JPS6366131A - 含フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法 - Google Patents
含フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法Info
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- JPS6366131A JPS6366131A JP12682686A JP12682686A JPS6366131A JP S6366131 A JPS6366131 A JP S6366131A JP 12682686 A JP12682686 A JP 12682686A JP 12682686 A JP12682686 A JP 12682686A JP S6366131 A JPS6366131 A JP S6366131A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、例えば、医農薬の中間体として重要である含
フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法に関する。
フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法に関する。
〈従来の技術〉
近年、芳香族化合物にフッ素含有アルキル基を導入する
ことにより有用な生理活性作用等を示すフッ素含有アル
キル置換芳香族化合物を得ること誌5非常に重要になり
つつある〔石川延男、小林義部著、フッ素の化合物p、
202 講談社サイエンティフィック〕。
ことにより有用な生理活性作用等を示すフッ素含有アル
キル置換芳香族化合物を得ること誌5非常に重要になり
つつある〔石川延男、小林義部著、フッ素の化合物p、
202 講談社サイエンティフィック〕。
従来、パーフルオロアシル化合物を用いて芳香族化合物
の芳香環に直接食フッ素アルキル基を導入する方法とし
てはジ(ペルフルオロアシル)ペルオキシドと芳香族化
合物とを反応させる方法が知られている(特開昭60−
178829号公報)。
の芳香環に直接食フッ素アルキル基を導入する方法とし
てはジ(ペルフルオロアシル)ペルオキシドと芳香族化
合物とを反応させる方法が知られている(特開昭60−
178829号公報)。
〈発明が解決しようとする問題点〉
しかしながら上記の方法は、反応試剤の安定性、工業規
模での製造時における爆発の危険性などの点で必ずしも
満足すべきものではない。
模での製造時における爆発の危険性などの点で必ずしも
満足すべきものではない。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明者らは、芳香族化合物の芳香環に含フツ素脂肪族
残基を導入する方法につき鋭意検討の結果、電子吸引性
基を有する芳香族化合物と含フツ素脂肪族カルボン酸と
をキセノンシフロリドの存在下に、反応させることによ
り、その中でも5個以下の炭素原子を有する含フツ素ア
ルキルカルボン酸を用いた際、操作的にも容易にその目
的物が得られることを見出し本発明に至った。
残基を導入する方法につき鋭意検討の結果、電子吸引性
基を有する芳香族化合物と含フツ素脂肪族カルボン酸と
をキセノンシフロリドの存在下に、反応させることによ
り、その中でも5個以下の炭素原子を有する含フツ素ア
ルキルカルボン酸を用いた際、操作的にも容易にその目
的物が得られることを見出し本発明に至った。
すなわち、本発明は、一般式
%式%
〔式中、Arは、フェニル基、フリル基、チェニル基、
2−ヒドロキシピリジル基、ピラゾール基、ナフチル基
、インデニル基、インダニル基、オキサシリル基、イソ
オキサシリル基、チアゾリル基、ベンゾオキサシリル基
およびベンゾチアゾリル基から成る群から選ばれた芳香
族基を表わし、Xはハロゲン原子、アセトアミノ基、シ
アノ基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、トリフ
ルオロメチル基およびニトロ基から成る群から選ばれた
電子吸引性基を表わし、nは1または2を表わす。] で示される芳香族化合物と一般式 %式% c式中、Rfは、5個以下の炭素原子を有する含フツ素
脂肪族残基を表わす。〕 で示される脂肪族カルボン酸とをキセノンシフロリドの
存在下に反応させることにより、一般式 %式% [式中、RflArlXおよびnは、前記と同じ意味を
表わす□。] で示される含フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法を提
供するものである。
2−ヒドロキシピリジル基、ピラゾール基、ナフチル基
、インデニル基、インダニル基、オキサシリル基、イソ
オキサシリル基、チアゾリル基、ベンゾオキサシリル基
およびベンゾチアゾリル基から成る群から選ばれた芳香
族基を表わし、Xはハロゲン原子、アセトアミノ基、シ
アノ基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、トリフ
ルオロメチル基およびニトロ基から成る群から選ばれた
