JP3043781B2 - 屈折率分布型光学素子の製造方法 - Google Patents
屈折率分布型光学素子の製造方法Info
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- JP3043781B2 JP3043781B2 JP2162140A JP16214090A JP3043781B2 JP 3043781 B2 JP3043781 B2 JP 3043781B2 JP 2162140 A JP2162140 A JP 2162140A JP 16214090 A JP16214090 A JP 16214090A JP 3043781 B2 JP3043781 B2 JP 3043781B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、屈折率分布型光学素子の製造方法に係り、
特に光学レンズなどの製造に適用されるゾル・ゲル法に
よる屈折率分布型光学素子の製造方法に関する。
特に光学レンズなどの製造に適用されるゾル・ゲル法に
よる屈折率分布型光学素子の製造方法に関する。
［従来の技術］ 従来、径方向に屈折率分布を有する屈折率分布型光学
素子の製造方法として、ゾル・ゲル法が用いられてい
る。
素子の製造方法として、ゾル・ゲル法が用いられてい
る。
上記ゾル・ゲル法において、屈折率分布を付与する方
法として、以下に掲げる方法が知られている。
法として、以下に掲げる方法が知られている。
それは、少なくとも一種の金属成分を含有するシリカ
ゲルを調製後、ゲル化させた後、このウェットゲルを酸
などの上記金属成分を溶解・拡散し得る溶液に浸漬し、
その後、乾燥・焼成するという方法である。
ゲルを調製後、ゲル化させた後、このウェットゲルを酸
などの上記金属成分を溶解・拡散し得る溶液に浸漬し、
その後、乾燥・焼成するという方法である。
上記方法において、上記金属成分を金属アルコキシド
として導入し、酸などによって分布付与する方法（Elec
tronics Letters,Vol.22（1986）,PP.1108〜1110,“ｒ
−GRIN TiO2−SiO2 Glass Rods Prepared by a Sol−Ge
l Method"）と、上記金属成分を水溶性金属塩として導
入し、水溶液などで分布を付与する方法（Journal of N
on−Crystalline Solids Vol.85（1986）,PP.244〜246,
“Preparation of Gradient−Index Glass Rods by the
Sol−Gel Process"）が知られている。
として導入し、酸などによって分布付与する方法（Elec
tronics Letters,Vol.22（1986）,PP.1108〜1110,“ｒ
−GRIN TiO2−SiO2 Glass Rods Prepared by a Sol−Ge
l Method"）と、上記金属成分を水溶性金属塩として導
入し、水溶液などで分布を付与する方法（Journal of N
on−Crystalline Solids Vol.85（1986）,PP.244〜246,
“Preparation of Gradient−Index Glass Rods by the
Sol−Gel Process"）が知られている。
［発明が解決しようとする課題］ 従来までの２方法により、屈折率分布付与を行い、得
られたガラス体の径方向の屈折率分布を測定すると、第
１図（ａ）のようなガラス体中心部で屈折率が高く、周
辺部で低い、屈折率差Δｎ＝n1−n2となるものが得られ
る。この屈折率差Δｎを制御するためには、屈折率分布
付与のための酸などへのウェットゲルの浸漬時間を変化
させれば良いが、中心部の屈折率n1を保持し、放物線の
開きを変化させる、即ちΔｎを変化させる制御は行えな
かった。
られたガラス体の径方向の屈折率分布を測定すると、第
１図（ａ）のようなガラス体中心部で屈折率が高く、周
辺部で低い、屈折率差Δｎ＝n1−n2となるものが得られ
る。この屈折率差Δｎを制御するためには、屈折率分布
付与のための酸などへのウェットゲルの浸漬時間を変化
させれば良いが、中心部の屈折率n1を保持し、放物線の
開きを変化させる、即ちΔｎを変化させる制御は行えな
かった。
