JPS6366131A - 含フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法 - Google Patents
含フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法Info
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- JPS6366131A JPS6366131A JP12682686A JP12682686A JPS6366131A JP S6366131 A JPS6366131 A JP S6366131A JP 12682686 A JP12682686 A JP 12682686A JP 12682686 A JP12682686 A JP 12682686A JP S6366131 A JPS6366131 A JP S6366131A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、例えば、医農薬の中間体として重要である含
フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法に関する。
フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法に関する。
〈従来の技術〉
近年、芳香族化合物にフッ素含有アルキル基を導入する
ことにより有用な生理活性作用等を示すフッ素含有アル
キル置換芳香族化合物を得ること誌５非常に重要になり
つつある〔石川延男、小林義部著、フッ素の化合物ｐ、
２０２ 講談社サイエンティフィック〕。
ことにより有用な生理活性作用等を示すフッ素含有アル
キル置換芳香族化合物を得ること誌５非常に重要になり
つつある〔石川延男、小林義部著、フッ素の化合物ｐ、
２０２ 講談社サイエンティフィック〕。
従来、パーフルオロアシル化合物を用いて芳香族化合物
の芳香環に直接食フッ素アルキル基を導入する方法とし
てはジ（ペルフルオロアシル）ペルオキシドと芳香族化
合物とを反応させる方法が知られている（特開昭６０−
１７８８２９号公報）。
の芳香環に直接食フッ素アルキル基を導入する方法とし
てはジ（ペルフルオロアシル）ペルオキシドと芳香族化
合物とを反応させる方法が知られている（特開昭６０−
１７８８２９号公報）。
〈発明が解決しようとする問題点〉
しかしながら上記の方法は、反応試剤の安定性、工業規
模での製造時における爆発の危険性などの点で必ずしも
満足すべきものではない。
模での製造時における爆発の危険性などの点で必ずしも
満足すべきものではない。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明者らは、芳香族化合物の芳香環に含フツ素脂肪族
残基を導入する方法につき鋭意検討の結果、電子吸引性
基を有する芳香族化合物と含フツ素脂肪族カルボン酸と
をキセノンシフロリドの存在下に、反応させることによ
り、その中でも５個以下の炭素原子を有する含フツ素ア
ルキルカルボン酸を用いた際、操作的にも容易にその目
的物が得られることを見出し本発明に至った。
残基を導入する方法につき鋭意検討の結果、電子吸引性
基を有する芳香族化合物と含フツ素脂肪族カルボン酸と
をキセノンシフロリドの存在下に、反応させることによ
り、その中でも５個以下の炭素原子を有する含フツ素ア
ルキルカルボン酸を用いた際、操作的にも容易にその目
的物が得られることを見出し本発明に至った。
すなわち、本発明は、一般式
％式％
〔式中、Ａｒは、フェニル基、フリル基、チェニル基、
２−ヒドロキシピリジル基、ピラゾール基、ナフチル基
、インデニル基、インダニル基、オキサシリル基、イソ
オキサシリル基、チアゾリル基、ベンゾオキサシリル基
およびベンゾチアゾリル基から成る群から選ばれた芳香
族基を表わし、Ｘはハロゲン原子、アセトアミノ基、シ
アノ基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、トリフ
ルオロメチル基およびニトロ基から成る群から選ばれた
電子吸引性基を表わし、ｎは１または２を表わす。］ で示される芳香族化合物と一般式 ％式％ ｃ式中、Ｒｆは、５個以下の炭素原子を有する含フツ素
脂肪族残基を表わす。〕 で示される脂肪族カルボン酸とをキセノンシフロリドの
存在下に反応させることにより、一般式 ％式％ ［式中、ＲｆｌＡｒｌＸおよびｎは、前記と同じ意味を