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脂肪族残基を表わす。〕 で示される脂肪族カルボン酸とをキセノンシフロリドの
存在下に反応させることにより、一般式 %式% [式中、RflArlXおよびnは、前記と同じ意味を
表わす□。] で示される含フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法を提
供するものである。
以下に本発明について詳しく説明する。
本発明において用いうる脂肪族カルボン酸としては直鎖
または分岐の含フツ素脂肪族カルボン酸があげられる。
または分岐の含フツ素脂肪族カルボン酸があげられる。
また、上記脂肪族カルボン酸のカルボキシル基のα位炭
素の水素原子がフッ素原子で置換されていることが好ま
しい。
素の水素原子がフッ素原子で置換されていることが好ま
しい。
尚、本発明に用いうるキセノンシフロリドは例えば、キ
セノンとフッ素との光学合成法[Inorganic
5ynthesis : Vol、 11. M
c GrawHill、 New ’York、 14
7. (1968) ]により合成して用いるか、市販
品(PCR社)を用いることができる。
セノンとフッ素との光学合成法[Inorganic
5ynthesis : Vol、 11. M
c GrawHill、 New ’York、 14
7. (1968) ]により合成して用いるか、市販
品(PCR社)を用いることができる。
本発明に於いて、用いられる試剤の量は、芳香族化合物
に対して、キセノンシフロリドおよび含フツ素脂肪族カ
ルボン酸はモル比で夫々1.0〜10倍の範囲、好まし
くは1.0〜5.0倍の範囲である。
に対して、キセノンシフロリドおよび含フツ素脂肪族カ
ルボン酸はモル比で夫々1.0〜10倍の範囲、好まし
くは1.0〜5.0倍の範囲である。
本発明の反応温度および反応時間は、一般的には、夫々
−10〜80℃の範囲、1〜20時間の範囲で充分その
目的を達することができる。
−10〜80℃の範囲、1〜20時間の範囲で充分その
目的を達することができる。
本発明の反応は、標準的には不活性溶媒中で行なわれる
が、該反応に使用しうる溶媒としては、例えば、ジクロ
ルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロ
ルエタン、トリクレンまたはジフルオロジクロルエタン
等のハロゲン化炭化水素等があげられる。
が、該反応に使用しうる溶媒としては、例えば、ジクロ
ルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロ
ルエタン、トリクレンまたはジフルオロジクロルエタン
等のハロゲン化炭化水素等があげられる。
〈発明の効果〉
本発明によれば、含フツ素脂肪族置換芳香族化合物を操
作的にも容易に得ることができる。
作的にも容易に得ることができる。
〈実施例〉
以下に実施例をあげて本発明をよりくわしく説明する。
実施例1
4−メチル安息香酸メチル1.50f(10mmol
)およびI・リフルオロ酢酸2.281?(20mm
ol )のジクロロメタン溶液20m1をアルゴン雰
囲気下、室温でキセノンシフロリド8.881 (20
mmol )を5回に分けて加えた。この時加えるた
びに多量のガスを発生し、発熱を起こす力ζ゛その都度
、ガス発生が終了するまで室温で攪拌した。その後、さ
らに室温下、5時間攪拌した。
)およびI・リフルオロ酢酸2.281?(20mm
ol )のジクロロメタン溶液20m1をアルゴン雰
囲気下、室温でキセノンシフロリド8.881 (20
mmol )を5回に分けて加えた。この時加えるた
びに多量のガスを発生し、発熱を起こす力ζ゛その都度
、ガス発生が終了するまで室温で攪拌した。その後、さ
らに室温下、5時間攪拌した。
反応混合液を水20−に注ぎ、ジクロロメタンで抽出、
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、戸別し、ジクロロ
メタンを減圧留去し、生成物2.19を得た。
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、戸別し、ジクロロ
メタンを減圧留去し、生成物2.19を得た。
得られた生成物をシリカゲルクロマトグラフィー[展開
溶媒;ヘキサンニエーテル(10:1)〕で精製を行い
、4−メチル−2−トリフルオロメチル安息香酸メチル
および4−メチル−3−トリフルオロメチル安息香酸メ
チルの混合物0.78F[収率33%、ガスクロマトグ
ラフィーにより2−トリフルオロメチル体:3−トリフ
ルオロメチル体(40:60)コおよび原料のp−メチ
ル安息香酸メチル0.6g(回収率40%)を回収した
。
溶媒;ヘキサンニエーテル(10:1)〕で精製を行い
、4−メチル−2−トリフルオロメチル安息香酸メチル
および4−メチル−3−トリフルオロメチル安息香酸メ
チルの混合物0.78F[収率33%、ガスクロマトグ
ラフィーにより2−トリフルオロメチル体:3−トリフ
ルオロメチル体(40:60)コおよび原料のp−メチ
