JPS6374923A - 屈折率分布型レンズの製造方法 - Google Patents
屈折率分布型レンズの製造方法Info
- Publication number
- JPS6374923A JPS6374923A JP21880486A JP21880486A JPS6374923A JP S6374923 A JPS6374923 A JP S6374923A JP 21880486 A JP21880486 A JP 21880486A JP 21880486 A JP21880486 A JP 21880486A JP S6374923 A JPS6374923 A JP S6374923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dopant
- porous
- refractive index
- pores
- index distribution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000009826 distribution Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims abstract description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 abstract description 6
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000287530 Psittaciformes Species 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 germanium alkoxide Chemical class 0.000 description 2
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- GXMNGLIMQIPFEB-UHFFFAOYSA-N tetraethoxygermane Chemical compound CCO[Ge](OCC)(OCC)OCC GXMNGLIMQIPFEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002291 germanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- WXYNMTGBLWPTNQ-UHFFFAOYSA-N tetrabutoxygermane Chemical compound CCCCO[Ge](OCCCC)(OCCCC)OCCCC WXYNMTGBLWPTNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、屈折率分布型レンズの製造方法に関する。
本発明は多孔質体中の細孔にドーパントを浸透させた後
、必要ならば熱処理を加えてドーパントの一部を揮発さ
せてドーパント濃度分布を形成し、さらに熱処理を加え
てガラス体とすることを特徴とする。
、必要ならば熱処理を加えてドーパントの一部を揮発さ
せてドーパント濃度分布を形成し、さらに熱処理を加え
てガラス体とすることを特徴とする。
屈折率分布型レンズの製造方法として、いわゆる「分子
スタッフィング法」が知られている。これは、多孔質ガ
ラスをドーパントを含む溶液中に浸漬し、その細孔内に
ドーパントを沈漬した（スタッフィング）後・別の溶液
中で外側からドーパントの一部を溶出（アンスタッフィ
ング）してドーパント濃度分布を形成し、これを焼成し
て屈折率分布型レンズとするものである（特開昭５ｌ−
１２６２０７）。
スタッフィング法」が知られている。これは、多孔質ガ
ラスをドーパントを含む溶液中に浸漬し、その細孔内に
ドーパントを沈漬した（スタッフィング）後・別の溶液
中で外側からドーパントの一部を溶出（アンスタッフィ
ング）してドーパント濃度分布を形成し、これを焼成し
て屈折率分布型レンズとするものである（特開昭５ｌ−
１２６２０７）。
ところで、上記「分子スタッフィング法」は、分布形成
のためのアンスタノフイング工程終了後、分布を固定化
するためにドーパント化合物の溶解度が０に近いような
溶媒中に浸漬して溶媒交換を行なう必要がある。しかし
この溶媒の交換により細孔内部に液体状で入っていたド
ーパント化合物が結晶として析出するため多孔質全体に
物理的なひずみが生じ、割れを起こしやすい。
のためのアンスタノフイング工程終了後、分布を固定化
するためにドーパント化合物の溶解度が０に近いような
溶媒中に浸漬して溶媒交換を行なう必要がある。しかし
この溶媒の交換により細孔内部に液体状で入っていたド
ーパント化合物が結晶として析出するため多孔質全体に
物理的なひずみが生じ、割れを起こしやすい。
また、［分子スタッフィング法」におけるドーパントの
選択度は、イオン交換法よりは広いと言えども、原理的
にドーパント化合物の温度や溶媒のちがいによる溶解度
差を利用した方法だけに、適当なドーパント化合物とし
ての選択度はかなり狭められたものとなる◎ 本発明の目的は前記のような欠点を除去し、多孔質状態
で割れを起こさないような屈折率分布型レンズの製造方
