JPS6366390B2 - - Google Patents

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JPS6366390B2
JPS6366390B2 JP55175235A JP17523580A JPS6366390B2 JP S6366390 B2 JPS6366390 B2 JP S6366390B2 JP 55175235 A JP55175235 A JP 55175235A JP 17523580 A JP17523580 A JP 17523580A JP S6366390 B2 JPS6366390 B2 JP S6366390B2
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JP
Japan
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workpiece
metal
ionic species
titanium
light
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JP55175235A
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JPS5693870A (en
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Deiianarii Jofurii
Eruin Jeemusu Watokinsu Robaato
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YUNAITETSUDO KINGUDAMU ATOMITSUKU ENAAJI OOSORITEI
Original Assignee
YUNAITETSUDO KINGUDAMU ATOMITSUKU ENAAJI OOSORITEI
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Publication date
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C10/00—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/902—Metal treatment having portions of differing metallurgical properties or characteristics
    • Y10S148/903—Directly treated with high energy electromagnetic waves or particles, e.g. laser, electron beam
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12771—Transition metal-base component
    • Y10T428/12806—Refractory [Group IVB, VB, or VIB] metal-base component

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はチタンおよびその合金の耐摩耗性の改
良に係る。
チタンおよびその合金は軽量性および強度など
の点において優れた特性を有しているが、これら
は接着摩耗並びに摩損し易い傾向がある。これら
の問題点を克服する試みの中で、ある形式もしく
は他の形式の表面被膜が、しばしば適用されてい
る。しかしながら、これら被膜はしばしば、該被
膜が脆くかつ被膜物体に対する貧弱な接着性を有
するという、別の問題を持ち込む。
本発明によれば、チタンおよびその合金の耐摩
耗性を改良する方法が提供され、該方法は、チタ
ンまたはチタンの合金製で、かつ摩耗に付される
工作物の表面を所定の金属の層で被覆し、次いで
該被覆表面を軽質種のイオンによる衝撃に付し
て、該金属を上記工作物中に移動させる操作を含
む。
適当な金属は錫またはアルミニウムである。使
用し得る他の金属は鉄、銅、ニツケル、亜鉛、ジ
ルコニウムまたはプラチナである。
本発明の目的に対して、用語「軽質」は移植中
に上記表面の有害な程度のスパツターを生ずるに
は不十分な質量を有するイオン種を意味する。こ
のようなイオン種は不活性または治金学的に活性
な物質のイオンであり得る。好ましいイオン種は
N+、B+、C+、またはNe+である。錫の処理すべ
き工作物中への移動は、該工作物の温度を少なく
とも400℃、好ましくは約600℃にまで高めた際に
容易となる。これは、該工作物の温度を所定のレ
ベルにまで高めるように、強力なレベルでイオン
衝撃を行うか、もしくは該工作物を加熱するよう
に手はずを整えることにより行うことができる。
以下、本発明を、本発明の実施態様の製造工程
を模式的に示す添付図を参照しつつ、実例によつ
て記載する。
約400Åの錫層１を、チタン合金の研磨された
円板３の表面領域２上に、真空下での電子ビーム
蒸発により蒸着した。これは、半導体技術分野に
おいて良く知られている方法であり、従つてここ
に記載する必要はないものと考える。該チタン合
金は重量基準で６％のアルミニウムと４％のバナ
