JPS6356516A - 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止用エポキシ樹脂組成物

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JPS6356516A
JPS6356516A JP20001486A JP20001486A JPS6356516A JP S6356516 A JPS6356516 A JP S6356516A JP 20001486 A JP20001486 A JP 20001486A JP 20001486 A JP20001486 A JP 20001486A JP S6356516 A JPS6356516 A JP S6356516A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin
vinylphenol
modified
resin composition
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Pending
Application number
JP20001486A
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English (en)
Inventor
Makoto Yamagata
誠 山縣
Shigeru Koshibe
茂 越部
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は熱衝撃を受けた場合の耐クラツク性や、耐湿性
に優れる半導体封止用低応力エピキシ樹脂組成物に係わ
るものである。
〔従来技術〕
近年、半導体関連技術の進歩はめざましく、LSIの集
積度は加速度的に向上し、それに伴い配線の微細化とチ
ップサイズの大型化が進んでいる。
この傾向は樹脂封止LSIのアルミ配線変形、A、)シ
ベーションクラック、樹脂クラックなどの故ヨオを深刻
化させた。これらの問題の解決の為に、現在、半導体封
止用樹脂の低応力化が強く求められている。
従来から、シリコーンを使用した低応力ニブキシ樹脂組
成物は色々と検討されているが、シリコーンオイルや有
機変性シリコーンオイルを用いる方法〔特開昭58−2
1417、特開昭59−81328、特開昭”60−3
0157、特開昭6〇−13841)では、いずれの場
合も成形性(特に硬化性、パリ、離型性)及び耐湿性等
に問題があった。
又、シリコーンを使用しない低応力樹脂組成物も色々と
検討されている。たとえば合成ゴムを添加したシエダキ
シ樹脂、硬化剤等に反応させる事が検討されて来た。(
特開昭58−176958、特開昭60−31251 
、特開昭6O−8315)Lかしながら、シリコーンを
用いる場合と同様の欠点があった。
〔発明の目的〕
本発明は従来、成形性、耐湿性等に問題があシ、市場レ
ベルでの適用ができなかったシリコーンによる低応力エ
イキシ樹脂組成物のこれらの欠点を改良し、産業工業レ
ベルでの適用、即ち、実用的製品の開発を目的として研
究した結果、0−クレゾールとホルマリンとビニルフェ
ノールを酸性触媒下縮合させたビニルフェノール変性o
−クレゾールノボラックのグリシジルエーテルであるエ
イキシ樹脂と、水素基含有オルガノピリシロキサンの反
応物をエイキシ樹脂として用いる事により熱衝撃を受け
た場合の耐クラツク性、耐湿性に優れる低応力エイキシ
樹脂組成物が得られる事を見出したものである。
〔発明の構成〕
本発941d o−クレゾールとホルマリンとビニルフ
ェノールを酸性触媒下縮合させたビニルフェノール変性
0−クレゾールノボラックのグリシジルエーテルである
エイキシ樹脂と水素基含有オルガノゴリシロキサンの反
応物をエポキシ樹脂の一部又は全部として含むことを特
徴とするエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、シリカ充
填剤等よシなる半導体封止用エイキシ樹脂組成物である
本発明において用いられる水素基含有オルガノヒリシロ
キサンとしては、側鎖又は末端に5i−H結合有するオ
ルガノヒリシロキサンを言い一般式等で表わされるもの
を言う。分子量については任意であシ、一般にHオイル
と称されるシリコーンオイル状のものから、シリコーン
生ゴムと言われる高分子量のもの迄あらゆるものを用い
ることができる。
これら水素基含有オルガノポリシロキサンとビニルフェ