表わす□。］ で示される含フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法を提
供するものである。
２−ヒドロキシピリジル基、ピラゾール基、ナフチル基
、インデニル基、インダニル基、オキサシリル基、イソ
オキサシリル基、チアゾリル基、ベンゾオキサシリル基
およびベンゾチアゾリル基から成る群から選ばれた芳香
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アノ基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、トリフ
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脂肪族残基を表わす。〕 で示される脂肪族カルボン酸とをキセノンシフロリドの
存在下に反応させることにより、一般式 ％式％ ［式中、ＲｆｌＡｒｌＸおよびｎは、前記と同じ意味を
表わす□。］ で示される含フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法を提
供するものである。
以下に本発明について詳しく説明する。
本発明において用いうる脂肪族カルボン酸としては直鎖
または分岐の含フツ素脂肪族カルボン酸があげられる。
または分岐の含フツ素脂肪族カルボン酸があげられる。
また、上記脂肪族カルボン酸のカルボキシル基のα位炭
素の水素原子がフッ素原子で置換されていることが好ま
しい。
素の水素原子がフッ素原子で置換されていることが好ま
しい。
尚、本発明に用いうるキセノンシフロリドは例えば、キ
セノンとフッ素との光学合成法［Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ
５ｙｎｔｈｅｓｉｓ ： Ｖｏｌ、 １１． Ｍ
ｃ ＧｒａｗＨｉｌｌ、 Ｎｅｗ ’Ｙｏｒｋ、 １４
７． （１９６８） ］により合成して用いるか、市販
品（ＰＣＲ社）を用いることができる。
セノンとフッ素との光学合成法［Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ
５ｙｎｔｈｅｓｉｓ ： Ｖｏｌ、 １１． Ｍ
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７． （１９６８） ］により合成して用いるか、市販
品（ＰＣＲ社）を用いることができる。
本発明に於いて、用いられる試剤の量は、芳香族化合物
に対して、キセノンシフロリドおよび含フツ素脂肪族カ
ルボン酸はモル比で夫々１．０〜１０倍の範囲、好まし
くは１．０〜５．０倍の範囲である。
に対して、キセノンシフロリドおよび含フツ素脂肪族カ
ルボン酸はモル比で夫々１．０〜１０倍の範囲、好まし
くは１．０〜５．０倍の範囲である。
本発明の反応温度および反応時間は、一般的には、夫々
−１０〜８０℃の範囲、１〜２０時間の範囲で充分その
目的を達することができる。
−１０〜８０℃の範囲、１〜２０時間の範囲で充分その
目的を達することができる。
本発明の反応は、標準的には不活性溶媒中で行なわれる
が、該反応に使用しうる溶媒としては、例えば、ジクロ
ルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロ
ルエタン、トリクレンまたはジフルオロジクロルエタン
等のハロゲン化炭化水素等があげられる。
が、該反応に使用しうる溶媒としては、例えば、ジクロ
ルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロ
ルエタン、トリクレンまたはジフルオロジクロルエタン
等のハロゲン化炭化水素等があげられる。
〈発明の効果〉
本発明によれば、含フツ素脂肪族置換芳香族化合物を操
作的にも容易に得ることができる。
作的にも容易に得ることができる。
〈実施例〉
以下に実施例をあげて本発明をよりくわしく説明する。
実施例１
４−メチル安息香酸メチル１．５０ｆ（１０ｍｍｏｌ
）およびＩ・リフルオロ酢酸２．２８１？（２０ｍｍ
ｏｌ ）のジクロロメタン溶液２０ｍ１をアルゴン雰
囲気下、室温でキセノンシフロリド８．８８１ （２０
ｍｍｏｌ ）を５回に分けて加えた。この時加えるた
びに多量のガスを発生し、発熱を起こす力ζ゛その都度
、ガス発生が終了するまで室温で攪拌した。その後、さ
らに室温下、５時間攪拌した。
）およびＩ・リフルオロ酢酸２．２８１？（２０ｍｍ