つまり、第１図（ｂ）に示すようなΔｎ′＝n4−n2と
いう屈折率分布11は、分布付与のための時間を第１図
（ａ）の場合より長く、適当な時間浸漬すれば、作製で
きるが、Δｎ′＝n1−n3（＝n4−n2）という屈折率分布
12を有するガラス体は、浸漬時間を変化させても作製で
きないという欠点を有していた。
いう屈折率分布11は、分布付与のための時間を第１図
（ａ）の場合より長く、適当な時間浸漬すれば、作製で
きるが、Δｎ′＝n1−n3（＝n4−n2）という屈折率分布
12を有するガラス体は、浸漬時間を変化させても作製で
きないという欠点を有していた。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもの
で、屈折率の最大値と最小値をそれぞれ制御することが
できる屈折率分布型光学素子の製造方法を提供すること
を目的とする。
で、屈折率の最大値と最小値をそれぞれ制御することが
できる屈折率分布型光学素子の製造方法を提供すること
を目的とする。
［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するために、本発明の屈折率分布型光
学素子の製造方法は、少なくとも１種の金属アルコキシ
ドと少なくとも１種の金属塩とを任意の比率で加えてゾ
ルを調製する工程と、前記ゾルをゲル化させた後、前記
ゲルを前記金属アルコキシドにより導入した金属成分は
溶出せずに前記金属塩を溶出する溶液に浸漬する工程と
を有している。その後、洗浄・乾燥・燒結することによ
り、最終的な屈折率分布型光学素子を製造することがで
きる。
学素子の製造方法は、少なくとも１種の金属アルコキシ
ドと少なくとも１種の金属塩とを任意の比率で加えてゾ
ルを調製する工程と、前記ゾルをゲル化させた後、前記
ゲルを前記金属アルコキシドにより導入した金属成分は
溶出せずに前記金属塩を溶出する溶液に浸漬する工程と
を有している。その後、洗浄・乾燥・燒結することによ
り、最終的な屈折率分布型光学素子を製造することがで
きる。
［作 用］ シリコンアルコキシドSi（OR4）及び金属アルコキシ
ドＭ（OR′）ｎを原料として、ゾルを調製し、ゲル化し
た場合、アルコキシドが加水分解・脱水縮合反応を起こ
すため、金属Ｍは、ゲル中で酸素（Ｏ）を介して、シリ
コン（Si）と−Ｍ−Ｏ−Si−という強い化学結合を形成
していると考えられる。従って、金属Ｍに組成分布を付
与するためには、この結合を切断する必要があるため、
ゲルを酸中浸漬する方法が取られている。
ドＭ（OR′）ｎを原料として、ゾルを調製し、ゲル化し
た場合、アルコキシドが加水分解・脱水縮合反応を起こ
すため、金属Ｍは、ゲル中で酸素（Ｏ）を介して、シリ
コン（Si）と−Ｍ−Ｏ−Si−という強い化学結合を形成
していると考えられる。従って、金属Ｍに組成分布を付
与するためには、この結合を切断する必要があるため、
ゲルを酸中浸漬する方法が取られている。
一方、Si（OR）４と金属塩MiXjを用いてゲル化した場
合、ゲル中で上記−Ｍ−Ｏ−Si−という結合はなく、金
属イオンMk+が非架橋酸素と電気的に結合しているのみ
である。そのため、金属イオンMk+は容易に他のカチオ
ンと置換することが可能で、金属塩を溶解する溶媒中に
ゲルを浸漬するだけで、容易に金属イオンMk+が拡散し
て組成分布を付与することが可能であると考えられる。
合、ゲル中で上記−Ｍ−Ｏ−Si−という結合はなく、金
属イオンMk+が非架橋酸素と電気的に結合しているのみ
である。そのため、金属イオンMk+は容易に他のカチオ
ンと置換することが可能で、金属塩を溶解する溶媒中に
ゲルを浸漬するだけで、容易に金属イオンMk+が拡散し
て組成分布を付与することが可能であると考えられる。
このように、金属Ｍの供給原料により、組成分布付与
の手法・メカニズムが異なっていると考えられる。
の手法・メカニズムが異なっていると考えられる。
本発明は、上記の特性を利用して、金属導入の原料と
して金属アルコキシドと金属塩の両方を用い、組成分布
付与の段階で一方のみの組成分布を選択的に付与するこ
とにより、今まで実現することが困難であった種々の特
性を持つ屈折率分布型光学素子を得ようとするものであ
る。
して金属アルコキシドと金属塩の両方を用い、組成分布
付与の段階で一方のみの組成分布を選択的に付与するこ
