JPS62204418A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS62204418A JPS62204418A JP4540286A JP4540286A JPS62204418A JP S62204418 A JPS62204418 A JP S62204418A JP 4540286 A JP4540286 A JP 4540286A JP 4540286 A JP4540286 A JP 4540286A JP S62204418 A JPS62204418 A JP S62204418A
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- magnetic
- thin film
- permeability
- layer
- recording
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Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims abstract description 21
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims abstract description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 2
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/245—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features comprising means for controlling the reluctance of the magnetic circuit in a head with single gap, for co-operation with one track
- G11B5/2452—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features comprising means for controlling the reluctance of the magnetic circuit in a head with single gap, for co-operation with one track where the dimensions of the effective gap are controlled
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3143—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding
- G11B5/3146—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding magnetic layers
- G11B5/3153—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding magnetic layers including at least one magnetic thin film coupled by interfacing to the basic magnetic thin film structure
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体に信号を読み書きするのに用いら
れる磁気ヘッドに関し、特に再生分解能の高い薄膜磁気
ヘッドに関する。
れる磁気ヘッドに関し、特に再生分解能の高い薄膜磁気
ヘッドに関する。
磁気記録装置の高密度化および記録情報の高転送速度化
に伴ない、従来のバルクヘッドにかわり薄膜ヘッドが実
用化されている。また、渦電流損失を減少させさらに高
周波特性を向上させた多層の磁性膜からなる薄膜磁気ヘ
ッドも提案されている。
