JPS6355708A - 垂直磁気ヘツド - Google Patents
垂直磁気ヘツドInfo
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- JPS6355708A JPS6355708A JP19949086A JP19949086A JPS6355708A JP S6355708 A JPS6355708 A JP S6355708A JP 19949086 A JP19949086 A JP 19949086A JP 19949086 A JP19949086 A JP 19949086A JP S6355708 A JPS6355708 A JP S6355708A
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- Pending
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- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 35
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/02—Recording, reproducing, or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B5/09—Digital recording
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は垂直磁気記録に用いる垂直磁気ヘッドに関し、
詳しくは単磁極型の磁極構造に関するものである。
詳しくは単磁極型の磁極構造に関するものである。
（従来の技術）
従来において、単Ｈ型の垂直磁気ヘッドとして第６図に
示すように、パーマロイやアモルファスなどの軟磁性薄
膜から成り、その先端が記録媒体ＲＭの磁性層（図中斜
線部）に摺接するように配置される主磁極２１、この主
磁極２１に比べて十分な厚さを有するフェライト等の高
透磁率磁性体材料から成り、記録媒体ＲＭを介して主磁
極２１の先端部と対向するように配置された補助磁極２
２、この補助磁極２２に巻装された励磁コイル２３を備
え、励磁コイル２３に適宜の電流を流して補助磁極２２
を励磁することにより生じる主磁極２１の垂直磁界で記
録媒体ＲＭの磁性層に信号を記録し、また記録媒体ＲＭ
の磁性層からの垂直磁界により生じる主１１極２１の磁
束を補助磁極２２に誘起して記録信号を再生するように
したものがある。
示すように、パーマロイやアモルファスなどの軟磁性薄
膜から成り、その先端が記録媒体ＲＭの磁性層（図中斜
線部）に摺接するように配置される主磁極２１、この主
磁極２１に比べて十分な厚さを有するフェライト等の高
透磁率磁性体材料から成り、記録媒体ＲＭを介して主磁
極２１の先端部と対向するように配置された補助磁極２
２、この補助磁極２２に巻装された励磁コイル２３を備
え、励磁コイル２３に適宜の電流を流して補助磁極２２
を励磁することにより生じる主磁極２１の垂直磁界で記
録媒体ＲＭの磁性層に信号を記録し、また記録媒体ＲＭ
の磁性層からの垂直磁界により生じる主１１極２１の磁
束を補助磁極２２に誘起して記録信号を再生するように
したものがある。
このような構成の垂直磁気ヘッドにおいては、高密度記
録を実現するために第７図の波形図に示すようにｖ／Ｊ
磁コイル２３から取出す再生電圧の半値幅Ｗ５０をを狭
くし、隣接する記録信号への干渉を可能な限り減少させ
ることと、良好なＳ／Ｎ比を保証するための再生出力電
圧ＥＯを確保することが重要な条件となる。
録を実現するために第７図の波形図に示すようにｖ／Ｊ
磁コイル２３から取出す再生電圧の半値幅Ｗ５０をを狭
くし、隣接する記録信号への干渉を可能な限り減少させ
ることと、良好なＳ／Ｎ比を保証するための再生出力電
圧ＥＯを確保することが重要な条件となる。
そこで、主磁極２１を、第８図に示すように第１の主磁
性膜２１ａと第２の主磁性膜２’ｂとによって構成し、
これらの磁性膜を非磁性１１９２１ｃを介して積層する
と共に、主磁性膜２１ａ、２１ｂと非磁性膜２１ｃを含