ｏｌ ）のジクロロメタン溶液２０ｍ１をアルゴン雰
囲気下、室温でキセノンシフロリド８．８８１ （２０
ｍｍｏｌ ）を５回に分けて加えた。この時加えるた
びに多量のガスを発生し、発熱を起こす力ζ゛その都度
、ガス発生が終了するまで室温で攪拌した。その後、さ
らに室温下、５時間攪拌した。
反応混合液を水２０−に注ぎ、ジクロロメタンで抽出、
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、戸別し、ジクロロ
メタンを減圧留去し、生成物２．１９を得た。
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、戸別し、ジクロロ
メタンを減圧留去し、生成物２．１９を得た。
得られた生成物をシリカゲルクロマトグラフィー［展開
溶媒；ヘキサンニエーテル（１０：１）〕で精製を行い
、４−メチル−２−トリフルオロメチル安息香酸メチル
および４−メチル−３−トリフルオロメチル安息香酸メ
チルの混合物０．７８Ｆ［収率３３％、ガスクロマトグ
ラフィーにより２−トリフルオロメチル体：３−トリフ
ルオロメチル体（４０：６０）コおよび原料のｐ−メチ
ル安息香酸メチル０．６ｇ（回収率４０％）を回収した
。
溶媒；ヘキサンニエーテル（１０：１）〕で精製を行い
、４−メチル−２−トリフルオロメチル安息香酸メチル
および４−メチル−３−トリフルオロメチル安息香酸メ
チルの混合物０．７８Ｆ［収率３３％、ガスクロマトグ
ラフィーにより２−トリフルオロメチル体：３−トリフ
ルオロメチル体（４０：６０）コおよび原料のｐ−メチ
ル安息香酸メチル０．６ｇ（回収率４０％）を回収した
。
生成物の物性を以下に示す。 ノ実施例２
４−クロロベンズニトリル１．３７ｆ（１０ｍｍｏ １
）およびトリフルオロ酢酸２．２８１２０ｍｍｏ ｌ
）のジクロロメタン溶液２０−をアルゴン雰囲気下、
室温でキセノンシフロリド５．０７１ （８０ｍｍｏｌ
）を３回にわけて加えた。この時加えるたびに多量
のガスを発生し、発熱を起こすが、その都度、ガス発生
が終了するまで室温で攪拌した。その後さらに室温下１
０時間攪拌した。
）およびトリフルオロ酢酸２．２８１２０ｍｍｏ ｌ
）のジクロロメタン溶液２０−をアルゴン雰囲気下、
室温でキセノンシフロリド５．０７１ （８０ｍｍｏｌ
）を３回にわけて加えた。この時加えるたびに多量
のガスを発生し、発熱を起こすが、その都度、ガス発生
が終了するまで室温で攪拌した。その後さらに室温下１
０時間攪拌した。
反応混合液を水２０−に注ぎ、ジクロロメタンで抽出、
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、炉別し、ジクロロ
メタンを減圧留去し生成物２．１６ ｇを得た。
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、炉別し、ジクロロ
メタンを減圧留去し生成物２．１６ ｇを得た。
得られた 生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（展
開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル（１０：１））で精製を
行い、４−クロロ−３−トリフルオロメチルベンズニト
リル０，４７ｙ（収率２３％）および原料の４−クロロ
ベンゾニトリル１．０５ｙ（回収率４６％）を回収した
。
開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル（１０：１））で精製を
行い、４−クロロ−３−トリフルオロメチルベンズニト
リル０，４７ｙ（収率２３％）および原料の４−クロロ
ベンゾニトリル１．０５ｙ（回収率４６％）を回収した
。
生成物の物性を以下に示す。
ガスクロマトグラフ イー ［０Ｖ−１７（５０％）、
１．６ｍ、カラム温度１２０°Ｃ，Ｎ２流量５０ｍ１／
ｍｉｎコ保持時間３．６７分 ’９ Ｆ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔａ中、ＣＦ３Ｃ
Ｏ２Ｈ内部標準） δ１５゜Ｏｐｐｍ （Ｓ、３Ｆ） Ｇ、Ｃ、−Ｍａｓｓ スペクトル ２０５（Ｖ＋）、１
８６，１７０実施例３ ４−クロロアセトアニリド０．５１Ｖ（２，９５皿ｏ１
）、トリフルオロ酢酸０．６７ｇ（５，９０ｍｍｏ １
）およびキセノンシフロリド１．Ｏｇ（５，９０ｍｍ
ｏｌ）を用い、実施例１と同様の方法にて反応を行い、