とにより、今まで実現することが困難であった種々の特
性を持つ屈折率分布型光学素子を得ようとするものであ
る。
より具体的には、まず、ゾル調製時の原料として、シ
リコンアルコキシドSi（OR）４と分布付与する金属塩Mi
Xjと前記塩と同じ金属種のアルコキシドＭ（OR′）ｎと
異種金属の金属アルコキシドＭ′（OR″）ｎ′をそれぞ
れ表１に示すように、100−（ｘ＋ｙ＋ｚ）、x,y,zのモ
ル分率でゲルを作製する。次に、水・アルコールなどの
金属塩を溶解し、かつ−Ｍ−Ｏ−Si−、−Ｍ′−Ｏ−Si
−結合を切断しない溶媒中にゲルを浸漬することによっ
て、金属アルコキシドで導入した金属では組成分布付与
は行われずに、塩で導入した金属のみで組成分布を付与
することが可能となる。
リコンアルコキシドSi（OR）４と分布付与する金属塩Mi
Xjと前記塩と同じ金属種のアルコキシドＭ（OR′）ｎと
異種金属の金属アルコキシドＭ′（OR″）ｎ′をそれぞ
れ表１に示すように、100−（ｘ＋ｙ＋ｚ）、x,y,zのモ
ル分率でゲルを作製する。次に、水・アルコールなどの
金属塩を溶解し、かつ−Ｍ−Ｏ−Si−、−Ｍ′−Ｏ−Si
−結合を切断しない溶媒中にゲルを浸漬することによっ
て、金属アルコキシドで導入した金属では組成分布付与
は行われずに、塩で導入した金属のみで組成分布を付与
することが可能となる。
つまり、第２図（ｂ）に示すような金属Ｍの組成分布
は、金属原料を一種のみで導入したとき（第２図
（ａ））に比べ、アルコキシドで導入した部分が溶出さ
れず、金属塩で導入した部分のみが溶出し、中央部n5は
ほぼ同じであるがΔｎを小さく制御することが可能とな
る。
は、金属原料を一種のみで導入したとき（第２図
（ａ））に比べ、アルコキシドで導入した部分が溶出さ
れず、金属塩で導入した部分のみが溶出し、中央部n5は
ほぼ同じであるがΔｎを小さく制御することが可能とな
る。
この方法を更に応用することにより、多くの種類の屈
折率分布型光学素子を得ることができる。
折率分布型光学素子を得ることができる。
まず、第１に前記ゾル調整時のモル比率においてｚ＝
０もしくは、ｚを一定とし、ｘ＋ｙを一定として、x,y
を変化させた場合、第３図のようにn8は変化せずにΔｎ
の大きさを制御できる。つまり、径方向の屈折率分布曲
線をｎ＝ar2＋ｂ（放物線）とすれば、ｂが一定でａを
制御することが可能となる。
０もしくは、ｚを一定とし、ｘ＋ｙを一定として、x,y
を変化させた場合、第３図のようにn8は変化せずにΔｎ
の大きさを制御できる。つまり、径方向の屈折率分布曲
線をｎ＝ar2＋ｂ（放物線）とすれば、ｂが一定でａを
制御することが可能となる。
第２に、ｘ及びｙを一定としてｚを変化させることに
より、もしくはｘ及びｚを一定としてｙを変化させるこ
とにより、第４図のようにΔｎは変化せずに中心部の屈
折率を変化させる制御ができる。つまり、径方向の屈折
率分布曲線（放物線）ｎ＝ar2＋ｂにおいてａが一定で
ｂを制御することが可能となる。
より、もしくはｘ及びｚを一定としてｙを変化させるこ
とにより、第４図のようにΔｎは変化せずに中心部の屈
折率を変化させる制御ができる。つまり、径方向の屈折
率分布曲線（放物線）ｎ＝ar2＋ｂにおいてａが一定で
ｂを制御することが可能となる。
さらに、ａとｂを制御する方法を同時に組み込む、つ
まり、x,y,zを任意に変化させることにより、屈折率分
布曲線（ｎ＝ar2＋ｂ）におけるａとｂをガラス化範囲
内で任意に制御することが可能となる。
まり、x,y,zを任意に変化させることにより、屈折率分
布曲線（ｎ＝ar2＋ｂ）におけるａとｂをガラス化範囲
内で任意に制御することが可能となる。
また、以上の特性を光学ガラスの特性を表す分散を考
慮したνｄ−nd図（アッベ数−屈折率図）に示すと、第
２図（ａ）および（ｂ）の屈折率分布は、それぞれ第５
図の線分α１α3,α１α２で表わされる。また、第４図
に示した３つの屈折率分布がｚを変化させることにより
得られたものである場合は、各分布はνｄ−nd図上で中
心屈折率の大きい順にそれぞれ第６図の線分β１β2,β
３β4,β５β６で表わされ、上記３つの屈折率分布がｙ
を変化させることにより得られた場合には、中心屈折率
の大きい順にそれぞれ線分γ１γ2,γ３γ4,γ５γ６で
表わされる。このように、塩・アルコキシドの量・種類
を変化させることにより、屈折率差Δｎや分散特性を種