に伴ない、従来のバルクヘッドにかわり薄膜ヘッドが実
用化されている。また、渦電流損失を減少させさらに高
周波特性を向上させた多層の磁性膜からなる薄膜磁気ヘ
ッドも提案されている。
従来、この種の薄膜ヘッドの一例を１便宜上。
第１図を用いて説明する。基板１１．）：において。
コイル層１５の上下に下部磁極２０と上部磁極３０とを
配設している。下部磁極２０は磁性層２１および２２よ
りなる。また上部磁・咀３０は磁性層３１および３２よ
りなる。
配設している。下部磁極２０は磁性層２１および２２よ
りなる。また上部磁・咀３０は磁性層３１および３２よ
りなる。
ところで、この種の薄膜ヘッドにおける記録トラック方
向の線密度は１便宜上、第３図を参照して、磁１Ｆｌｉ
２０の全体の厚さｐｂ 、上部磁極３０の全体の厚さｐ
ｔ、およびそれらの間の記録再生ギャソ７’１６の最さ
ｇと密接に関係している。即ち、線密度を向上させるに
はこれらの寸法を小さくする必要がある。
向の線密度は１便宜上、第３図を参照して、磁１Ｆｌｉ
２０の全体の厚さｐｂ 、上部磁極３０の全体の厚さｐ
ｔ、およびそれらの間の記録再生ギャソ７’１６の最さ
ｇと密接に関係している。即ち、線密度を向上させるに
はこれらの寸法を小さくする必要がある。
上述した従来の薄膜ヘッドにおいて、上記各寸法ｇ 、
ｐｂおよびｐｔを小さくすると、書込み時に発生する
磁界強度が低下し、所望の書込み性能が得られなくなる
という欠点があった。書込み時に強い磁界を発生させる
ためには、上記三箇所の寸法を大きくする必要があるが
、そうすると、読出し時の高周波特性も劣化し、高密度
記録には適さなくなる。このように、記録再生ギャップ
長および二つの磁極の厚さ寸法に対し、書込みおよび読
出し性能からは相反する要求が発生している。以上の理
由により、記録再生ギャップ長および二つの磁極、の厚
さを狭小化する従来の薄膜ヘッドにおいては、７００ピ
ッド／ｆｆ１Ｉ１１程度が高密度化の限界であった。
ｐｂおよびｐｔを小さくすると、書込み時に発生する
磁界強度が低下し、所望の書込み性能が得られなくなる
という欠点があった。書込み時に強い磁界を発生させる
ためには、上記三箇所の寸法を大きくする必要があるが
、そうすると、読出し時の高周波特性も劣化し、高密度
記録には適さなくなる。このように、記録再生ギャップ
長および二つの磁極の厚さ寸法に対し、書込みおよび読
出し性能からは相反する要求が発生している。以上の理
由により、記録再生ギャップ長および二つの磁極、の厚
さを狭小化する従来の薄膜ヘッドにおいては、７００ピ
ッド／ｆｆ１Ｉ１１程度が高密度化の限界であった。
また下部及び上部磁極２０および３０を飽和磁化の異な
る二つの磁性層２１および２２と３１および３２とから
構成することによシ書込み磁界を向上する提案もなされ
ているが、各磁性層の透磁率が等しいため、前述の寸法
の効果により記録密度は向−ヒレない。
る二つの磁性層２１および２２と３１および３２とから
構成することによシ書込み磁界を向上する提案もなされ
ているが、各磁性層の透磁率が等しいため、前述の寸法
の効果により記録密度は向−ヒレない。
本発明の目的は上記従来の薄膜ヘッドの欠点を除去し、
高密度記録下知おいて高い読出し性能と高い書込み性能
を兼ね備えた薄膜ヘッドを提供することにある。
高密度記録下知おいて高い読出し性能と高い書込み性能
を兼ね備えた薄膜ヘッドを提供することにある。
本発明によれば、基板上にギャップを形成する非磁性層
とコイルを形成する導体層とを挾んで。
とコイルを形成する導体層とを挾んで。
複数の軟磁性膜を有する積層体からなる上部および下部
磁極を配置した薄膜磁気ヘッドにおいて。
磁極を配置した薄膜磁気ヘッドにおいて。
前記上部および下部磁極のうちの少なくとも一方を構成
する複数の軟磁性膜は、前記非磁性層に近い膜ほど透磁
率が高い材料よシなり、前記非磁性層から遠い膜ほど飽
和磁化が大きくかつ透磁率が低い材料よシなることを特
徴とする薄膜磁気ヘッドが得られる。
する複数の軟磁性膜は、前記非磁性層に近い膜ほど透磁
率が高い材料よシなり、前記非磁性層から遠い膜ほど飽
和磁化が大きくかつ透磁率が低い材料よシなることを特
徴とする薄膜磁気ヘッドが得られる。
