔応用磁気セミナ、”垂直
磁気記録方式″（ｓｏ年１２月）〕。

現状そは、電磁変換性からみると、スパッタ法で得たＣ
ｏ−０ｒ膜が最も垂直磁化膜として優れており、この磁
気記録層上に各種の保護膜を配して耐久性を改良する検
討が盛んである〔例えば、応用磁気セミナ、″垂直磁気
記録方式”６７〜７６頁（１９８５）”］。

例えば、特開昭５７−１１６７７１号公報にはイミド基
を有する高分子をスパッタして磁気記録層上の保護膜と
する方法が示されており、特開昭６０−１２６６２７号
公報には硬質カーボン層と含フッ素潤滑油層を積層する
方法が示されている。真空蒸着膜、プラズマ重合膜等に
ついても面内磁化膜を実施例として数多く提案開示され
ている〔例えば、特開昭８１−１５１８３７号、特開昭
６１−１６０２６号、同５８−６０４２７号公報〕。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記した構成では、十分な耐久性を確保す
るには、保護膜の厚みが３００人〜５００人と大きくな
り、記録波長が０．５μｍ以下になるとＣ／Ｎが数ｄＢ
スペース損失により低下する問題があり改善が望まれて
いた。

本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、スペース
損失の改良された垂直磁気記録に適する磁気記録媒体を
提供するものである。

問題点を解決するための手段 本発明の磁気記録媒体は上記した問題点を解決するため
に、微粒子塗布層上に斜め蒸着した下地層を配し、その
上に垂直磁化膜を配したものである。

作　　用 本発明の磁気記録媒体は、上記した構成により、下地層
が、微粒子によるシャドウィング効果により、シャープ
な突起形状を形成し、その上に形成された垂直磁化膜も
、はぼこれに近い突起形状を有するため、接触面積の低
下と、ヘッド面のクリーニング作用が良好となることか
ら、垂直磁化膜自身の耐久性が改善されるので、保護膜
厚みは１、　スペース損失が無視できる程度の厚みとす
ることができ、短波長記録再生でも良好なＣハを与える
ことができるのである。

実施例 以下、図面を参照しながら本発明の実施例について詳し
く説明する。

第１図は本発明の第１の実施例の磁気テープの拡大断面
図である。第１図で１は厚み１０μｍの芳香族ポリアミ
ドフィルムからなる高分子フィルムで、２は平均粒子径
１６０人のシリカ微粒子をポリイミド樹脂で、平均１０
９個１０ｒ１分散固定した微粒子塗布層である。３は直
径６ｏｃＩｎの８０℃に保った回転ドラムに沿わせて、
チタンを３ｏ　ＯＡ　＋最小入射角５３度で斜め蒸着し
た下地層で、４は直径６ＱＣｒｎの１６０℃に保った回
転ドラムに沿わせて、入射角が１０度内の範囲でＧｏ−
Ｏｒ（Ｏｘ２ｏｗｔ％）を電子ビーム蒸着して形成した
０、１４μｍの垂直磁化膜、６は真空蒸着法で形成した
７５人のステアリン酸から成る潤滑保護膜であり、ｅは
カーボンと炭化カルシウムを１：１でポリウレタン樹脂
に対して、２０ｗｔ％含む、Ｏ，Ｓμｍのバックコート
層である。かかる構成の８ミリ幅の磁気テープを、８ミ
リビデオデツキを改造して評価した。

比較例として、チタンを蒸着しないものを準備した。記
録波長０．４６μｍの記録を行い、Ｃ／Ｎを各環境で比
較した。使用したヘッドは、ギャップ長０．１４μｍの
フェライトヘッドで、２３℃６５チＲＨでの初期のＣ／
Ｎをｏ（ｄＢ）として相対比較した。再生をくり返した
時、２３℃６５％ＲＨでは１３０パスで実施例はなじみ
によｌ）＋１．１（ｄＢ）とＣ／Ｎが改善されているの
に比較例は、−２，４（ｄＢ）と低下していた。４０℃
６チＲＨでは、実施例が１６０パスで−１，１（ｄＢ）
なのに比し、比較例は−４，９（ｄＢ）であった。

又本発明品はスチル再生に於てもＣ／Ｎが前述の２環境
条件下で３０分間安定していたが、比較例は、１０分か
ら雑音が増加しはじめ２２分で３（ｄＢ）低下した。

第２図は本発明の第２の実施例の磁気ディスクの拡大断
面図である。第２図で７は厚み２６μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルムからなる高分子フィルム、８は
平均粒子径が１８０人のカーボッ微粒子をポリエステル
樹脂で、平均２Ｘ１０’ｇ！Ｌ／ｃｒＡ分散固定した微
粒子塗布層、９は直径５ｏｃｒｎの８０℃に保った回転
ドラムに沿わせて、Ｃｒを４００人最小入射角５０度で
斜め蒸着した下地層、１ｏは直径ｓ　ｏ　ｃｒｌｌ、温
度８ｏ℃の回転ドラムに沿わせて、１３．５６（ＭＨｚ
）２．１５（ＫＷ）高周波スパッタリング法で形成した
０、１８μｍのＣｏ−０ｒ（Ｃｒ２Ｏ，６ｗｔ％）垂直
磁化膜、１１は８６人のパークロロオクタン酸の蒸着膜
からなる潤滑保護膜である。

かかる声成の３．６インチのフロッピーディスクを、Ｃ
ｒ斜め蒸着せずに製造した比較例と共に、ギャップ長０
．１６μｍのフェライトヘッドで記録し、Ｃハを評価し
た。４０℃３０％ＲＨで実施例は、７９０万バス時点で
も１（ｄＢ）以内と安定していたが、比較例は４３０万
バスで３　（ｄＢ）、Ｃハが劣化した。

上記した実施例では、高分子フィルムとして芳香族ポリ
アミド、ポリエチレンテレフタレー）を用いたが、他に
ポリサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリイ
ミド等でもよい。

微粒子塗布層は、シリカ、カーボンの他にＣａ（Ｘ）ｓ
Ｂ　ａ　３０４　、　Ｔ　ｉ　Ｏ２＋　Ｃａ　Ｏ、Ａ　
ｌ　２０３１　　ホ’）　−！−Ｘ　チル球などが用い
られる。

斜め蒸着に用いられるものは、Ｔｉ、Ｃｒの他に、パー
マロイでもよいし、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ等、特に限定される
ものではないが、Ｃｏ−Ｃｒの配向を助けるＴｉ、Ｏｒ
、Ｍｏ等が好ましい。

垂直磁化膜はＣｏ　−Ｃｒの他に、Ｃｏ−Ｔｌ、Ｃｏ−
Ｔａ。

Ｃｏ−Ｍｏ　　Ｃｏ−Ｗ　　Ｃｏ−０ｒ−Ｎｂ　　Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｐ等でもよい。

発明の効果 以上のように本発明によれば、スペース損失が影響しな
い程度の１００Å以下の膜厚の保護膜でも十分な耐久性
を有する磁気記録媒体が得られるといったすぐれた効果
が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例に係る磁気テープの拡大
断面図、第２図は本発明の第２の実施例に係る磁気ディ
スクの拡大断面図である。 １、７・・・・・・高分子フィルム、２，８・・・・・
・微粒子、塗布層、３，９・・・・・・斜め蒸着下地層
、４，１ｏ・・・・・・垂直磁化膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 微粒子塗布層上に斜め蒸着した下地層を配し、その上に
   垂直磁化膜を配して成ることを特徴とする磁気記録媒体
   。