々変化させることが可能となる。
慮したνｄ−nd図（アッベ数−屈折率図）に示すと、第
２図（ａ）および（ｂ）の屈折率分布は、それぞれ第５
図の線分α１α3,α１α２で表わされる。また、第４図
に示した３つの屈折率分布がｚを変化させることにより
得られたものである場合は、各分布はνｄ−nd図上で中
心屈折率の大きい順にそれぞれ第６図の線分β１β2,β
３β4,β５β６で表わされ、上記３つの屈折率分布がｙ
を変化させることにより得られた場合には、中心屈折率
の大きい順にそれぞれ線分γ１γ2,γ３γ4,γ５γ６で
表わされる。このように、塩・アルコキシドの量・種類
を変化させることにより、屈折率差Δｎや分散特性を種
々変化させることが可能となる。
［実施例］ （第１実施例） シリカ（SiO2）成分とチタニア（TiO2）成分とのモル
比が80:20となるように、シリコンテトラメトキシドSi
（OCH3）412.17g（0.08モル）を含有する40.5mlメタノ
ール溶液にテタンテトラ ｎ−ブトキシドTi（OnC4H9）
43.40g（0.01モル）を加え、さらに、四塩化チタンTiCl
41.89g（0.01モル）を含有する水溶液6.0mlを加えた
後、1N（１規定）アンモニア水溶液を3ml加えてゾルを
調製し、内径18mmのポリプロピレン容器に上記ゾルを注
入し、放置後ウェットゲルを作製した。
比が80:20となるように、シリコンテトラメトキシドSi
（OCH3）412.17g（0.08モル）を含有する40.5mlメタノ
ール溶液にテタンテトラ ｎ−ブトキシドTi（OnC4H9）
43.40g（0.01モル）を加え、さらに、四塩化チタンTiCl
41.89g（0.01モル）を含有する水溶液6.0mlを加えた
後、1N（１規定）アンモニア水溶液を3ml加えてゾルを
調製し、内径18mmのポリプロピレン容器に上記ゾルを注
入し、放置後ウェットゲルを作製した。
次に、得られたゲル体を容器から取り出し、四塩化チ
タンを溶解する溶媒である純水に２時間浸漬してチタン
成分の濃度分布付与を行った。
タンを溶解する溶媒である純水に２時間浸漬してチタン
成分の濃度分布付与を行った。
その後、四塩化チタンが不溶である溶液アセトンで洗
浄し、乾燥・焼成することにより、径5.2mmのガラス体
を得た。このガラス体の径方向の屈折率分布を測定した
ところ、第８図のA2に示すような、中心部分でndo＝1.6
54で周辺部分でnd＝1.554、Δｎ＝0.100の放物線分布を
有することがわかった。
浄し、乾燥・焼成することにより、径5.2mmのガラス体
を得た。このガラス体の径方向の屈折率分布を測定した
ところ、第８図のA2に示すような、中心部分でndo＝1.6
54で周辺部分でnd＝1.554、Δｎ＝0.100の放物線分布を
有することがわかった。
次に、チタニア成分20モル％中、上記ゾル調製時、組
成比率では、Ti（OnC4H9）410モル％、TiCl410モル％で
あったものを、Ti（OnC4H9）4:TiCl4＝5:15（Ａ）、15:
5（Ｃ）としたものについて、上記と同様な方法により
ガラス体を作製し、径方向の屈折率を測定したところ、
それぞれ第８図のA1,A3に示すような分布を有し、屈折
率分布曲線ｎ＝ar2＋ｂにおいてｂを一定とし、ａを変
化させる制御が可能であることがわかった。
成比率では、Ti（OnC4H9）410モル％、TiCl410モル％で
あったものを、Ti（OnC4H9）4:TiCl4＝5:15（Ａ）、15:
5（Ｃ）としたものについて、上記と同様な方法により
ガラス体を作製し、径方向の屈折率を測定したところ、
それぞれ第８図のA1,A3に示すような分布を有し、屈折
率分布曲線ｎ＝ar2＋ｂにおいてｂを一定とし、ａを変
化させる制御が可能であることがわかった。
（第２実施例） SiO2成分をPbO成分とZrO2成分との組成比率が80:10:1
0となるように、シリコンテトラエトキシドSi（OC2H5）
４（0.08モル）のエタノール溶液にジルコニウムテトラ
ｎ−ブトキシドZr（OnC4H9）４（0.01モル）を加え、硝
酸鉛Pb（NO3）２（0.01モル）を含む水溶液を加えた
後、1N塩酸を加えて、ゾルを調製し、内径18mmのポリプ
ロピレン容器に上記ゾルを注入し、放置後、ウェットゲ
ルを作製した。