以下２本発明について図面を参照して説明する。
第１図を参照して１本発明の一実施例の薄膜磁気ヘッド
は、基板１１と、その上に形成した下部磁極２０と、そ
の上方に広がった上部磁極３０とを含んでいる。
は、基板１１と、その上に形成した下部磁極２０と、そ
の上方に広がった上部磁極３０とを含んでいる。
下部磁極２０と上部磁極３０は、記録媒体（図示せず）
と対向する側の端部に記録再生ギヤ１ｆ１６となる微小
間隙を持ち、記録再生ギャップ１６と反対側の端部では
互いに接触している。下部磁極２０と上部磁極３ｏの間
には、絶縁性の非磁性層１８を介して導電層からなるコ
イル１５が形成されている。
と対向する側の端部に記録再生ギヤ１ｆ１６となる微小
間隙を持ち、記録再生ギャップ１６と反対側の端部では
互いに接触している。下部磁極２０と上部磁極３ｏの間
には、絶縁性の非磁性層１８を介して導電層からなるコ
イル１５が形成されている。
下部磁極２０は二つの軟磁性膜（磁性層）２１および２
２から成る。また上部磁極３０も二つの軟磁性膜（磁性
層）３１および３２から成る。
２から成る。また上部磁極３０も二つの軟磁性膜（磁性
層）３１および３２から成る。
下部磁極２０と上部磁極３０の夫々の二つの磁性層のう
ち、記録再生ギャップ１６に近い方の磁性層２１．３１
は透磁率の比較的高い材料よシ作シ、さらに記録再生ギ
ャップ１６から遠い方の磁性層２２．３２は飽和磁化が
大きくかつ透磁率の小さい材料より作る。例えば、一方
の種類の磁性層２１．３１には、飽和磁化０．８５Ｔ
（テスラ）。
ち、記録再生ギャップ１６に近い方の磁性層２１．３１
は透磁率の比較的高い材料よシ作シ、さらに記録再生ギ
ャップ１６から遠い方の磁性層２２．３２は飽和磁化が
大きくかつ透磁率の小さい材料より作る。例えば、一方
の種類の磁性層２１．３１には、飽和磁化０．８５Ｔ
（テスラ）。
比透磁率３，０００のＮｉ−Ｆｅを、また他方の種類の
磁性層２２．３２には飽和磁化１．３Ｔ、比透磁率１．
０００のＣｏ −Ｚ ｒ−Ｎｂを用いた。
磁性層２２．３２には飽和磁化１．３Ｔ、比透磁率１．
０００のＣｏ −Ｚ ｒ−Ｎｂを用いた。
上述の薄膜ヘッドの磁化曲線（書込み磁界Ｈに対する磁
化Ｍ）は第２図となる。第２図において。
化Ｍ）は第２図となる。第２図において。
Ｃ１は記録再生ギャップ１６に近い磁性層２１．３１の
磁化曲線を示し＋Ｃ２は記録再生ギャップ１６から遠い
磁性層２２．３２の磁化曲線を示す。一方の種類の磁性
層２１．３１は透磁率が大きいため書込み磁界Ｈの小さ
い領域において磁化面＃、／Ｃｔは急峻な勾配を有する
。これに対し、他方の種類の磁性層２２．３２は透磁率
が前述の磁性＠２１゜３１より小さいため磁化面＠Ｃｚ
の勾配はＣ！より小さい。しかし、前述のように磁化曲
線ｃ２の飽和磁化ＭＳ２はＣ１の飽和磁化よシ大きい。
磁化曲線を示し＋Ｃ２は記録再生ギャップ１６から遠い
磁性層２２．３２の磁化曲線を示す。一方の種類の磁性
層２１．３１は透磁率が大きいため書込み磁界Ｈの小さ
い領域において磁化面＃、／Ｃｔは急峻な勾配を有する
。これに対し、他方の種類の磁性層２２．３２は透磁率
が前述の磁性＠２１゜３１より小さいため磁化面＠Ｃｚ
の勾配はＣ！より小さい。しかし、前述のように磁化曲
線ｃ２の飽和磁化ＭＳ２はＣ１の飽和磁化よシ大きい。
このような薄膜ヘッドによると、磁界強度が書込み時と
読出し時で異なることと、記録密度が上下磁極の厚さと
記録再生ギャップ長の和に関係することとが有効に利用
される。すなわち、書込み時にコイル層１５により発生
する磁界強度は非常に大きいため、第２図に示すように
書込み時には外側の磁性層２２１が作用し、書込み磁界
はＭＳ２により決定される。これに対し、読出し磁界は
書込み磁界の約ｉ程度であるため、透磁率の大きい内側
の磁性層２１．３１のみが作用する。したがって、この
薄膜ヘッドの読出し時の周波数特性は。
読出し時で異なることと、記録密度が上下磁極の厚さと
記録再生ギャップ長の和に関係することとが有効に利用
される。すなわち、書込み時にコイル層１５により発生
する磁界強度は非常に大きいため、第２図に示すように
書込み時には外側の磁性層２２１が作用し、書込み磁界
はＭＳ２により決定される。これに対し、読出し磁界は