法を提供することにある。
選択度は、イオン交換法よりは広いと言えども、原理的
にドーパント化合物の温度や溶媒のちがいによる溶解度
差を利用した方法だけに、適当なドーパント化合物とし
ての選択度はかなり狭められたものとなる◎ 本発明の目的は前記のような欠点を除去し、多孔質状態
で割れを起こさないような屈折率分布型レンズの製造方
法を提供することにある。
本発明は、多孔質体中の細孔にドーパントを浸透させた
後・前記ドーパントの一部を揮発させて所定のドーパン
ト濃度分布を形成し、しかる後加熱焼結して透明ガラス
体の屈折率分布型レンズをつくることを特徴とする。
後・前記ドーパントの一部を揮発させて所定のドーパン
ト濃度分布を形成し、しかる後加熱焼結して透明ガラス
体の屈折率分布型レンズをつくることを特徴とする。
本発明によれば、通常の「分子スタッフィング法」にお
ける分布形成のためのアンスタッフィング工程が、多孔
質体中ドーパントの溶媒間の濃度拡散に基くものではな
く、ドーパントそのものの揮発現象に基くものである。
ける分布形成のためのアンスタッフィング工程が、多孔
質体中ドーパントの溶媒間の濃度拡散に基くものではな
く、ドーパントそのものの揮発現象に基くものである。
従ってアンスタッフィング工程や、この後のドーパント
分布固定化工程において溶媒交換によるドーパント結晶
析出に起因する多孔質体の割れなどの問題は本発明によ
れば原理的に起き得ないものである。
分布固定化工程において溶媒交換によるドーパント結晶
析出に起因する多孔質体の割れなどの問題は本発明によ
れば原理的に起き得ないものである。
また、ドーパントとしては、その金属イオンがガラス体
中でガラスの屈折率を変化させ得るもので、ドーパント
化合物としての揮発性が高いものが望ましいが、酸化さ
れて金属酸化物の状態で揮発性が高いものでも良い。例
えば、ゲルマニウムをドーパントとして考えた場合、ゲ
ルマニウムアルコキシドＧｏ（ｏＲ）、は低温でもかな
り蒸気圧の高い化合物であるから２００℃以下で分布を
形成することが可能である。また、メタノールのような
低沸点物等と混合することにより、さらに揮発性を高め
てもよい。また酸化ゲルマニウムについても５００℃以
上の高温ではかなり揮発性が高くなるため、条件次第で
分布を形成することができる。この時、多孔質体の細孔
がつぶれてしまわない程度の温度で制御することが望ま
しいのは言うまでもない。
中でガラスの屈折率を変化させ得るもので、ドーパント
化合物としての揮発性が高いものが望ましいが、酸化さ
れて金属酸化物の状態で揮発性が高いものでも良い。例
えば、ゲルマニウムをドーパントとして考えた場合、ゲ
ルマニウムアルコキシドＧｏ（ｏＲ）、は低温でもかな
り蒸気圧の高い化合物であるから２００℃以下で分布を
形成することが可能である。また、メタノールのような
低沸点物等と混合することにより、さらに揮発性を高め
てもよい。また酸化ゲルマニウムについても５００℃以
上の高温ではかなり揮発性が高くなるため、条件次第で
分布を形成することができる。この時、多孔質体の細孔
がつぶれてしまわない程度の温度で制御することが望ま
しいのは言うまでもない。
このように使用できるドーパント化合物としては、有機
化合物、無機化合物を問わず、多孔質の細孔がつぶれる
までの温度で揮発性を有するものであればよく、ドーパ
ントの選択度はかなり広げられたものとなる。
化合物、無機化合物を問わず、多孔質の細孔がつぶれる
までの温度で揮発性を有するものであればよく、ドーパ
ントの選択度はかなり広げられたものとなる。
本発明において、出発物質なる多孔質体は、ガラスの分
相現象を利用した多孔質ガラス、四塩化ケイ素等を原料
とする火炎加水分解法により得られるンリカ多孔質体、
ゾル−ゲル法により得られるシリカゲル、或はその焼成
物などが代表的に使用し得るものと考えられるが、その
他気相法、液相法問わず、連続的細孔を有する多孔質体
であれば何でも適用できる◎ 以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
相現象を利用した多孔質ガラス、四塩化ケイ素等を原料
とする火炎加水分解法により得られるンリカ多孔質体、
ゾル−ゲル法により得られるシリカゲル、或はその焼成
物などが代表的に使用し得るものと考えられるが、その
他気相法、液相法問わず、連続的細孔を有する多孔質体
であれば何でも適用できる◎ 以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
実施例１゜
ＩＪ、 Ｖｌ ％でＳｉｎ、５２．５％、Ｂ、０，３５
．３％、Ｎ ａ ２０５．７０％、Ｋ２Ｏ６，５０％か
らなるガラスロッドを５６０℃で６０分間加熱して分相
させ、５ＮのＨＣｆｉに１００℃の温度で１０時間処理
して多孔質ガラスロッドを得た（直径３鵡、長さ５０鵡
）。
．３％、Ｎ ａ ２０５．７０％、Ｋ２Ｏ６，５０％か
らなるガラスロッドを５６０℃で６０分間加熱して分相
させ、５ＮのＨＣｆｉに１００℃の温度で１０時間処理
して多孔質ガラスロッドを得た（直径３鵡、長さ５０鵡
）。
この多孔質ガラスロッドを室温でテトラエトキシゲルマ
ニウムの溶液に２時間浸漬した後、すばやく６０℃の恒
温器内にうつし、２日間乾燥した。
ニウムの溶液に２時間浸漬した後、すばやく６０℃の恒