0となるように、シリコンテトラエトキシドSi（OC2H5）
４（0.08モル）のエタノール溶液にジルコニウムテトラ
ｎ−ブトキシドZr（OnC4H9）４（0.01モル）を加え、硝
酸鉛Pb（NO3）２（0.01モル）を含む水溶液を加えた
後、1N塩酸を加えて、ゾルを調製し、内径18mmのポリプ
ロピレン容器に上記ゾルを注入し、放置後、ウェットゲ
ルを作製した。
次に、得られたゲル体を容器から取り出し、純水に浸
漬して、硝酸鉛を溶解させ、Pb成分の濃度分布付与を行
った。その後、イソプロパノールで洗浄し、乾燥・焼成
することにより、径5.1mmのガラス体を得た。、このガ
ラス体の径方向の屈折率分布を測定したところ、第９図
のB1に示すような分布を有することがわかった。
漬して、硝酸鉛を溶解させ、Pb成分の濃度分布付与を行
った。その後、イソプロパノールで洗浄し、乾燥・焼成
することにより、径5.1mmのガラス体を得た。、このガ
ラス体の径方向の屈折率分布を測定したところ、第９図
のB1に示すような分布を有することがわかった。
次に、ゾル調製時にPbO成分の比率を10モル％と一定
にし、SiO2成分とZrO2成分の比率を75:15、70:20とした
ものについて、屈折率分布を測定したところ、それぞれ
第９図のB2,B3に示すような分布を有し、分布曲線ｎ＝a
r2＋ｂにおいて、ａを一定として、ｂを変化させる制御
が可能であることがわかった。
にし、SiO2成分とZrO2成分の比率を75:15、70:20とした
ものについて、屈折率分布を測定したところ、それぞれ
第９図のB2,B3に示すような分布を有し、分布曲線ｎ＝a
r2＋ｂにおいて、ａを一定として、ｂを変化させる制御
が可能であることがわかった。
（第３実施例） SiO2成分とTiO2成分とZrO2成分との組成比率が70:20:
10となるように、Si（OC2H5）４（0.07モル）のエタノ
ール溶液にTi（OnC4H9）４（0.01モル）とTiCl4（0.01
モル）とZr（OnC4H9）４（0.01モル）を加えた後に、1N
塩酸を加えて、ゾルを調製し、内径18mmのポリプロピレ
ン容器に上記ゾルを注入し、放置後、ウェットゲルを得
た。
10となるように、Si（OC2H5）４（0.07モル）のエタノ
ール溶液にTi（OnC4H9）４（0.01モル）とTiCl4（0.01
モル）とZr（OnC4H9）４（0.01モル）を加えた後に、1N
塩酸を加えて、ゾルを調製し、内径18mmのポリプロピレ
ン容器に上記ゾルを注入し、放置後、ウェットゲルを得
た。
次に、得られたゲル体を容器から取り出し、純水に浸
漬して、TiCl4を溶解させて、Ti成分の濃度分布付与を
行った。その後、アセトンで洗浄し、乾燥・焼成するこ
とにより、径5.3mmのガラス体を得た。このガラス体の
径方向のに屈折率分布を測定したところ、第10図の３−
１に示すような屈折率分布を有することがわかった。
漬して、TiCl4を溶解させて、Ti成分の濃度分布付与を
行った。その後、アセトンで洗浄し、乾燥・焼成するこ
とにより、径5.3mmのガラス体を得た。このガラス体の
径方向のに屈折率分布を測定したところ、第10図の３−
１に示すような屈折率分布を有することがわかった。
次に、ゾル調製時に、表２のように組成比を変化させ
たところ、屈折率分布曲線は第10図のようになった。
たところ、屈折率分布曲線は第10図のようになった。
これにより組成比を変化させることにより、分布曲線
ｎ＝ar2＋ｂにおいて、a,bを変化・制御できることがわ
かった。
ｎ＝ar2＋ｂにおいて、a,bを変化・制御できることがわ
かった。
また、表２により得られたガラスの特性をνｄ−nd図
に書き換えると、それぞれ第11図の線分ε３ε5,ε３ε
4,ε３ε6,ε７ε8,ε１ε２のようになり、様々な特性
を持つ屈折率分布型光学素子が得られることがわかっ
た。
に書き換えると、それぞれ第11図の線分ε３ε5,ε３ε
4,ε３ε6,ε７ε8,ε１ε２のようになり、様々な特性
を持つ屈折率分布型光学素子が得られることがわかっ
た。
上記以外の金属塩・金属アルコキシドの組み合わせを
原料として使用すれば、その特性の範囲が広がることは
言うまでもない。
原料として使用すれば、その特性の範囲が広がることは
言うまでもない。
また、数種の金属塩を導入し、組成分布を付与するこ
とも可能である。