生成物０．８７１を得た。
１．６ｍ、カラム温度１２０°Ｃ，Ｎ２流量５０ｍ１／
ｍｉｎコ保持時間３．６７分 ’９ Ｆ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔａ中、ＣＦ３Ｃ
Ｏ２Ｈ内部標準） δ１５゜Ｏｐｐｍ （Ｓ、３Ｆ） Ｇ、Ｃ、−Ｍａｓｓ スペクトル ２０５（Ｖ＋）、１
８６，１７０実施例３ ４−クロロアセトアニリド０．５１Ｖ（２，９５皿ｏ１
）、トリフルオロ酢酸０．６７ｇ（５，９０ｍｍｏ １
）およびキセノンシフロリド１．Ｏｇ（５，９０ｍｍ
ｏｌ）を用い、実施例１と同様の方法にて反応を行い、
生成物０．８７１を得た。
得られた生成物をシリカゲルクロマＩ・グラフィー（展
開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル（５：１））で精製を行
い、４−クロロ−２−トリフルオロメチル−アセトアニ
リド２６６〜（収率３８％）および４−クロロ−３−１
〜リフルオロメチル−アセトアニリド１０９■（収率１
６％）を得た。また原料の４−クロロアセトアニリド１
３５ ｍｇ （回収率２７％）を回収した。
開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル（５：１））で精製を行
い、４−クロロ−２−トリフルオロメチル−アセトアニ
リド２６６〜（収率３８％）および４−クロロ−３−１
〜リフルオロメチル−アセトアニリド１０９■（収率１
６％）を得た。また原料の４−クロロアセトアニリド１
３５ ｍｇ （回収率２７％）を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
尚、”Ｆ−ＮＭＨのδ値は、内部標準の低磁場側を正値
で表わし、以下の実施例も同じ意味を表わす。
で表わし、以下の実施例も同じ意味を表わす。
実施例４
メチルフロエート（２−フリルカルボン酸メチルエステ
ル） １．２６１ｉ’ （１０ｍｍｏｌ）、トリフルオ
ロ酢酸２．２８ｇ（２０ｍｍｏｌ）およびキセノンシフ
ロリド８．８８１ （２０ｍｍｏｌ）を実施例１と同様
にして反応を行い、得られた生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル（１０
：１））にて精製し、２−メトキシカルボニル−５−ド
リフルオロメチルフラン０．８１Ｆ（収率４２％〕を得
た。また、原料のメチルフロエート０、５０４ Ｆ！
（回収率４０％）を回収した。
ル） １．２６１ｉ’ （１０ｍｍｏｌ）、トリフルオ
ロ酢酸２．２８ｇ（２０ｍｍｏｌ）およびキセノンシフ
ロリド８．８８１ （２０ｍｍｏｌ）を実施例１と同様
にして反応を行い、得られた生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル（１０
：１））にて精製し、２−メトキシカルボニル−５−ド
リフルオロメチルフラン０．８１Ｆ（収率４２％〕を得
た。また、原料のメチルフロエート０、５０４ Ｆ！
（回収率４０％）を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
ガスク０７トグラ７ イー （ＸＥ−６０（１０％）、
１．６ ｍ Ｎ カフ ム温度１００ ’Ｃ１Ｎ２流量
５０ｍ７！／ｍ１ｎ）保持時間１．４３分 １９Ｆ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔＢ中、ＣＦ３ＣＯ
２Ｈ内部標準）δ１４．５１）Ｉ）ｍ （Ｓ、８Ｆ） ’ Ｉ（−ＮＭ Ｒスペクトル（ＣＤＣｔｓ中、テトラ
メチノＶ、ラン内部標準） δ ７．１０〜７．３０ ｐｐｍ（ｍ、ＬＨ）、６７０
〜６．９０Ｔ）Ｔ）ｍ（ｍ、ｉｎ）、３．９０１）Ｉ）
ｍ （ｓ 、 ３Ｈ）Ｇ、Ｃ，−Ｍａｓｓ：ｙ、ベクト
ル １．９４ＣＭ＋）実施例５ メチルフロエート（２−フリルカルボン酸ヨヒキセノン
ジフロリド３．８８ ｙ（２０ｍｍｏｌ）を実施例１と
同様にして反応を行い、得られた生成物をシリカゲルク
ロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル（
１０：ｇ（収率２７％）を得た。また、原料のメチルフ
ロエート０．７０６ｇ（回収率５６％）を回収した。
１．６ ｍ Ｎ カフ ム温度１００ ’Ｃ１Ｎ２流量
５０ｍ７！／ｍ１ｎ）保持時間１．４３分 １９Ｆ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔＢ中、ＣＦ３ＣＯ