書込み磁界の約ｉ程度であるため、透磁率の大きい内側
の磁性層２１．３１のみが作用する。したがって、この
薄膜ヘッドの読出し時の周波数特性は。
第３図における磁性層２１の厚さｐｂｌ、磁性層３１の
厚さｐｔｌおよび記録再生ギャップ１６の長さｇにより
決定される。
厚さｐｔｌおよび記録再生ギャップ１６の長さｇにより
決定される。
第４図に従来の薄膜ヘッドの記録再生ギャップ長と上部
磁極厚と下部磁極厚との合計寸法ｇ＋ｐｔ＋ｐｂに対す
る記録密度Ｄ５ｏ（ｂｉｔＳ／／ｆｆ１Ｉ１１）と書込
み磁界Ｈｗ（Ａ／ｍ）の変化を示す。なおｅ Ｉ）ｓｏ
とは記録密度を表す一つの・２ラメータで、読出し出力
電圧が孤立波出力電圧の下となったときの記録密度を意
味する。第４図に示すようにｇ＋ｐｔ＋ｐｂを小さくす
るとＩ）ｓｏは高くなるが、Ｈｗは減少する傾向にある
。第４図より、従来の薄膜ヘッドでは。
磁極厚と下部磁極厚との合計寸法ｇ＋ｐｔ＋ｐｂに対す
る記録密度Ｄ５ｏ（ｂｉｔＳ／／ｆｆ１Ｉ１１）と書込
み磁界Ｈｗ（Ａ／ｍ）の変化を示す。なおｅ Ｉ）ｓｏ
とは記録密度を表す一つの・２ラメータで、読出し出力
電圧が孤立波出力電圧の下となったときの記録密度を意
味する。第４図に示すようにｇ＋ｐｔ＋ｐｂを小さくす
るとＩ）ｓｏは高くなるが、Ｈｗは減少する傾向にある
。第４図より、従来の薄膜ヘッドでは。
Ｈｗが決定するとｇ＋ｐｔ＋ｐｂの制約によりＩ）ｓｏ
にはおのずと上限が存在した。たとえば１７０ Ｘ １
０ Ａ／ｍのＨｗが必要な場合にはＤ５０は６５０ｂｉ
ｔｓ／ｍ以上にはなり得なかった。
にはおのずと上限が存在した。たとえば１７０ Ｘ １
０ Ａ／ｍのＨｗが必要な場合にはＤ５０は６５０ｂｉ
ｔｓ／ｍ以上にはなり得なかった。
これに対し、上述の薄膜ヘッドにおいては、Ｈｗはｇ＋
ｐｔ十Ｐｂにより決まるが’ Ｄ５０は前述のようにｇ
＋ｐｔｌ＋ｐｂｔによシ決定されるためＩＨｗとＤ５゜
の高い値を同時にとることが可能である。
ｐｔ十Ｐｂにより決まるが’ Ｄ５０は前述のようにｇ
＋ｐｔｌ＋ｐｂｔによシ決定されるためＩＨｗとＤ５゜
の高い値を同時にとることが可能である。
このように上述の薄膜磁気ヘッドは、高密度記録下にお
いて高い読出し性能と高い書込み性能を兼ね備えたヘッ
ドとなっている。
いて高い読出し性能と高い書込み性能を兼ね備えたヘッ
ドとなっている。
なか上記実施例では上下の磁極が各々二つの磁性層から
成る薄膜ヘッドについて述べたが、三つ以上の磁性層か
ら成る薄膜ヘッドにおいても本発明は同様に適用でき、
同等の効果を得ることができる。さらに、高周波特性を
改善するだめ各磁性層間に非磁性の中間層を設けた薄膜
ヘッドにも同様に適用できる。また、上部または下部磁
極の一方についてのみ、非磁性層に近い膜ほど透磁率が
高く、非磁性層から遠い膜ほど飽和磁化が大きくかつ透
磁率が低いように設計してもよい。したがって２以上の
いずれの薄膜ヘッドも本発明から逸脱するものではない
。
成る薄膜ヘッドについて述べたが、三つ以上の磁性層か
ら成る薄膜ヘッドにおいても本発明は同様に適用でき、
同等の効果を得ることができる。さらに、高周波特性を
改善するだめ各磁性層間に非磁性の中間層を設けた薄膜
ヘッドにも同様に適用できる。また、上部または下部磁
極の一方についてのみ、非磁性層に近い膜ほど透磁率が
高く、非磁性層から遠い膜ほど飽和磁化が大きくかつ透
磁率が低いように設計してもよい。したがって２以上の
いずれの薄膜ヘッドも本発明から逸脱するものではない
。
以上説明したように本発明によれば、読出し時の高周波
特性を損なわずに書込み磁界を強くすることができ、し
たがって記録密度の向上に効果がある薄膜磁気ヘッドを
提供できる。
特性を損なわずに書込み磁界を強くすることができ、し
たがって記録密度の向上に効果がある薄膜磁気ヘッドを
提供できる。
第１図は本発明の一実施例による薄膜ヘッドの断面斜視
図、第２図は本発明の薄膜ヘッドにおける磁化曲線を示
す図、第３図は本発明の薄膜ヘッドを記録媒体側から見
た平面図、第４図は従来の薄膜ヘッドの記録密度と書込
み磁界強度を示す図である。 １１・・・基板、１５・・・コイル層、１６・・・記録
再生ギャップ、１８・・・絶縁層、２０・・・下部磁極