ジウムを含有していた。次いで、該円板３をエネ
ルギー400KeVを有する窒素分子イオンのビーム
４による衝撃に付した。該イオンビーム４の電流
密度は約30μA／cm2であり、該衝撃は１cm2当たり
４×1017N2 +イオンなる照射線量が移植されるま
で続けた。このイオン衝撃中、該円板の温度は約
600℃の温度にまで高められた。錫の層１はもは
や円板３の表面上にはなく、埋没した層５が形成
された。ラザフオード（Rutherford）の後方散
乱法による層５の分析は、錫がチタン中に数千Å
なる深さに亘り浸入していることを示し、これは
移植のメカニズムがイオン衝撃に基く反動のみに
よるとした場合に期待される深さよりもかなり深
かつた。
該円板の摩耗特性は、従つて標準的方法によつ
て測定され、該方法では負荷を有するピンを該円
板に向け、一方で該ピンは回転しており、それに
よつて該ピンは該円板の処理部分と未処理部分と
の両者に負荷を与えた。該ピンは直径１mmの未処
理のチタン合金の円筒であり、５〜20Nの範囲の
負荷が掛けられていた。該ピンと該円板との間の
相対速度は6.8cm／秒であつた。冷却しかつ摩滅
屑を除去するという目的でホワイトスピリツト
（61重量％のパラフインと20重量％のナフテンと
19重量％の芳香族炭化水素との混合物）を使用し
た。
該円板の未処理領域はチタンに典型的な摩耗特
性、即ち摩耗速度が高く、かつ時間と共に増大
し、ひどい摩損を伴うことを示した。負荷5Nに
て１時間に亘る試験期間中における体積摩耗因
子、Ｋ、は１×10-6であることがわかつた。Ｋは
次式によつて定義される： Ｋ＝除去された体積／見掛けの接触面積×滑り距
離 該円板の処理領域は以下の各試験後において、
測定し得る摩耗を全く示さなかつた： (1) 負荷5Nで、滑り距離3.8×105cm(17時間) (2) 負荷10Nで、滑り距離3.8×105cm(17時間) (3) 負荷20Nで、滑り距離1.2×105cm(5.8時間) (4) 負荷30Nで、滑り距離4.0×104cm( 2時間) これらの試験は同一の試験ピンの同じ端部で、
ただし該円板の異つた部分について行つた。第３
試験後における全試験時間は殆ど40時間である
が、試験ピンの端部の顕微鏡検査は、元の研磨画
線を見ることができ、該試験用ピンと該円板との
間の相対的運動の方向に走つている該画線に重つ
たわずかな摩擦による傷を有していることを示し
た。
30Nの負荷の下での２時間後において、層５の
破壊が生じた。最終的な摩耗因子は通常未処理チ
タンについて観測されたものと同じであつた。
これら測定は、試験１中に摩耗因子Ｋは定常的
に２×10-10未満から約７×10-10まで増大し、該
円板の未処理領域に対す3Kの値よりも約1.4×103
の最終的改良フアクターを与えた。また、試験１
中において、該円板の処理領域の摩擦係数は該円
板の未処理領域の係数のわずかに47％であること
がわかり、かつ時間に伴う変化率が該円板の未処
理領域のそれよりも著しく低いことを示した。全
試験について、摩擦力は負荷の増加に伴つて直線
的に増大することがわかつた。
該円板の処理領域についての後の試験、メスバ
ウアー転化電子顕微鏡、は層５において一般式
TixSnyを有する金属間化合物が形成されている
ことを示した。
【図面の簡単な説明】
添付図は、本発明の具体例の製造段階を示す模
式図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ チタンまたはチタンの合金製であつて、摩擦
    に付される工作物の表面を、選ばれた金属の層で
    被覆し、次いで該被覆表面を軽質種のイオンによ
    る衝撃に付して該工作物中に該金属を移動させる
    操作を含む、チタンおよびその合金の耐摩耗性を
    改良する方法。 ２ 金属がアルミニウム、銅、鉄、錫、ニツケ
    ル、プラチナ、亜鉛およびジルコニウムを含む群
    から選ばれる、特許請求の範囲第１項記載の方
    法。 ３ 金属が錫またはアルミニウムである、特許請
    求の範囲第２項記載の方法。 ４ 軽質イオン種がN+、B+、C+およびNe+を含
    む群から選ばれる、特許請求の範囲第１〜３項の
    いずれかに記載の方法。 ５ 軽質イオン種がN+である、特許請求の範囲
    第４項記載の方法。 ６ 軽質イオン種による衝撃を、１cm2当たり約
    1017イオンの照射線量が工作物中に移植されるま
    で続ける、特許請求の範囲第１〜５項のいずれか
    に記載の方法。 ７ 工作物の軽質イオン種による衝撃を行いつ
    つ、該工作物の温度を少なくとも400℃に高める、
    特許請求の範囲第１項〜６項のいずれかに記載の
    方法。 ８ 工作物の温度を600℃に高める、特許請求の
    範囲第７項記載の方法。 ９ 軽質イオン種による衝撃を、工作物の温度が
    所定のレベルに上昇するように、強力なレベルで
    行う、特許請求の範囲第７または８項記載の方
    法。 １０ 工作物をエネルギー400KeVおよび電流密
    度30μA／cm2を有するイオンのビームで衝撃する、
    特許請求の範囲第９項記載の方法。
JP17523580A 1979-12-13 1980-12-11 Titanium and improvement of titanium alloy Granted JPS5693870A (en)