ノール起源の樹脂中のビニル基との反応はヒドロシリル
化反応であシ、白金系の触媒等(例えば塩化白金酸)を
用いる事によシ容易に行なう事ができる。
この反応を行なう事によシ、硬化物からシリコーンのブ
リードを防ぐ事が出来、かつモルフォロジー的にも均一
にシリコーンが硬化物中に分散した低応力エイキシ樹脂
組成物を得る事ができる。
この様なエイキシ樹脂はオルガノダリシロキサン成分が
樹脂中に1μm以下の微粒子として分散した海島構造の
エポキシ樹脂であ多熱衝撃を受けた耐クラツク性に優れ
るだけでなく、オルガノポリシロキサン成分が樹脂と結
合している為、樹脂からブリードする事がない為、成形
性、耐湿性等にも優れている。
この様にして得られる変性エイキシ樹脂はエピキシ樹脂
の全部又は一部として用いる事ができる。
但し、硬化物中にオルガノiIJシロキサン成分として
1重量%以上になる様に配合する事が望ましく、これ以
下だと応力特性が劣る場合が見られる。
又、硬化物中の樹脂成分(エピキシ樹脂と硬化剤)の重
量総量の捗以上にオルガノi、61Jシロキサン成分が
なる様に配合すると硬化特性に著しい劣化が見られる。
本発明において用いられるエポキシ樹脂としては、ビス
フェノールAエピキシ樹脂、ノボラック型エイキシ樹脂
、脂環式エピキシ樹脂等のタイプを使用し、これらのエ
ピキシ樹脂は単独で使用しても、二種以上混合して使用
してもよい。
硬化剤としては多塩基性カルボン酸無水物を単独もしく
は、二種以上混合して使用する。これらの例としては無
水フタル酸、無水へキサヒドロフタル酸、無水テトラヒ
ドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等がある
。あるいは硬化剤として、フェノールノボラック樹脂を
使用してもよい。また硬化剤のエイキシ樹脂に配合する
量は、1エイキシ当量に対して、0,5〜1.2当量が
望ましく、それ以外では成形性に重大な欠陥を起こす事
がある。
硬化促進剤としては ■第3級アミン又この誘導体 トリメチルアミン、トリエチルアミン、2、3.4.6
.7.8.9.10−オクタハイドロ−ピラミド(1,
2−a)アゼピン等又は、これらの第4アンモニウム塩 ■有機ホスフィン化合物 (a)g 1 、第2、第3ホスフィン:オクチルホス
フィン、ジフェニルホスフィン、ブチルフェニルホスフ
ィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホ
スフィン等、 伽)有機第3ホスフインとπ結合を有する化合物のベメ
イン型付加物゛無水マレイン酸−トリフェニルホスフィ
ン付加物、チオイソシアネート−トリフェニルホスフィ
ン付加物、ジアゾジフェニルメタン−トリフェニルホス
フィン付加物等(c)有4%[txホニウAm : (
g33PCH2f213■cze。
〔1’3PEt 〕■Ie、  (s3pgB■Br0
etc■有機アルミニウム化合物 (a) A7(OR)3(R: H1アルキル基、アリ
ール基、アリール基含有炭化水素基〕:アルミニウムイ
ソプロ〆キシド、アルミニウムn−ブトキシド、アルミ
ニウムtert−ブトキシド、アルミニウム5ee−7
’チレート、アルミニウムベンゾエート等、(b)アル
ミニウムのβジケトン錯体(アルミニウムキレート)ニ
アルミニウムアセチルアセトナト、アルミニウムトリフ
ルオロアセチルアセトナト、アルミニウムー!:/夕フ
ルオロアセチルアセトナト等、 ■チタン化合物 ブチルチタネート、チタン白等、 ■¥lk  類 ノζラドルエンスルホン酸 等をあげることができる。
〔発明の効果〕
このように本発明方法に従うと、成形性、耐湿性に優れ
、かつ熱衝撃を受けた場合の耐クラツク性等にすぐれる
低応力エピキシ樹脂組成物を得ることができる。特に、
半導体封止用途では今後ますますプラスチックノぐノケ
ージ化が予想され、又、そのためにプラスチックの低応
力化が要求されている今日においては本発明の産業的意
味役割は非常に大きい。
〔実施例〕
以下、半導体封止用成形材料での検討例で説明する。例
で用いた部は全て重量部である。本発明による実施例は
従来の技術による比較例に比べ成形性・耐湿性・耐クラ
ツク性の点で優れておシ工業的に利用できる高付加価値
を有している。
例で用いた水素基含有オルガノN IJシロキサンは次
の通pでおる。
オルガノlリシロキサンa:平均構造式オルガノダリシ
ロキサンb:平均構造式例で用いたビニルフェノール変
性0−クレゾールノボラックのグリシジルエーテルであ