温器内にうつし、２日間乾燥した。
しかる後このロッドを電気焼結炉を用いて１１００℃で
５時間加熱して細孔をつぶし透明ガラス体を得た〇 図１に、径方向における屈折率分布の様子を示した外周
部を除きほぼ２乗分布形状をしていた。
５時間加熱して細孔をつぶし透明ガラス体を得た〇 図１に、径方向における屈折率分布の様子を示した外周
部を除きほぼ２乗分布形状をしていた。
実施例２゜
実施例１と同じ多孔質ガラスロッド（直径３鵡、長さ５
ＯＷ）を、室温でテトラブトキシゲルマニウムのメタノ
ール溶液（５０ｖｏｉ％）に２時間浸漬した後、すばや
く７０℃の恒温器内にうつし、５０時間保持した後、恒
温器内を１００℃にし５時間保持した。このロッドを電
気焼結炉を用いて１１００℃で５時間加熱して細孔をつ
ぶし透明ガラス体を得た。
ＯＷ）を、室温でテトラブトキシゲルマニウムのメタノ
ール溶液（５０ｖｏｉ％）に２時間浸漬した後、すばや
く７０℃の恒温器内にうつし、５０時間保持した後、恒
温器内を１００℃にし５時間保持した。このロッドを電
気焼結炉を用いて１１００℃で５時間加熱して細孔をつ
ぶし透明ガラス体を得た。
屈折率分布は、中心部が１４７０と実施例１のものと比
べやや低いものであったが、形状的にはほぼ同様であっ
た。
べやや低いものであったが、形状的にはほぼ同様であっ
た。
実施例３゜
まず、ゾル−ゲル法によりシリカ多孔質体を作った。方
法は以下のとおり。
法は以下のとおり。
精製した市販のテトラエトキシシリコン６２４２に０．
０１規定の塩酸８４０ｄを加え、激しく攪拌して加水分
解した。次にこの溶液に超微粉末シリカ（Ａｅｒｏｓｉ
ｌ ０Ｘ−５０：ｄｅｇｕｓｓ社製）１８０？を攪拌
しながら加え超音波振動を印加した。さらに遠心分離に
よってダマ状物を取り除き、均一度の高いゾルとした。
０１規定の塩酸８４０ｄを加え、激しく攪拌して加水分
解した。次にこの溶液に超微粉末シリカ（Ａｅｒｏｓｉ
ｌ ０Ｘ−５０：ｄｅｇｕｓｓ社製）１８０？を攪拌
しながら加え超音波振動を印加した。さらに遠心分離に
よってダマ状物を取り除き、均一度の高いゾルとした。
このゾルに０．１規定のアンモニア水を滴下してｐＨを
４．５０に調整した。
４．５０に調整した。
次にこのゾルを内径２０ｗ＆、長さ１００鵬の円筒状ポ
リプロピレン製容器に流し入れた０３０分後にゲル化し
たことを確認した上で、フタをして密閉状態にし３０℃
で一昼夜保持した後、７タにピンホールを開は恒温器内
で６０℃に保持した。１週間後に乾ｔ＃！が終了し、こ
れを電気炉で８００℃で１０時間加熱することにより強
固な多孔質ゲル（外径１２ｓａｉ、長さ６０−）が得ら
れた〇テトラプロポキシチタンのエタノール溶液（５０
ｖｏ１％）を５０℃に保持し、上記ゲルを３時間浸漬さ
せた後、１００℃の恒温器内にすばやくうつし５時間保
持した。
リプロピレン製容器に流し入れた０３０分後にゲル化し
たことを確認した上で、フタをして密閉状態にし３０℃
で一昼夜保持した後、７タにピンホールを開は恒温器内
で６０℃に保持した。１週間後に乾ｔ＃！が終了し、こ
れを電気炉で８００℃で１０時間加熱することにより強
固な多孔質ゲル（外径１２ｓａｉ、長さ６０−）が得ら
れた〇テトラプロポキシチタンのエタノール溶液（５０
ｖｏ１％）を５０℃に保持し、上記ゲルを３時間浸漬さ
せた後、１００℃の恒温器内にすばやくうつし５時間保
持した。
これを電気炉で最高温度１２００℃で焼結し透明ガラス
体とした。大きさは外径１０鵡、長さ５０鵡とこれまで
にない大型の屈折率分布型レンズが作製できた。屈折率
は中心部で１．４９５とゲルマニウム化合物をドーパン
トにした場合に比べかなり高屈折率であった。分布形状
は実施例１と同様であった。
体とした。大きさは外径１０鵡、長さ５０鵡とこれまで
にない大型の屈折率分布型レンズが作製できた。屈折率
は中心部で１．４９５とゲルマニウム化合物をドーパン
トにした場合に比べかなり高屈折率であった。分布形状
は実施例１と同様であった。
実施例４゜
実施例３と同様にしてシリカ多孔質体を作った。
テトラエトキシゲルマニウム溶液に室温で２時間浸漬し
た後、３０℃に保持した０、２規定塩酸に１０時間浸漬
して、多孔質体内部に酸化ゲルマニウムを均一に析出さ
せた。これを８０℃の恒温器内で２日間乾燥させた後、
電気炉を用いて焼結した。
た後、３０℃に保持した０、２規定塩酸に１０時間浸漬
して、多孔質体内部に酸化ゲルマニウムを均一に析出さ
せた。これを８０℃の恒温器内で２日間乾燥させた後、
電気炉を用いて焼結した。
焼結は以下のプログラムに従った。
まず室温から６００℃まで６０℃／時で昇温し６００℃
で１５時間保持した後、６０℃／時で１２００℃まで昇
温し、１２００℃で５時間保持して透明ガラス体とした
。屈折率分布は実施例１と同様なものとなった。
で１５時間保持した後、６０℃／時で１２００℃まで昇
温し、１２００℃で５時間保持して透明ガラス体とした
。屈折率分布は実施例１と同様なものとなった。
以上、説明したように多孔質体中の細孔にドーパントを
浸透させた後、必要なら熱処理を加えドーパントの一部
を揮発させてドーパント濃度分布を形成し、さらに熱処
理を加えてガラス体とする屈折率分布型レンズの製造方
法により、多孔質状態で割れを起こさないような屈折率
分布型レンズが製造できる。
浸透させた後、必要なら熱処理を加えドーパントの一部