めた全体の積＠厚が最小磁化領域幅になるように構成し
たものがある。
性膜２１ａと第２の主磁性膜２’ｂとによって構成し、
これらの磁性膜を非磁性１１９２１ｃを介して積層する
と共に、主磁性膜２１ａ、２１ｂと非磁性膜２１ｃを含
めた全体の積＠厚が最小磁化領域幅になるように構成し
たものがある。
（発明が解決しようとする問題点）
ところが、上記の構成では主磁性膜を薄膜化することが
非常に困難であり、狭い半値幅と十分なＳ／Ｎ比を確保
することができないという問題点があった。
非常に困難であり、狭い半値幅と十分なＳ／Ｎ比を確保
することができないという問題点があった。
本発明はこのような事情に筋みなされたもので、狭い半
値幅と十分なＳ／Ｎ比を確保することができる垂直磁気
ヘッドを提供することを目的としている。
値幅と十分なＳ／Ｎ比を確保することができる垂直磁気
ヘッドを提供することを目的としている。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、主ｖｉ１極を、最小磁化領域幅の膜厚を有す
る第１と第２の主磁性膜を非磁性膜を介して積層するこ
とによって構成したものである。
る第１と第２の主磁性膜を非磁性膜を介して積層するこ
とによって構成したものである。
（作用）
２つの主磁性膜を最小磁化領域幅とすることによって再
生電圧の半値幅は狭くなり、補助Ｖ７１極の励磁コイル
での再生電圧は各主磁性膜の検出磁束の加算値に対応し
たものとなり、再生電圧の半値幅が減少すると同時に振
幅が増加する。
生電圧の半値幅は狭くなり、補助Ｖ７１極の励磁コイル
での再生電圧は各主磁性膜の検出磁束の加算値に対応し
たものとなり、再生電圧の半値幅が減少すると同時に振
幅が増加する。
（実施例）
第１図は本発明による単磁臣型垂直磁気ヘッドの主磁極
構造を示す断面図であり、主磁極２１を、最小磁化領域
幅ｔと同じ幅の主磁性膜２１ａと２１ｂによって構成し
、さらにこれらの主磁性膜２１ａ、２１ｂを最小磁化領
域幅ｔの非磁性膜２１Ｃを介して積層構造としたもので
ある。
構造を示す断面図であり、主磁極２１を、最小磁化領域
幅ｔと同じ幅の主磁性膜２１ａと２１ｂによって構成し
、さらにこれらの主磁性膜２１ａ、２１ｂを最小磁化領
域幅ｔの非磁性膜２１Ｃを介して積層構造としたもので
ある。
第２図（ａ）はＦ〜１記録方式によって記録された論理
Ｌｄ Ｉ Ｉ＋の信号の磁化状態を示す図である。
Ｌｄ Ｉ Ｉ＋の信号の磁化状態を示す図である。
このＦＭ記録方式においてはＫとｍで示す磁化遷移点で
クロックパルスが発生され、Ｌで示す磁化遷移点でデー
タパルスが発生されるように構成されるが、本発明によ
る主磁極２１が第２図（ｂ）の位置から同図（Ｃ）の位
置に移動すると、各主磁性膜２１ａと２１ｂでの磁束φ
１．φ２は同図（ｄ）、（ｅ）に示すような磁束変化と
なる。すると、補助磁極側での磁束量は同図（ｆ）に示
すようにこれら２つの主磁性膜の合成磁束是φ１＋φ２
となり、再生電圧として同図（９）に示すように半値幅
が最小磁化領域幅より小さく、かつ従来と同様の振幅Ｅ
Ｏを有する信号が得られるようになる。この場合、論理
“０″の記録状態、主磁性膜での磁束変化、再生電圧等
は第３図（ａ）〜（９）に示すようなものとなる。また
、データ信号は、２つの主磁性膜がクロックパルスを発
生させる磁１ヒ遷移点上にあるときにビーク検出が行な
われ、論理゛″１”または０″として判定されて再生さ
れる。
クロックパルスが発生され、Ｌで示す磁化遷移点でデー
タパルスが発生されるように構成されるが、本発明によ
る主磁極２１が第２図（ｂ）の位置から同図（Ｃ）の位
置に移動すると、各主磁性膜２１ａと２１ｂでの磁束φ
１．φ２は同図（ｄ）、（ｅ）に示すような磁束変化と
なる。すると、補助磁極側での磁束量は同図（ｆ）に示
すようにこれら２つの主磁性膜の合成磁束是φ１＋φ２
となり、再生電圧として同図（９）に示すように半値幅
が最小磁化領域幅より小さく、かつ従来と同様の振幅Ｅ
Ｏを有する信号が得られるようになる。この場合、論理
“０″の記録状態、主磁性膜での磁束変化、再生電圧等
は第３図（ａ）〜（９）に示すようなものとなる。また
、データ信号は、２つの主磁性膜がクロックパルスを発