ル安息香酸メチル0.6g(回収率40%)を回収した
。
生成物の物性を以下に示す。 ノ実施例2
4−クロロベンズニトリル1.37f(10mmo 1
)およびトリフルオロ酢酸2.28120mmo l
)のジクロロメタン溶液20−をアルゴン雰囲気下、
室温でキセノンシフロリド5.071 (80mmol
)を3回にわけて加えた。この時加えるたびに多量
のガスを発生し、発熱を起こすが、その都度、ガス発生
が終了するまで室温で攪拌した。その後さらに室温下1
0時間攪拌した。
)およびトリフルオロ酢酸2.28120mmo l
)のジクロロメタン溶液20−をアルゴン雰囲気下、
室温でキセノンシフロリド5.071 (80mmol
)を3回にわけて加えた。この時加えるたびに多量
のガスを発生し、発熱を起こすが、その都度、ガス発生
が終了するまで室温で攪拌した。その後さらに室温下1
0時間攪拌した。
反応混合液を水20−に注ぎ、ジクロロメタンで抽出、
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、炉別し、ジクロロ
メタンを減圧留去し生成物2.16 gを得た。
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、炉別し、ジクロロ
メタンを減圧留去し生成物2.16 gを得た。
得られた 生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(展
開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル(10:1))で精製を
行い、4−クロロ−3−トリフルオロメチルベンズニト
リル0,47y(収率23%)および原料の4−クロロ
ベンゾニトリル1.05y(回収率46%)を回収した
。
開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル(10:1))で精製を
行い、4−クロロ−3−トリフルオロメチルベンズニト
リル0,47y(収率23%)および原料の4−クロロ
ベンゾニトリル1.05y(回収率46%)を回収した
。
生成物の物性を以下に示す。
ガスクロマトグラフ イー [0V−17(50%)、
1.6m、カラム温度120°C,N2流量50m1/
minコ保持時間3.67分 ’9 F−NMRスペクトル(CDCta中、CF3C
O2H内部標準) δ15゜Oppm (S、3F) G、C、−Mass スペクトル 205(V+)、1
86,170実施例3 4−クロロアセトアニリド0.51V(2,95皿o1
)、トリフルオロ酢酸0.67g(5,90mmo 1
)およびキセノンシフロリド1.Og(5,90mm
ol)を用い、実施例1と同様の方法にて反応を行い、
生成物0.871を得た。
1.6m、カラム温度120°C,N2流量50m1/
minコ保持時間3.67分 ’9 F−NMRスペクトル(CDCta中、CF3C
O2H内部標準) δ15゜Oppm (S、3F) G、C、−Mass スペクトル 205(V+)、1
86,170実施例3 4−クロロアセトアニリド0.51V(2,95皿o1
)、トリフルオロ酢酸0.67g(5,90mmo 1
)およびキセノンシフロリド1.Og(5,90mm
ol)を用い、実施例1と同様の方法にて反応を行い、
生成物0.871を得た。
得られた生成物をシリカゲルクロマI・グラフィー(展
開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル(5:1))で精製を行
い、4−クロロ−2−トリフルオロメチル−アセトアニ
リド266〜(収率38%)および4−クロロ−3−1
〜リフルオロメチル−アセトアニリド109■(収率1
6%)を得た。また原料の4−クロロアセトアニリド1
35 mg (回収率27%)を回収した。
開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル(5:1))で精製を行
い、4−クロロ−2−トリフルオロメチル−アセトアニ
リド266〜(収率38%)および4−クロロ−3−1
〜リフルオロメチル−アセトアニリド109■(収率1
6%)を得た。また原料の4−クロロアセトアニリド1
35 mg (回収率27%)を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
尚、”F−NMHのδ値は、内部標準の低磁場側を正値
で表わし、以下の実施例も同じ意味を表わす。
で表わし、以下の実施例も同じ意味を表わす。
実施例4
メチルフロエート(2−フリルカルボン酸メチルエステ
ル) 1.261i’ (10mmol)、トリフルオ
ロ酢酸2.28g(20mmol)およびキセノンシフ
ロリド8.881 (20mmol)を実施例1と同様
にして反応を行い、得られた生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル(10
:1))にて精製し、2−メトキシカルボニル−5−ド
リフルオロメチルフラン0.81F(収率42%〕を得
た。また、原料のメチルフロエート0、504 F!