２Ｈ内部標準）δ１４．５１）Ｉ）ｍ （Ｓ、８Ｆ） ’ Ｉ（−ＮＭ Ｒスペクトル（ＣＤＣｔｓ中、テトラ
メチノＶ、ラン内部標準） δ ７．１０〜７．３０ ｐｐｍ（ｍ、ＬＨ）、６７０
〜６．９０Ｔ）Ｔ）ｍ（ｍ、ｉｎ）、３．９０１）Ｉ）
ｍ （ｓ 、 ３Ｈ）Ｇ、Ｃ，−Ｍａｓｓ：ｙ、ベクト
ル １．９４ＣＭ＋）実施例５ メチルフロエート（２−フリルカルボン酸ヨヒキセノン
ジフロリド３．８８ ｙ（２０ｍｍｏｌ）を実施例１と
同様にして反応を行い、得られた生成物をシリカゲルク
ロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル（
１０：ｇ（収率２７％）を得た。また、原料のメチルフ
ロエート０．７０６ｇ（回収率５６％）を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
１９Ｆ−ＮＭ几スペクトル（ＣＤＣｔｓ中、ＣＦａＣ（
Ｊｚ丁■内部標準）δ −２，５ｐｐｍ（ｍ、 ｇＦ）
、−３３，０ｐｐｍ（ｍ、 ２Ｆ ）、λ −４５，０ｐｐｍ（ｍ 、 ｆｆＦ） ’Ｈ−ＮＭＢ、スペクトル（ＣＤＣＬ８中、テトラメチ
ルシラン内部標準） δ ７．２０〜７Ｊ５ ｐｐｍ （ｍ 、 １．Ｈ）
、６９０〜７．０５１）ｒ）ｍ（ｍ、 ＩＨ）、３．９
８１）ｐｍ （ｓ 、 ３Ｈ）Ｇ、Ｃ，−ＭａＳＳスペ
クトル ３９５（Ｍ＋）実施例６ ２−フルフラール０．９６１ｉ’ （１０ｍｍｏｌ）、
トリフルオロ酢酸２．２８１ （２０ｍｍｏｌ）および
キセノンシフロリド（８，３８ｆ／ 、 ２０ｍｍｏｌ
）を実施例１と同様の方法にて反応を行い、得られた生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒
；ヘキサン：酢酸エチル（１０：１））で精製を行い、
２−ホルミル−５−トリフルオロメチルフラン０．５８
ｆ／（収率３５％）を得た。また、原料の２−フルフ
ラール０．４２２ＩＣ回収率４４％）を回収した。
Ｊｚ丁■内部標準）δ −２，５ｐｐｍ（ｍ、 ｇＦ）
、−３３，０ｐｐｍ（ｍ、 ２Ｆ ）、λ −４５，０ｐｐｍ（ｍ 、 ｆｆＦ） ’Ｈ−ＮＭＢ、スペクトル（ＣＤＣＬ８中、テトラメチ
ルシラン内部標準） δ ７．２０〜７Ｊ５ ｐｐｍ （ｍ 、 １．Ｈ）
、６９０〜７．０５１）ｒ）ｍ（ｍ、 ＩＨ）、３．９
８１）ｐｍ （ｓ 、 ３Ｈ）Ｇ、Ｃ，−ＭａＳＳスペ
クトル ３９５（Ｍ＋）実施例６ ２−フルフラール０．９６１ｉ’ （１０ｍｍｏｌ）、
トリフルオロ酢酸２．２８１ （２０ｍｍｏｌ）および
キセノンシフロリド（８，３８ｆ／ 、 ２０ｍｍｏｌ
）を実施例１と同様の方法にて反応を行い、得られた生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒
；ヘキサン：酢酸エチル（１０：１））で精製を行い、
２−ホルミル−５−トリフルオロメチルフラン０．５８
ｆ／（収率３５％）を得た。また、原料の２−フルフ
ラール０．４２２ＩＣ回収率４４％）を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
ガスクロマトグラフィー［ＸＥ−６０（１０％）、１、
６ ｍ １力ラム温度１００°Ｃ，Ｎ２流量５０ｍＡ／
分］保持時間０．９６分 ’Ｉ（−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔＢ中、テトラメチ
ルシラン内部標準） δ ９．８０ Ｔ）Ｉ）ｍ（Ｓ 、 ＩＩ（）、７．
２５〜７．８５ｐｐｍ（ｍ、 ＩＩ−Ｉ）、６．９５〜
７．１０ｐＩ）ｍ（ｍ、 ＩＩ（）Ｇ、Ｃ−ＭａＳＳス
ペクトル １６４（Ｍ＋）実施例７ ２−メトキシカルボニルチオフェン０．７１ｆ（５皿ｏ
１）、トリフルオロ酢酸１．１４ｇ（１０ｍｍｏｌ）お
よびキセノンシフロリド１．６９ｆ （１０ｍｍｏｌ）
を実施例１と同様の方法にて反応を行い、得られた生成
物をシリカゲルクロマトグラフィ＝（展開溶媒警ヘキサ
ン：酢酸エチル（１０：１））で精製を行い、２−メト
キシカルボニル−５−トリフルオロメチルチオフェン０
．３３／！（収率３１％）を得た。
６ ｍ １力ラム温度１００°Ｃ，Ｎ２流量５０ｍＡ／
分］保持時間０．９６分 ’Ｉ（−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔＢ中、テトラメチ
ルシラン内部標準） δ ９．８０ Ｔ）Ｉ）ｍ（Ｓ 、 ＩＩ（）、７．
