JPS6365631A - 試料加熱用ホルダ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は試料加熱用ホルダに関し、特に電子ビームアニ
ール、レーザービームアニール等のアニール装置または
、分子線エピタキシャル装置等の膜堆積装置の試料加熱
機構に関する。

〔従来の技術〕

試料加熱法としては加熱用ヒータからの熱伝導により加
熱を行なう方法、あるいは加熱用ヒータ、ハロゲンラン
プ等からの輻射熱により試料の加熱を行なう方法などが
従来より用いられている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながらこの様な従来の方法によると次に挙げる問
題点がある。試料を加熱する場合、試料面内で出来るだ
け均一な温度分布となることが望ましいが、実際には試
料の中央部と周辺部を比べると、周辺部の方が温度が低
くなってしまう、これは試料の中央部と周辺部とで冷却
速度が異なるためであり、従来の方法の様に試料全体を
均一に加熱する方法では周辺部の温度が低くなってしま
　　。

うのは避けられない問題である。

本発明の目的は、上述した様な従来法の欠点を除去し、
試料面内で均一な温度分布を短時間に得ることが出来る
試料加熱用ホルダを提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の試料加熱用ホルダは、試料の周囲のみを隙間な
く保持できる形状を有し、かつ加熱用ヒータを組込んだ
ことな特徴としている。

〔牛用〕

試料の中央部と周辺部の冷却速度を比較すると周辺部の
方が冷却速度が大きく、従って試料全体を均一に加熱す
る方法では周辺部の温度の方が低くなってしまう。しか
し、本発明のように加熱用ヒータを組込んだ試料ホルダ
を用いて試料の周辺部からも加熱を行なうことにより試
料全体にわたって均一な温度分布を得ることが可能とな
る。また試料ホルダに温度検出線を組込むことにより試
料ホルダの温度を自由にコントロールでき試料の大きさ
によらず常に均一な温度分布が得られる。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。第１図は、本発明の一実施例の試料ホルダの平面図で
ある。１は試料ホルダであり４インチシリコンウェーハ
の周囲を保持できる形状とした。２はモリブデンヒータ
であり、試料ホルダの加熱を行なう、３は温度検出線で
あり、モリブデン線を用いた。４はモリブデンヒータお
よび温度検出線との電気的接触を得るための電極である
。

また第２図は本発明の実施例の試料加熱装置の構成図で
ある。５はウェーハ全体を一様に加熱するための主ヒー
タ、６は温度検出線がらの信号により主ヒータおよび試
料ホルダのヒータの出力電力を制御する温度コントロー
ラであり、７は試料である。

本実施例では温度検出線としてモリブデン線を用いた。

モリブデンは（１＝４．４　Ｘ　１０−　’　ｄｅｇ　
−’の抵抗温度係数をもち、温度が高くなる程抵抗が大
きくなる０本実施例ではこの性質を利用してヒータの出
力電力を制御し、最適な加熱条件を得た。

また、主ヒータ上にウェーハを置いて加熱する前に試料
ホルダに設けたヒータに通電して予備加熱することによ
り加熱時間を従来より短縮することも可能である。

また、第２図に示すようにウェーハの周囲は隙間なくは
さみこむようにすることにより上記効果をより向上させ
ることができる。

〔発明の効果〕

本発明の試料加熱用ホルダは試料の周囲のみを隙間なく
保持できる形状を有し、かつそこに加熱用ヒータを組込
んであるので加熱したい試料の温度を単時間で均一な温
度分布をもった所望の温度に上昇させることが可能とな
る。したがって従来より単位時間内により多くの試料を
より高い温度精度で処理できるようになる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の試料ホルダの平面図、第２
図は本発明の一実施例の試料加熱装置の構成図である。 １−・・・−・試料ホルダ、２・・・・・・モリブデン
ヒータ、３・−・・・・温度検出線、４・・・・・・電
極、５・・・・・・主ヒータ、６・・・・・・温度コン
トローラ、７・・・・・・試料。 ７・パん、；・ 単１　図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 試料の周囲のみを隙間なく保持できる形状を有し、かつ
   加熱用ヒータを組込んだことを特徴とする試料加熱用ホ
   ルダ。