(回収率40%)を回収した。
ル) 1.261i’ (10mmol)、トリフルオ
ロ酢酸2.28g(20mmol)およびキセノンシフ
ロリド8.881 (20mmol)を実施例1と同様
にして反応を行い、得られた生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル(10
:1))にて精製し、2−メトキシカルボニル−5−ド
リフルオロメチルフラン0.81F(収率42%〕を得
た。また、原料のメチルフロエート0、504 F!
(回収率40%)を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
ガスク07トグラ7 イー (XE−60(10%)、
1.6 m N カフ ム温度100 ’C1N2流量
50m7!/m1n)保持時間1.43分 19F−NMRスペクトル(CDCtB中、CF3CO
2H内部標準)δ14.51)I)m (S、8F) ’ I(−NM Rスペクトル(CDCts中、テトラ
メチノV、ラン内部標準) δ 7.10〜7.30 ppm(m、LH)、670
〜6.90T)T)m(m、in)、3.901)I)
m (s 、 3H)G、C,−Mass:y、ベクト
ル 1.94CM+)実施例5 メチルフロエート(2−フリルカルボン酸ヨヒキセノン
ジフロリド3.88 y(20mmol)を実施例1と
同様にして反応を行い、得られた生成物をシリカゲルク
ロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル(
10:g(収率27%)を得た。また、原料のメチルフ
ロエート0.706g(回収率56%)を回収した。
1.6 m N カフ ム温度100 ’C1N2流量
50m7!/m1n)保持時間1.43分 19F−NMRスペクトル(CDCtB中、CF3CO
2H内部標準)δ14.51)I)m (S、8F) ’ I(−NM Rスペクトル(CDCts中、テトラ
メチノV、ラン内部標準) δ 7.10〜7.30 ppm(m、LH)、670
〜6.90T)T)m(m、in)、3.901)I)
m (s 、 3H)G、C,−Mass:y、ベクト
ル 1.94CM+)実施例5 メチルフロエート(2−フリルカルボン酸ヨヒキセノン
ジフロリド3.88 y(20mmol)を実施例1と
同様にして反応を行い、得られた生成物をシリカゲルク
ロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル(
10:g(収率27%)を得た。また、原料のメチルフ
ロエート0.706g(回収率56%)を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
19F−NM几スペクトル(CDCts中、CFaC(
Jz丁■内部標準)δ −2,5ppm(m、 gF)
、−33,0ppm(m、 2F )、λ −45,0ppm(m 、 ffF) ’H−NMB、スペクトル(CDCL8中、テトラメチ
ルシラン内部標準) δ 7.20〜7J5 ppm (m 、 1.H)
、690〜7.051)r)m(m、 IH)、3.9
81)pm (s 、 3H)G、C,−MaSSスペ
クトル 395(M+)実施例6 2−フルフラール0.961i’ (10mmol)、
トリフルオロ酢酸2.281 (20mmol)および
キセノンシフロリド(8,38f/ 、 20mmol
)を実施例1と同様の方法にて反応を行い、得られた生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒
;ヘキサン:酢酸エチル(10:1))で精製を行い、
2−ホルミル−5−トリフルオロメチルフラン0.58
f/(収率35%)を得た。また、原料の2−フルフ
ラール0.422IC回収率44%)を回収した。
Jz丁■内部標準)δ −2,5ppm(m、 gF)
、−33,0ppm(m、 2F )、λ −45,0ppm(m 、 ffF) ’H−NMB、スペクトル(CDCL8中、テトラメチ
ルシラン内部標準) δ 7.20〜7J5 ppm (m 、 1.H)
、690〜7.051)r)m(m、 IH)、3.9
81)pm (s 、 3H)G、C,−MaSSスペ
クトル 395(M+)実施例6 2−フルフラール0.961i’ (10mmol)、
トリフルオロ酢酸2.281 (20mmol)および
キセノンシフロリド(8,38f/ 、 20mmol
)を実施例1と同様の方法にて反応を行い、得られた生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒
;ヘキサン:酢酸エチル(10:1))で精製を行い、
2−ホルミル−5−トリフルオロメチルフラン0.58
f/(収率35%)を得た。また、原料の2−フルフ
ラール0.422IC回収率44%)を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
ガスクロマトグラフィー[XE−60(10%)、1、
6 m 1力ラム温度100°C,N2流量50mA/
分]保持時間0.96分 ’I(−NMRスペクトル(CDCtB中、テトラメチ
ルシラン内部標準) δ 9.80 T)I)m(S 、 II()、7.