を揮発させてドーパント濃度分布を形成し、さらに熱処
理を加えてガラス体とする屈折率分布型レンズの製造方
法により、多孔質状態で割れを起こさないような屈折率
分布型レンズが製造できる。
形状に関しても円筒状レンズに限らず、光分波器用のス
ラブレンズ、各種光導波路、マイクロレンズアレーなど
が作製でき、様々な応用が考れられる。
ラブレンズ、各種光導波路、マイクロレンズアレーなど
が作製でき、様々な応用が考れられる。
第１図は、本発明の屈折率分布型レンズの中心からの半
径方向における屈折率分布図である。 以 上
径方向における屈折率分布図である。 以 上
Claims (1)
- （１）多孔質体中の気孔に屈折率調整用ドーパント化合
物を含む溶液を浸透させた後、前記ドーパント化合物の
一部を揮発させ所定のドーパント濃度分布を形成し、し
かる後加熱焼結して透明ガラス体とする屈折率分布型レ
ンズの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21880486A JPS6374923A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 屈折率分布型レンズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21880486A JPS6374923A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 屈折率分布型レンズの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6374923A true JPS6374923A (ja) | 1988-04-05 |
Family
ID=16725612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21880486A Pending JPS6374923A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 屈折率分布型レンズの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6374923A (ja) |
-
1986
- 1986-09-17 JP JP21880486A patent/JPS6374923A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5068208A (en) | Sol-gel method for making gradient index optical elements | |
| US5182236A (en) | Gradient index glasses and sol-gel method for their preparation | |
| JPH0455339A (ja) | 屈折率分布型光学素子の製造方法 | |
| JPH068179B2 (ja) | 屈折率分布ガラスの製造方法 | |
| JPS6374923A (ja) | 屈折率分布型レンズの製造方法 | |
| JPH09202652A (ja) | 屈折率分布型光学素子の製造方法 | |
| JP3043781B2 (ja) | 屈折率分布型光学素子の製造方法 | |
| JP3477225B2 (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPS61232239A (ja) | 多孔質ガラスの製造方法 | |
| JPH05306126A (ja) | 屈折率分布型光学素子およびその製造方法 | |
| JPS6296339A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JPH0118019B2 (ja) | ||
| JPH0788224B2 (ja) | 屈折率分布型レンズの製造方法 | |
| JP3337522B2 (ja) | 屈折率分布型光学素子の製造方法 | |
| JPS62278134A (ja) | 屈折率分布型レンズの製造方法 | |
| JPS62226832A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JPH0582332B2 (ja) | ||
| Huang et al. | Radial gradient-index glass prepared by the sol-gel process | |
| JPH04108626A (ja) | 屈折率分布型光学素子の製造方法 | |
| JPH06115949A (ja) | 屈折率分布を有する石英系ガラス体の製造方法 | |
| JPS63103832A (ja) | 屈折率分布型レンズの製造方法 | |
| JPH0124735B2 (ja) | ||
| JPH02258639A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JPS61168542A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JPS62100426A (ja) | ガラスの製造方法 |