２５〜７．８５ｐｐｍ（ｍ、 ＩＩ−Ｉ）、６．９５〜
７．１０ｐＩ）ｍ（ｍ、 ＩＩ（）Ｇ、Ｃ−ＭａＳＳス
ペクトル １６４（Ｍ＋）実施例７ ２−メトキシカルボニルチオフェン０．７１ｆ（５皿ｏ
１）、トリフルオロ酢酸１．１４ｇ（１０ｍｍｏｌ）お
よびキセノンシフロリド１．６９ｆ （１０ｍｍｏｌ）
を実施例１と同様の方法にて反応を行い、得られた生成
物をシリカゲルクロマトグラフィ＝（展開溶媒警ヘキサ
ン：酢酸エチル（１０：１））で精製を行い、２−メト
キシカルボニル−５−トリフルオロメチルチオフェン０
．３３／！（収率３１％）を得た。
また、原料の２−メトキシカルボニルチオフェン０．３
５５１９（回収率５０％）を回収した。
５５１９（回収率５０％）を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
１９Ｆ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣＬＢ中、ＣＦ３ＣＯ
２ＨＩ内部標準）δ １８．５１）Ｔ）ｍ（ｓ、８Ｆ
）ＩＨ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｂｓ中、テトラメチ
ルシラン内部標準） δ ７−２０〜７．４０ ｐｐ ｍ （ｍｍ ２Ｈ）
、３．８５Ｉ）Ｉ）ｍ（Ｓ、３Ｉ（）実施例８ ２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルピリジン０．
８１ｇ（５皿ｏ１）、トリフルオロ様の方法にて反応を
行い、得られた生成物をシリカゲルクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル（５：１））で精製
を行い、２−ヒドロキシ−３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）ピリジンＯ１４６ｇ（収率４０％）を得た。ま
た、原料の２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルピ
リジン０．３１６１７（回収率３９％）を回収した。
２ＨＩ内部標準）δ １８．５１）Ｔ）ｍ（ｓ、８Ｆ
）ＩＨ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｂｓ中、テトラメチ
ルシラン内部標準） δ ７−２０〜７．４０ ｐｐ ｍ （ｍｍ ２Ｈ）
、３．８５Ｉ）Ｉ）ｍ（Ｓ、３Ｉ（）実施例８ ２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルピリジン０．
８１ｇ（５皿ｏ１）、トリフルオロ様の方法にて反応を
行い、得られた生成物をシリカゲルクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル（５：１））で精製
を行い、２−ヒドロキシ−３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）ピリジンＯ１４６ｇ（収率４０％）を得た。ま
た、原料の２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルピ
リジン０．３１６１７（回収率３９％）を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
１９Ｆ−ＮＭ几スペクトル（ＣＤＣＡ８中、ＣＦ３ＣＯ
２Ｈ内部標準）δ １６．５］：ｌ）ｍ（ｓ 、 ３
Ｆ ）、１６．０ ｐｐｍ（ｓ 、 ８Ｆ ）１Ｈ−Ｎ
ＭＲスペクトル（ＣＤＣ１ａ中、テトラメチノシラΔ内
部標準）δ ８．００ｐｐｍ（ｂｒｓ、３Ｈ）実施
例９ ２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルシフロリド１
．６９１ｉ’ （１０ｍｍｏｌ）を実施例１と同様の方
法にて反応を行い、得られた生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル（５：
１））で精ジン０．５６１ （収率１７％）を得た。ま
た、原料の２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルピ
リジン０．４９４ｇ（回収率６１％）を回収した。
２Ｈ内部標準）δ １６．５］：ｌ）ｍ（ｓ 、 ３
Ｆ ）、１６．０ ｐｐｍ（ｓ 、 ８Ｆ ）１Ｈ−Ｎ
ＭＲスペクトル（ＣＤＣ１ａ中、テトラメチノシラΔ内