25〜7.85ppm(m、 II−I)、6.95〜
7.10pI)m(m、 II()G、C−MaSSス
ペクトル 164(M+)実施例7 2−メトキシカルボニルチオフェン0.71f(5皿o
1)、トリフルオロ酢酸1.14g(10mmol)お
よびキセノンシフロリド1.69f (10mmol)
を実施例1と同様の方法にて反応を行い、得られた生成
物をシリカゲルクロマトグラフィ=(展開溶媒警ヘキサ
ン:酢酸エチル(10:1))で精製を行い、2−メト
キシカルボニル−5−トリフルオロメチルチオフェン0
.33/!(収率31%)を得た。
6 m 1力ラム温度100°C,N2流量50mA/
分]保持時間0.96分 ’I(−NMRスペクトル(CDCtB中、テトラメチ
ルシラン内部標準) δ 9.80 T)I)m(S 、 II()、7.
25〜7.85ppm(m、 II−I)、6.95〜
7.10pI)m(m、 II()G、C−MaSSス
ペクトル 164(M+)実施例7 2−メトキシカルボニルチオフェン0.71f(5皿o
1)、トリフルオロ酢酸1.14g(10mmol)お
よびキセノンシフロリド1.69f (10mmol)
を実施例1と同様の方法にて反応を行い、得られた生成
物をシリカゲルクロマトグラフィ=(展開溶媒警ヘキサ
ン:酢酸エチル(10:1))で精製を行い、2−メト
キシカルボニル−5−トリフルオロメチルチオフェン0
.33/!(収率31%)を得た。
また、原料の2−メトキシカルボニルチオフェン0.3
5519(回収率50%)を回収した。
5519(回収率50%)を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
19F−NMRスペクトル(CDCLB中、CF3CO
2HI内部標準)δ 18.51)T)m(s、8F
)IH−NMRスペクトル(CDCbs中、テトラメチ
ルシラン内部標準) δ 7−20〜7.40 pp m (mm 2H)
、3.85I)I)m(S、3I()実施例8 2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルピリジン0.
81g(5皿o1)、トリフルオロ様の方法にて反応を
行い、得られた生成物をシリカゲルクロマトグラフィー
(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル(5:1))で精製
を行い、2−ヒドロキシ−3,5−ビス(トリフルオロ
メチル)ピリジンO146g(収率40%)を得た。ま
た、原料の2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルピ
リジン0.31617(回収率39%)を回収した。
2HI内部標準)δ 18.51)T)m(s、8F
)IH−NMRスペクトル(CDCbs中、テトラメチ
ルシラン内部標準) δ 7−20〜7.40 pp m (mm 2H)
、3.85I)I)m(S、3I()実施例8 2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルピリジン0.