とも可能である。
［発明の効果］ 以上のように、本発明の方法を用いて、屈折率分布型
光学素子を製造することにより、屈折率の最大値と最小
値をそれぞれ制御することができる。また、数種の金属
成分を用いることにより、分散特性をも制御することが
できる。そのため、様々な特性を有する屈折率分布型光
学素子を製造することができる。
光学素子を製造することにより、屈折率の最大値と最小
値をそれぞれ制御することができる。また、数種の金属
成分を用いることにより、分散特性をも制御することが
できる。そのため、様々な特性を有する屈折率分布型光
学素子を製造することができる。
第１図（ａ）および（ｂ）はそれぞれ従来技術を説明す
るためのグラフ、第２図（ａ）（ｂ），第３図から第７
図まではそれぞれ本発明の作用を説明するためのグラ
フ、第８図は本発明の第１実施例を説明するためのグラ
フ、第９図は本発明の第２実施例を説明するためのグラ
フ、第10図および第11図はそれぞれ本発明の第３実施例
を説明するためのグラフである。
るためのグラフ、第２図（ａ）（ｂ），第３図から第７
図まではそれぞれ本発明の作用を説明するためのグラ
フ、第８図は本発明の第１実施例を説明するためのグラ
フ、第９図は本発明の第２実施例を説明するためのグラ
フ、第10図および第11図はそれぞれ本発明の第３実施例
を説明するためのグラフである。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03B 8/02 C03B 37/016
Claims (1)
- 【請求項１】少なくとも一種の金属アルコキシドと少な
くとも一種の金属塩とを任意の比率で加えてゾルを調製
する工程と、前記ゾルをゲル化させた後、前記ゲルを前
記金属塩を溶出する溶液に浸漬する工程とを有すること
を特徴とする屈折率分布型光学素子の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2162140A JP3043781B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 屈折率分布型光学素子の製造方法 |
| US08/004,631 US5254148A (en) | 1990-06-20 | 1993-01-14 | Method of manufacturing distributed index optical elements |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2162140A JP3043781B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 屈折率分布型光学素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0455326A JPH0455326A (ja) | 1992-02-24 |
| JP3043781B2 true JP3043781B2 (ja) | 2000-05-22 |
Family
ID=15748797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2162140A Expired - Fee Related JP3043781B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 屈折率分布型光学素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3043781B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2727053B2 (ja) * | 1993-12-27 | 1998-03-11 | 東亜機工 株式会社 | パンティライナーおよびその製造装置 |
-
1990
- 1990-06-20 JP JP2162140A patent/JP3043781B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0455326A (ja) | 1992-02-24 |
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