部標準）δ ８．００ｐｐｍ（ｂｒｓ、３Ｈ）実施
例９ ２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルシフロリド１
．６９１ｉ’ （１０ｍｍｏｌ）を実施例１と同様の方
法にて反応を行い、得られた生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル（５：
１））で精ジン０．５６１ （収率１７％）を得た。ま
た、原料の２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルピ
リジン０．４９４ｇ（回収率６１％）を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
１９Ｆ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔＢ中、ＣＦ８ＣＵ
２Ｈ内部標準）δ −１７ｐｐｍ（ｍ、ｉＦ）、−３３
，０ｐｐｍ（ｍ、 ２Ｆ ）、−４５，０ｐｐｍ（ｍ、
８Ｆ） ’Ｈ−ＮＭＩ（スペクトル（ＣＤＣ１ａ中、テトラメチ
ＪＬＬラン内部標準）δ ８．１０ ｐｐｍ（ｂｒ
ｓ、３Ｈ）実施例１０ エチル１，３−ジメチル−４−ピラゾールカルボキシレ
ート６５０７ｎｆ （８，９ｍｍｏｌ）、トリフルオロ
酢酸１． Ｏｆ （８，８ｍｍｏｌ）およびキセノンシ
フロリド６６０ ｍ９ （８，９ｍｍｏｌ）を実施例１
と同様の方法により反応を行ない、得られた生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘ
キサン：酢酸エチル（５：１））で精製を行ないエチル
１゜３−ジメチル−５−トリフルオロメチル−４−ピラ
ゾールカルボキシレート１４０ ｍｆｌ （収率１５％
）及び原料のエチル１，３−ジメチル−４−ピラゾール
カルボキシレート５００■（回収率７７％）を得た。
２Ｈ内部標準）δ −１７ｐｐｍ（ｍ、ｉＦ）、−３３
，０ｐｐｍ（ｍ、 ２Ｆ ）、−４５，０ｐｐｍ（ｍ、
８Ｆ） ’Ｈ−ＮＭＩ（スペクトル（ＣＤＣ１ａ中、テトラメチ
ＪＬＬラン内部標準）δ ８．１０ ｐｐｍ（ｂｒ
ｓ、３Ｈ）実施例１０ エチル１，３−ジメチル−４−ピラゾールカルボキシレ
ート６５０７ｎｆ （８，９ｍｍｏｌ）、トリフルオロ
酢酸１． Ｏｆ （８，８ｍｍｏｌ）およびキセノンシ
フロリド６６０ ｍ９ （８，９ｍｍｏｌ）を実施例１
と同様の方法により反応を行ない、得られた生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘ
キサン：酢酸エチル（５：１））で精製を行ないエチル
１゜３−ジメチル−５−トリフルオロメチル−４−ピラ
ゾールカルボキシレート１４０ ｍｆｌ （収率１５％
）及び原料のエチル１，３−ジメチル−４−ピラゾール
カルボキシレート５００■（回収率７７％）を得た。
生成物の物性を以下に示す。
１９Ｆ−ＮＭ几スペクトル（ｃＤｃｚａ中、ＣＦｓＣＯ
２Ｈ内部標準）δ ２１．Ｏｐｐｍ （ｍ 、 ８Ｆ
）’Ｅｉ−ＮＭＢ、スペクトル（ＣＤＣｔＢ中、テトラ
メチノＶ、ラン内部標準）δ ４．３５（ｑ、２Ｈ）
、４．００ （ｍ、 ３ｉ（）、２．４５ （ｓ 、
８Ｈ）、 １．４０ （ｔ 、 ３Ｈ）実施例１１ エチル１，５−ジメチル−４−ピラゾールカルボキシレ
ート８５０１Ｗ（２，１ｍｍｏｌ）、トリフルオロ酢酸
０．５ＩＣ４，４皿ｏ１）及びキセノンシフロリド８５
５ Ｑ （２，１ｍｍｏｌ）を実施例１と同様の方法に
より反応を行ない、得られた生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル（３：１））で精製を行ないエチル１，５−ジメチ
ル−３−トリフルオロメチル−４−ビラゾールカルボキ
シレート８０■（収率１６％）及び原料であるエチル１
，５−ジメチル−４−ピラゾールカルボキシレート２５
０ｑ（回収率７１％）を回収した。
２Ｈ内部標準）δ ２１．Ｏｐｐｍ （ｍ 、 ８Ｆ
）’Ｅｉ−ＮＭＢ、スペクトル（ＣＤＣｔＢ中、テトラ
メチノＶ、ラン内部標準）δ ４．３５（ｑ、２Ｈ）
、４．００ （ｍ、 ３ｉ（）、２．４５ （ｓ 、
８Ｈ）、 １．４０ （ｔ 、 ３Ｈ）実施例１１ エチル１，５−ジメチル−４−ピラゾールカルボキシレ
ート８５０１Ｗ（２，１ｍｍｏｌ）、トリフルオロ酢酸
０．５ＩＣ４，４皿ｏ１）及びキセノンシフロリド８５
５ Ｑ （２，１ｍｍｏｌ）を実施例１と同様の方法に