81g(5皿o1)、トリフルオロ様の方法にて反応を
行い、得られた生成物をシリカゲルクロマトグラフィー
(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル(5:1))で精製
を行い、2−ヒドロキシ−3,5−ビス(トリフルオロ
メチル)ピリジンO146g(収率40%)を得た。ま
た、原料の2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルピ
リジン0.31617(回収率39%)を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
19F−NM几スペクトル(CDCA8中、CF3CO
2H内部標準)δ 16.5]:l)m(s 、 3
F )、16.0 ppm(s 、 8F )1H−N
MRスペクトル(CDC1a中、テトラメチノシラΔ内
部標準)δ 8.00ppm(brs、3H)実施
例9 2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルシフロリド1
.691i’ (10mmol)を実施例1と同様の方
法にて反応を行い、得られた生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル(5:
1))で精ジン0.561 (収率17%)を得た。ま
た、原料の2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルピ
リジン0.494g(回収率61%)を回収した。
2H内部標準)δ 16.5]:l)m(s 、 3
F )、16.0 ppm(s 、 8F )1H−N
MRスペクトル(CDC1a中、テトラメチノシラΔ内
部標準)δ 8.00ppm(brs、3H)実施
例9 2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルシフロリド1
.691i’ (10mmol)を実施例1と同様の方
法にて反応を行い、得られた生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル(5:
1))で精ジン0.561 (収率17%)を得た。ま
た、原料の2−ヒドロキシ−5−トリフルオロメチルピ
リジン0.494g(回収率61%)を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
19F−NMRスペクトル(CDCtB中、CF8CU
2H内部標準)δ −17ppm(m、iF)、−33
,0ppm(m、 2F )、−45,0ppm(m、
8F) ’H−NMI(スペクトル(CDC1a中、テトラメチ
JLLラン内部標準)δ 8.10 ppm(br
s、3H)実施例10 エチル1,3−ジメチル−4−ピラゾールカルボキシレ
ート6507nf (8,9mmol)、トリフルオロ
酢酸1. Of (8,8mmol)およびキセノンシ
フロリド660 m9 (8,9mmol)を実施例1
と同様の方法により反応を行ない、得られた生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘ
キサン:酢酸エチル(5:1))で精製を行ないエチル
1゜3−ジメチル−5−トリフルオロメチル−4−ピラ
ゾールカルボキシレート140 mfl (収率15%
)及び原料のエチル1,3−ジメチル−4−ピラゾール
カルボキシレート500■(回収率77%)を得た。
2H内部標準)δ −17ppm(m、iF)、−33
,0ppm(m、 2F )、−45,0ppm(m、
8F) ’H−NMI(スペクトル(CDC1a中、テトラメチ
JLLラン内部標準)δ 8.10 ppm(br
s、3H)実施例10 エチル1,3−ジメチル−4−ピラゾールカルボキシレ
ート6507nf (8,9mmol)、トリフルオロ
酢酸1. Of (8,8mmol)およびキセノンシ
フロリド660 m9 (8,9mmol)を実施例1
と同様の方法により反応を行ない、得られた生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘ
キサン:酢酸エチル(5:1))で精製を行ないエチル
1゜3−ジメチル−5−トリフルオロメチル−4−ピラ
ゾールカルボキシレート140 mfl (収率15%
)及び原料のエチル1,3−ジメチル−4−ピラゾール
カルボキシレート500■(回収率77%)を得た。
生成物の物性を以下に示す。
19F−NM几スペクトル(cDcza中、CFsCO
2H内部標準)δ 21.Oppm (m 、 8F
)’Ei−NMB、スペクトル(CDCtB中、テトラ
メチノV、ラン内部標準)δ 4.35(q、2H)
、4.00 (m、 3i()、2.45 (s 、
8H)、 1.40 (t 、 3H)実施例11 エチル1,5−ジメチル−4−ピラゾールカルボキシレ
ート8501W(2,1mmol)、トリフルオロ酢酸
0.5IC4,4皿o1)及びキセノンシフロリド85
5 Q (2,1mmol)を実施例1と同様の方法に
より反応を行ない、得られた生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸エ
チル(3:1))で精製を行ないエチル1,5−ジメチ
ル−3−トリフルオロメチル−4−ビラゾールカルボキ
シレート80■(収率16%)及び原料であるエチル1
,5−ジメチル−4−ピラゾールカルボキシレート25
0q(回収率71%)を回収した。