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GB7943049 1979-12-13

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Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4364969A (en) * 1979-12-13 1982-12-21 United Kingdom Atomic Energy Authority Method of coating titanium and its alloys
US4526624A (en) * 1982-07-02 1985-07-02 California Institute Of Technology Enhanced adhesion of films to semiconductors or metals by high energy bombardment
US4540607A (en) * 1983-08-08 1985-09-10 Gould, Inc. Selective LPCVD tungsten deposition by the silicon reduction method
GB8405170D0 (en) * 1984-02-28 1984-04-04 Atomic Energy Authority Uk Titanium alloy hip prosthesis
US4565710A (en) * 1984-06-06 1986-01-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Process for producing carbide coatings
JPH0647291B2 (ja) * 1984-08-17 1994-06-22 京セラ株式会社 サ−マルヘツド
GB8423255D0 (en) * 1984-09-14 1984-10-17 Atomic Energy Authority Uk Surface treatment of metals
US4568396A (en) * 1984-10-03 1986-02-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Wear improvement in titanium alloys by ion implantation
JPS61204372A (ja) * 1985-03-06 1986-09-10 Univ Osaka 電子線による異種原子の固体内注入を利用した材料の非晶質化方法
JPH0711289B2 (ja) * 1985-08-15 1995-02-08 石川島播磨重工業株式会社 スラスト玉軸受
US5250327A (en) * 1986-04-28 1993-10-05 Nissin Electric Co. Ltd. Composite substrate and process for producing the same
US4693760A (en) * 1986-05-12 1987-09-15 Spire Corporation Ion implanation of titanium workpieces without surface discoloration
US4743308A (en) * 1987-01-20 1988-05-10 Spire Corporation Corrosion inhibition of metal alloys
JPH01159364A (ja) * 1987-09-10 1989-06-22 Nippon Steel Metal Prod Co Ltd 耐食性に優れたチタン材の製造方法
DE3742721C1 (de) * 1987-12-17 1988-12-22 Mtu Muenchen Gmbh Verfahren zur Aluminium-Diffusionsbeschichtung von Bauteilen aus Titanlegierungen
US4872922A (en) * 1988-03-11 1989-10-10 Spire Corporation Method and apparatus for the ion implantation of spherical surfaces
US4855026A (en) * 1988-06-02 1989-08-08 Spire Corporation Sputter enhanced ion implantation process
US5068003A (en) * 1988-11-10 1991-11-26 Sumitomo Metal Industries, Ltd. Wear-resistant titanium alloy and articles made thereof
DE3926151C1 (ja) * 1989-02-28 1990-05-10 Mtu Muenchen Gmbh
US4968006A (en) * 1989-07-21 1990-11-06 Spire Corporation Ion implantation of spherical surfaces
US5079032A (en) * 1989-07-21 1992-01-07 Spire Corporation Ion implantation of spherical surfaces
US5152795A (en) * 1990-04-25 1992-10-06 Spire Corporation Surgical implants and method
JP2592961B2 (ja) * 1989-09-14 1997-03-19 株式会社神戸製鋼所 耐摩耗性Ｔｉ又はＴｉ基合金部材
US5123924A (en) * 1990-04-25 1992-06-23 Spire Corporation Surgical implants and method
EP0491075B1 (de) * 1990-12-19 1995-07-05 Asea Brown Boveri Ag Verfahren zur Herstellung einer Turbinenschaufel aus einer Titan-Basislegierung
US5292596A (en) * 1991-05-13 1994-03-08 United Technologies Corporation Force-transmitting surfaces of titanium protected from pretting fatigue by a coating of Co-Ni-Fe
US5154023A (en) * 1991-06-11 1992-10-13 Spire Corporation Polishing process for refractory materials
US5695827A (en) * 1991-07-01 1997-12-09 Boeing North American, Inc. Surface protection of gamma and alpha-2 titanium aluminides by ion implantation
US5272015A (en) * 1991-12-19 1993-12-21 General Motors Corporation Wear resistant hyper-eutectic aluminum-silicon alloys having surface implanted wear resistant particles
ATE180411T1 (de) * 1992-02-07 1999-06-15 Smith & Nephew Inc Oberflächengehärtetes bioverträgliches medizinisches metallimplantat
US5290368A (en) * 1992-02-28 1994-03-01 Ingersoll-Rand Company Process for producing crack-free nitride-hardened surface on titanium by laser beams
US5334264A (en) * 1992-06-30 1994-08-02 Board Of Supervisors Of Louisiana State University And Agricultural And Mechanical College Titanium plasma nitriding intensified by thermionic emission source
US5879760A (en) * 1992-11-05 1999-03-09 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Titanium aluminide articles having improved high temperature resistance
US5980974A (en) * 1996-01-19 1999-11-09 Implant Sciences Corporation Coated orthopaedic implant components
US5894133A (en) * 1996-12-18 1999-04-13 Implant Science Corporation Sputter cathode for application of radioactive material
US6599580B2 (en) 1997-05-01 2003-07-29 Wilson Greatbatch Ltd. Method for improving electrical conductivity of a metal oxide layer on a substrate utilizing high energy beam mixing
US5898178A (en) * 1997-07-02 1999-04-27 Implant Sciences Corporation Ion source for generation of radioactive ion beams
US5834787A (en) * 1997-07-02 1998-11-10 Bunker; Stephen N. Device for measuring flux and accumulated dose for an ion beam containing a radioactive element
US6143141A (en) * 1997-09-12 2000-11-07 Southwest Research Institute Method of forming a diffusion barrier for overlay coatings
US6200649B1 (en) * 1999-07-21 2001-03-13 Southwest Research Institute Method of making titanium boronitride coatings using ion beam assisted deposition
US20030168539A1 (en) * 2000-07-06 2003-09-11 Ulrich Schoof Refiner and method for treating the surface of a tool of a refiner of this type
US20040112476A1 (en) * 2001-07-09 2004-06-17 Geoffrey Dearnaley Life extension of chromium coatings and chromium alloys
US6723177B2 (en) 2001-07-09 2004-04-20 Southwest Research Institute Life extension of chromium coating and chromium alloys
JP4125560B2 (ja) * 2001-08-16 2008-07-30 株式会社神戸製鋼所 耐水素吸収性に優れたチタン合金材
US7338529B1 (en) 2004-03-30 2008-03-04 Biomet Manufacturing Corp. Methods and apparatuses for enhancing prosthetic implant durability
US7922065B2 (en) * 2004-08-02 2011-04-12 Ati Properties, Inc. Corrosion resistant fluid conducting parts, methods of making corrosion resistant fluid conducting parts and equipment and parts replacement methods utilizing corrosion resistant fluid conducting parts
KR101052036B1 (ko) * 2006-05-27 2011-07-26 한국수력원자력 주식회사 고온 내 부식성 향상을 위한 세라믹 코팅 및 이온빔 믹싱장치 및 이를 이용한 박막의 계면을 개질하는 방법
FR2941878B1 (fr) * 2009-02-10 2011-05-06 Quertech Ingenierie Procede de traitement par un faisceau d'ions d'une couche metallique deposee sur un substrat
US10118259B1 (en) 2012-12-11 2018-11-06 Ati Properties Llc Corrosion resistant bimetallic tube manufactured by a two-step process
CA3137607A1 (en) 2019-04-18 2020-10-22 Callidus Welding Solutions Pty Ltd A method for surface modification of titanium and titanium alloy substrates