より反応を行ない、得られた生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル（３：１））で精製を行ないエチル１，５−ジメチ
ル−３−トリフルオロメチル−４−ビラゾールカルボキ
シレート８０■（収率１６％）及び原料であるエチル１
，５−ジメチル−４−ピラゾールカルボキシレート２５
０ｑ（回収率７１％）を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
１９Ｆ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣＡａ中、ＣＦｓＣＯ
２■内部標準）δ １６．５ｐｐｍ （Ｓ、３Ｆ） ’Ｈ−ＮＭＲスペク）Ｊｌ／（ＣＤＣＡ８中、テ） ラ
ｆｙＶｆｉ：／内部標準）δ ４．８５（Ｑ、２Ｈ）
、 １９５（Ｓ、３Ｈ）、２．５５（Ｓ、８Ｈ）、
１，３５（ｔ、８Ｈ）（２２完）
２■内部標準）δ １６．５ｐｐｍ （Ｓ、３Ｆ） ’Ｈ−ＮＭＲスペク）Ｊｌ／（ＣＤＣＡ８中、テ） ラ
ｆｙＶｆｉ：／内部標準）δ ４．８５（Ｑ、２Ｈ）
、 １９５（Ｓ、３Ｈ）、２．５５（Ｓ、８Ｈ）、
１，３５（ｔ、８Ｈ）（２２完）
Claims (2)
- （１）一般式 Ａｒ−Ｘｎ 〔式中、Ａｒは、フェニル基、フリル基、チエニル基、
２−ヒドロキシピリジル基、ピラゾール基、ナフチル基
、インデニル基、インダニル基、オキサゾリル基、イソ
オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基
およびベンゾチアゾリル基から成る群から選ばれた芳香
族基を表わし、Ｘはハロゲン原子、アセトアミノ基、シ
アノ基ホルミル基、アルコキシカルボニル基、トリフル
オロメチル基およびニトロ基から成る群から選ばれた電
子吸引性基を表わし、ｎは１または２を表わす。〕 で示される芳香族化合物と一般式 Ｒｆ−ＣＯＯＨ 〔式中、Ｒｆは５個以下の炭素原子を有する含フッ素脂
肪族残基を表わす。〕 で示される含フッ素脂肪族カルボン酸とをキセノンジフ
ロリドの存在下に、反応させることを特徴とする一般式 Ｒｆ−Ａｒ−Ｘｎ 〔式中、Ｒｆ、Ａｒ、Ｘおよびｎは、前記と同じ意味を
表わす。〕 で示される含フッ素脂肪族置換芳香族化合物の製法。 - （２）Ｒｆが５個以下の炭素原子を有する含フッ素アル
キル基である特許請求の範囲第１項記載の含フッ素脂肪
族置換芳香族化合物の製法
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8580386 | 1986-04-14 | ||
| JP61-85803 | 1986-04-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6366131A true JPS6366131A (ja) | 1988-03-24 |
Family
ID=13869036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12682686A Pending JPS6366131A (ja) | 1986-04-14 | 1986-05-30 | 含フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6366131A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006265133A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Central Glass Co Ltd | ４−メチル−３−トリフルオロメチル安息香酸の製造方法 |
| JP2015164915A (ja) * | 2014-02-05 | 2015-09-17 | Jnc株式会社 | カルボニル誘導体、これらの化合物を含有する液晶組成物および液晶表示素子 |
| CN105622536A (zh) * | 2015-12-30 | 2016-06-01 | 商丘师范学院 | 一种三氟甲基化烯基异噁唑化合物及其制备方法和应用 |
-
1986
- 1986-05-30 JP JP12682686A patent/JPS6366131A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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