、２１および２２・・・軟磁性膜（磁性層）、３０・・
・上部磁極、３１および３２・・・軟磁性膜（磁性層）
。 第１図 １５ ＩＩ 第２図
図、第２図は本発明の薄膜ヘッドにおける磁化曲線を示
す図、第３図は本発明の薄膜ヘッドを記録媒体側から見
た平面図、第４図は従来の薄膜ヘッドの記録密度と書込
み磁界強度を示す図である。 １１・・・基板、１５・・・コイル層、１６・・・記録
再生ギャップ、１８・・・絶縁層、２０・・・下部磁極
、２１および２２・・・軟磁性膜（磁性層）、３０・・
・上部磁極、３１および３２・・・軟磁性膜（磁性層）
。 第１図 １５ ＩＩ 第２図
Claims (2)
- （１）基板上にギャップを形成する非磁性層とコイルを
形成する導体層とを挾んで、複数の軟磁性膜を有する積
層体からなる上部および下部磁極を配置した薄膜磁気ヘ
ッドにおいて、前記上部および下部磁極のうちの少なく
とも一方を構成する複数の軟磁性膜は、前記非磁性層に
近い膜ほど透磁率が高い材料よりなり、前記非磁性層か
ら遠い膜ほど飽和磁化が大きくかつ透磁率が低い材料よ
りなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （２）前記磁極は軟磁性膜間に非磁性の中間層を有して
いる特許請求の範囲第（１）項に記載の薄膜磁気ヘッド
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4540286A JPS62204418A (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4540286A JPS62204418A (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62204418A true JPS62204418A (ja) | 1987-09-09 |
Family
ID=12718260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4540286A Pending JPS62204418A (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62204418A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02181402A (ja) * | 1988-08-03 | 1990-07-16 | Digital Equip Corp <Dec> | 信号磁束を広げる薄膜磁気装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5724015A (en) * | 1980-07-17 | 1982-02-08 | Mitsubishi Electric Corp | Thin film magnetic head |
| JPS5868211A (ja) * | 1981-10-16 | 1983-04-23 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
-
1986
- 1986-03-04 JP JP4540286A patent/JPS62204418A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5724015A (en) * | 1980-07-17 | 1982-02-08 | Mitsubishi Electric Corp | Thin film magnetic head |
| JPS5868211A (ja) * | 1981-10-16 | 1983-04-23 | Fujitsu Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02181402A (ja) * | 1988-08-03 | 1990-07-16 | Digital Equip Corp <Dec> | 信号磁束を広げる薄膜磁気装置 |
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