るエピキシ樹脂と水素基含有オルガノコリシロキサンの
反応物は次の通りである。
反応物■(エピキシ樹脂■) 0−クレゾールとホルムアルデヒドとビニルフェノール
(モル比で0.7 : 0.75 : 0.3)を硫酸
触媒下反応後精製したビニルフェノール変性o −クレ
ゾールノボラックに水酸基に対しエピクロルヒドリンを
モル比1:3で苛性ソーダ触媒を用い付加反応させ精製
後、ビニルフェノール変性o −クレゾールノボラック
のグリシジルエーテルであるエピキシ樹脂を得た。この
エポキシ樹脂80部に対しオルガノゴリシロキサンa2
0部を塩化白金最触媒下反応させ精製する事によシ得た
反応物、軟化点70℃ 、反応物■(エポキシ樹脂■) 上記と同様にして得だビニルフェノール変性〇−クレゾ
ールノボラックのグリシジルエーテルである工ぜキシ樹
脂80部に対しオルガノピリシロキサンb20部を塩化
白金is媒下反応させ精製する事によシ得た反応物、軟
化点65℃例で用いた原料は次の通シである。
・オルトクレゾールノボラック型エゼキシ樹脂:日本化
薬EooJ−1o25−6s(−r−zキシ樹脂■)Φ
硬化剤/フェノールノボラック: 群栄化学 MP−120 ・硬化促進剤: ケーアイ化成PP−360/四国化成間;9/1・充填
材: 龍 森 溶融シリカ ・表面処理剤: 日本ユニカー A−186 ・離型剤: ヘキストジャノζン ヘキストOP/ヘキス) S =
 1/1適応例 エピキシ樹脂として■、■、■、■’/@ = 1 /
1、”/@=1/1なる5水準を取りこれに硬化剤とエ
イキシ基/フェノール酸水酸基=1/1(モル比)比率
で合計が30部になるよう仕込む、さらに硬化促進剤0
.2部、充填材70部、表面処理剤0.5部、離型剤0
.4部を加え混合後二軸押出機を用い混練し材料化を行
った。計58iの成形性、耐クラツク性、耐湿性を比較
検討した結果、本発明による樹脂組成物を用いた場合、
従来の。−クレゾールノボラックエイキシ樹脂を単独で
用いる場合に比べ、いずれも特性が極めて優れることが
判った。表−1に結果をまとめた。
*1.16 pin DIPを成形した時のリードビン
上の/< IJ発生程度で判定タイバ一部までの距離の
ン以下の時A117..,17..の時B1し〜乞の時
C1乞以上(タイバーを超えた)D *2TCT、  4 mX 9 mの大きさの模擬素子
を封止した1 6 pin DIPに一65℃(30分
)二室温(5分)。150℃(30分)なる熱衝撃を2
00サイクル与えクラック発生数/総数で判定 *3TST、4mmX6mmの大きさの模擬素子を封止
した1 6 pin DIPに一165℃(2分)、−
150’C(2分)なる熱衝撃を200サイクル与えク
ラック発生数/総数で判定 *4耐湿性、アルミ模擬素子を封止した1 6 pin
DIPを135℃、100チの条件で 1000hr保管しアルミ腐食による不良率/総数で判

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. o−クレゾールとホルマリンとビニルフェノールを酸性
    触媒下縮合させた、ビニルフェノール変性o−クレゾー
    ルノボラックのグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂
    と、水素基含有オルガノポリシロキサンの反応物を含む
    ことを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
JP20001486A 1986-08-28 1986-08-28 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 Pending JPS6356516A (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6322822A (ja) * 1986-07-15 1988-01-30 Shin Etsu Chem Co Ltd シリコーン変性エポキシ樹脂の製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6322822A (ja) * 1986-07-15 1988-01-30 Shin Etsu Chem Co Ltd シリコーン変性エポキシ樹脂の製造方法

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