生させる磁１ヒ遷移点上にあるときにビーク検出が行な
われ、論理゛″１”または０″として判定されて再生さ
れる。
第４図（ａ）と（ｂ）は膜厚ｔの主磁性膜を用いた垂直
磁気ヘッド３０とその再生電圧波形、同図（Ｃ）と（ｄ
）は膜厚ｔ／２の主磁性膜を用いた垂直磁気ヘッド３１
とその再生電圧波形、同図（ｅ）と（ｆ）は膜厚ｔ ／
２の主磁性膜３２ａと３２ｂを２枚積層した垂直磁気
ヘッド３２とその再生電圧波形をそれぞれ示すものであ
るが、膜厚ｔの垂直磁気ヘッド３０は再生電圧も大きい
が半値幅Ｗ５０も大きい。また、膜厚ｔ／２の垂直磁気
ヘッド３１は半値幅Ｗ５０は小さくなっている代りに再
生電圧が小さくなっている。これに対し、第４図（ｅ）
に示す本発明の垂直磁気ヘッド３２は再生電圧は第４図
（ａ）のヘッドと同等でありながら半値幅Ｗ５０は１／
２になっている。
磁気ヘッド３０とその再生電圧波形、同図（Ｃ）と（ｄ
）は膜厚ｔ／２の主磁性膜を用いた垂直磁気ヘッド３１
とその再生電圧波形、同図（ｅ）と（ｆ）は膜厚ｔ ／
２の主磁性膜３２ａと３２ｂを２枚積層した垂直磁気
ヘッド３２とその再生電圧波形をそれぞれ示すものであ
るが、膜厚ｔの垂直磁気ヘッド３０は再生電圧も大きい
が半値幅Ｗ５０も大きい。また、膜厚ｔ／２の垂直磁気
ヘッド３１は半値幅Ｗ５０は小さくなっている代りに再
生電圧が小さくなっている。これに対し、第４図（ｅ）
に示す本発明の垂直磁気ヘッド３２は再生電圧は第４図
（ａ）のヘッドと同等でありながら半値幅Ｗ５０は１／
２になっている。
第５図は第１図に示した本発明による主磁極２１の製造
方法を説明するための斜視図であり、同図（ａ）に示す
工程１では磁性膜形成基板４０を鏡面研磨し、次の工程
２（同図（ｂ））で基板４０表面に第１の主磁性膜４１
を最小磁化領域幅と同じ膜厚ｔに形成する。次に、同図
（Ｃ）に示す工程３では主磁性ＷＡ４１の表面上に非磁
性膜４２を最小磁化領域幅と同じ膜厚ｔに形成し、同図
（ｄ）の工程４で非磁性膜４２の表面上に第２の主磁性
膜４３をｗＡ厚ｔで形成する。そして、同図（ｅ）の工
程５では上記のようにてｙ１層して形成した第１．第２
の主磁性［４１，４３および非磁性ＷＡ４２を切削して
積層厚３ｔの主磁極２１を形成する。さらに、同図（ｆ
）に示す工程６では基板４０との間で主１４ＴＡ２１を
挟むように基板４４を接着剤４５によって基板４０に接
着し、同図（Ｃｌ）の最終工程７で主磁極２１を加工し
、第１図で示したような断面形状に整形する。
方法を説明するための斜視図であり、同図（ａ）に示す
工程１では磁性膜形成基板４０を鏡面研磨し、次の工程
２（同図（ｂ））で基板４０表面に第１の主磁性膜４１
を最小磁化領域幅と同じ膜厚ｔに形成する。次に、同図
（Ｃ）に示す工程３では主磁性ＷＡ４１の表面上に非磁
性膜４２を最小磁化領域幅と同じ膜厚ｔに形成し、同図
（ｄ）の工程４で非磁性膜４２の表面上に第２の主磁性
膜４３をｗＡ厚ｔで形成する。そして、同図（ｅ）の工
程５では上記のようにてｙ１層して形成した第１．第２
の主磁性［４１，４３および非磁性ＷＡ４２を切削して
積層厚３ｔの主磁極２１を形成する。さらに、同図（ｆ
）に示す工程６では基板４０との間で主１４ＴＡ２１を
挟むように基板４４を接着剤４５によって基板４０に接
着し、同図（Ｃｌ）の最終工程７で主磁極２１を加工し
、第１図で示したような断面形状に整形する。
このような工程によって主磁極２１を簡単に製造するこ
とができる。
とができる。
なお、上記実施例では補助磁極励磁方式の主磁極の構造
を例に挙げて説明したが、補助磁極を用いない主磁極励
磁型ヘッドにも同様に適用することができる。
を例に挙げて説明したが、補助磁極を用いない主磁極励
磁型ヘッドにも同様に適用することができる。
（発明の効果）
以上説明したことから明らかなように本発明によれば、
最小磁化領域幅の吸尽を有する第１と第２の主磁性膜を
非磁性膜を介して積層して主磁極を構成したため、狭い
半値幅と十分なＳ／Ｎ比を確保することができるという
効果がある。
最小磁化領域幅の吸尽を有する第１と第２の主磁性膜を
非磁性膜を介して積層して主磁極を構成したため、狭い
半値幅と十分なＳ／Ｎ比を確保することができるという