2H内部標準)δ 21.Oppm (m 、 8F
)’Ei−NMB、スペクトル(CDCtB中、テトラ
メチノV、ラン内部標準)δ 4.35(q、2H)
、4.00 (m、 3i()、2.45 (s 、
8H)、 1.40 (t 、 3H)実施例11 エチル1,5−ジメチル−4−ピラゾールカルボキシレ
ート8501W(2,1mmol)、トリフルオロ酢酸
0.5IC4,4皿o1)及びキセノンシフロリド85
5 Q (2,1mmol)を実施例1と同様の方法に
より反応を行ない、得られた生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸エ
チル(3:1))で精製を行ないエチル1,5−ジメチ
ル−3−トリフルオロメチル−4−ビラゾールカルボキ
シレート80■(収率16%)及び原料であるエチル1
,5−ジメチル−4−ピラゾールカルボキシレート25
0q(回収率71%)を回収した。
生成物の物性を以下に示す。
19F−NMRスペクトル(CDCAa中、CFsCO
2■内部標準)δ 16.5ppm (S、3F) ’H−NMRスペク)Jl/(CDCA8中、テ) ラ
fyVfi:/内部標準)δ 4.85(Q、2H)
、 195(S、3H)、2.55(S、8H)、
1,35(t、8H)(22完)
2■内部標準)δ 16.5ppm (S、3F) ’H−NMRスペク)Jl/(CDCA8中、テ) ラ
fyVfi:/内部標準)δ 4.85(Q、2H)
、 195(S、3H)、2.55(S、8H)、
1,35(t、8H)(22完)
Claims (2)
- (1)一般式 Ar−Xn 〔式中、Arは、フェニル基、フリル基、チエニル基、
2−ヒドロキシピリジル基、ピラゾール基、ナフチル基
、インデニル基、インダニル基、オキサゾリル基、イソ
オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基
およびベンゾチアゾリル基から成る群から選ばれた芳香
族基を表わし、Xはハロゲン原子、アセトアミノ基、シ
アノ基ホルミル基、アルコキシカルボニル基、トリフル
オロメチル基およびニトロ基から成る群から選ばれた電
子吸引性基を表わし、nは1または2を表わす。〕 で示される芳香族化合物と一般式 Rf−COOH 〔式中、Rfは5個以下の炭素原子を有する含フッ素脂
肪族残基を表わす。〕 で示される含フッ素脂肪族カルボン酸とをキセノンジフ
ロリドの存在下に、反応させることを特徴とする一般式 Rf−Ar−Xn 〔式中、Rf、Ar、Xおよびnは、前記と同じ意味を
表わす。〕 で示される含フッ素脂肪族置換芳香族化合物の製法。 - (2)Rfが5個以下の炭素原子を有する含フッ素アル
キル基である特許請求の範囲第1項記載の含フッ素脂肪
族置換芳香族化合物の製法
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8580386 | 1986-04-14 | ||
JP61-85803 | 1986-04-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6366131A true JPS6366131A (ja) | 1988-03-24 |
Family
ID=13869036
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12682686A Pending JPS6366131A (ja) | 1986-04-14 | 1986-05-30 | 含フツ素脂肪族置換芳香族化合物の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6366131A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006265133A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Central Glass Co Ltd | 4−メチル−3−トリフルオロメチル安息香酸の製造方法 |
JP2015164915A (ja) * | 2014-02-05 | 2015-09-17 | Jnc株式会社 | カルボニル誘導体、これらの化合物を含有する液晶組成物および液晶表示素子 |
CN105622536A (zh) * | 2015-12-30 | 2016-06-01 | 商丘师范学院 | 一种三氟甲基化烯基异噁唑化合物及其制备方法和应用 |
-
1986
- 1986-05-30 JP JP12682686A patent/JPS6366131A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006265133A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Central Glass Co Ltd | 4−メチル−3−トリフルオロメチル安息香酸の製造方法 |
JP2015164915A (ja) * | 2014-02-05 | 2015-09-17 | Jnc株式会社 | カルボニル誘導体、これらの化合物を含有する液晶組成物および液晶表示素子 |
CN105622536A (zh) * | 2015-12-30 | 2016-06-01 | 商丘师范学院 | 一种三氟甲基化烯基异噁唑化合物及其制备方法和应用 |
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