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4836981A (ja) * 1971-09-13 1973-05-31
JPS53109882A (en) * 1977-03-09 1978-09-26 Toshiba Corp Coating method

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3341352A (en) * 1962-12-10 1967-09-12 Kenneth W Ehlers Process for treating metallic surfaces with an ionic beam
GB1258259A (ja) * 1968-04-05 1971-12-30
US3718502A (en) * 1969-10-15 1973-02-27 J Gibbons Enhancement of diffusion of atoms into a heated substrate by bombardment
US3900636A (en) * 1971-01-21 1975-08-19 Gillette Co Method of treating cutting edges
US3915757A (en) * 1972-08-09 1975-10-28 Niels N Engel Ion plating method and product therefrom
US3988955A (en) * 1972-12-14 1976-11-02 Engel Niels N Coated steel product and process of producing the same
GB1490063A (en) * 1974-11-05 1977-10-26 Atomic Energy Authority Uk Surface wear characteristics of materials by ion implantation
JPS5165039A (ja) * 1974-12-03 1976-06-05 Seiko Instr & Electronics Metsukihoho
US4137370A (en) * 1977-08-16 1979-01-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Titanium and titanium alloys ion plated with noble metals and their alloys
GB2031955B (en) * 1978-10-16 1982-09-08 Atomic Energy Authority Uk Inhibiting fretting corrosion of titanium
US4256780A (en) * 1978-11-02 1981-03-17 Ford Motor Company Metallization process
US4364969A (en) * 1979-12-13 1982-12-21 United Kingdom Atomic Energy Authority Method of coating titanium and its alloys

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4836981A (ja) * 1971-09-13 1973-05-31
JPS53109882A (en) * 1977-03-09 1978-09-26 Toshiba Corp Coating method

Also Published As

Publication number Publication date
DE3046695A1 (de) 1981-09-17
US4465524A (en) 1984-08-14
FR2472032B1 (ja) 1984-10-12
US4364969A (en) 1982-12-21
DE3046695C2 (ja) 1989-03-30
FR2472032A1 (fr) 1981-06-26
JPS5693870A (en) 1981-07-29

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