効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図および
第３図は主磁極の磁束変化および再生電圧を説明するた
めの波形図、第４図は主磁極ＭＡ造とその再生電圧波形
を説明するための説明図、第５図は本発明の垂直磁気ヘ
ッドの製造方法を説明するための斜視図、第６図は補助
磁極励磁方式の主磁極の一般的な構造を示す断面図、第
７図はその再生電圧波形を示す波形図、第８図は従来の
主磁極構造を示す断面図である。 ２１・・・主磁極、２２・・・補助磁極、２３・・・励
磁コイル、２１ａ、２１ｂ・・・主磁性膜、２１ｃ・・
・非磁性膜。 Ｉ）小石剖仁倹職椙 ↑ 第７図 第８図 第２図 第３図
第３図は主磁極の磁束変化および再生電圧を説明するた
めの波形図、第４図は主磁極ＭＡ造とその再生電圧波形
を説明するための説明図、第５図は本発明の垂直磁気ヘ
ッドの製造方法を説明するための斜視図、第６図は補助
磁極励磁方式の主磁極の一般的な構造を示す断面図、第
７図はその再生電圧波形を示す波形図、第８図は従来の
主磁極構造を示す断面図である。 ２１・・・主磁極、２２・・・補助磁極、２３・・・励
磁コイル、２１ａ、２１ｂ・・・主磁性膜、２１ｃ・・
・非磁性膜。 Ｉ）小石剖仁倹職椙 ↑ 第７図 第８図 第２図 第３図
Claims (2)
- （１）垂直磁気記録媒体に摺接して垂直磁気記録再生を
行う単磁極型の垂直磁気ヘッドにおいて、最小磁化領域
幅の膜厚を有する第１の主磁性膜と第２の主磁性膜とを
非磁性膜を介して積層して成る主磁極を具備したことを
特徴とする垂直磁気ヘッド。 - （２）前記非磁性膜はその膜厚を最小磁化領域幅と同じ
に設定したことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
記載の垂直磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19949086A JPS6355708A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 垂直磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19949086A JPS6355708A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 垂直磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6355708A true JPS6355708A (ja) | 1988-03-10 |
Family
ID=16408677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19949086A Pending JPS6355708A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 垂直磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6355708A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103034089A (zh) * | 2011-10-05 | 2013-04-10 | 佳能株式会社 | 图像形成设备 |
-
1986
- 1986-08-26 JP JP19949086A patent/JPS6355708A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103034089A (zh) * | 2011-10-05 | 2013-04-10 | 佳能株式会社 | 图像形成设备 |
| US9042754B2 (en) | 2011-10-05 | 2015-05-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus having latent image timing |
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