JPS6353872A - 接触子用材料 - Google Patents
接触子用材料Info
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- JPS6353872A JPS6353872A JP19667186A JP19667186A JPS6353872A JP S6353872 A JPS6353872 A JP S6353872A JP 19667186 A JP19667186 A JP 19667186A JP 19667186 A JP19667186 A JP 19667186A JP S6353872 A JPS6353872 A JP S6353872A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は銅合金母材に錫あるいは錫合金をめっきした
接触子用材料に関するものであり、特に接触信頼性に優
れた接触子用材料に関する。
接触子用材料に関するものであり、特に接触信頼性に優
れた接触子用材料に関する。
電子機器回路に使用されているコネクタやICソケット
等の接触子には、一般に銅合金の母材上に表面接点金属
として金、銀、錫合金等のめっきを施した材料が用いら
れる。これらの接触子用材料は、近年の軽薄短小化の時
流の中で、青金属めっきでは局所化が進み、錫系めっき
ではめっき被膜の厚さを薄くしたものが主流となってい
る。
等の接触子には、一般に銅合金の母材上に表面接点金属
として金、銀、錫合金等のめっきを施した材料が用いら
れる。これらの接触子用材料は、近年の軽薄短小化の時
流の中で、青金属めっきでは局所化が進み、錫系めっき
ではめっき被膜の厚さを薄くしたものが主流となってい
る。
このめっき被膜を薄くした錫系めっきを施した接触子用
材料としては、例えば特公昭60−19630号公報に
示されたように、りん青銅等の銅合金母材上に錫あるい
は錫合金をめっきした後、表面のめっき被膜に加熱溶融
処理を施したものがある・この加熱溶融処理方法は、バ
ーナー直火型炉、エレマ炉等の加熱炉において炉温55
0〜680°Cの温度で3〜10秒加熱するとされてい
る。
材料としては、例えば特公昭60−19630号公報に
示されたように、りん青銅等の銅合金母材上に錫あるい
は錫合金をめっきした後、表面のめっき被膜に加熱溶融
処理を施したものがある・この加熱溶融処理方法は、バ
ーナー直火型炉、エレマ炉等の加熱炉において炉温55
0〜680°Cの温度で3〜10秒加熱するとされてい
る。
また、先願発明(特願昭61−16445号)として、
マツフル炉において雰囲気温度180〜350℃で加熱
した直後に、500℃以上の温度で瞬時の加熱溶融処理
を行ったものも提案されている。
マツフル炉において雰囲気温度180〜350℃で加熱
した直後に、500℃以上の温度で瞬時の加熱溶融処理
を行ったものも提案されている。
一般にこれらの加熱の際には、銅合金母材の主成分であ
る銅とめっき被膜中の錫とが相互拡散し、母材とめっき
被膜の界面に銅錫合金層が形成される。この銅錫合金層
の生成量は、加熱温度、加熱時間、母材板厚などによっ
て決定され、さらに詳細には冷却温度、母材とめつき金
属の熱伝導度および比熱、加熱媒体の対流などによって
も左右される。したがって上記のような加熱溶融処理条
件であっても、母材板厚によっては銅錫合金層がほとん
ど形成されないこともあり、逆に被膜中のほとんどが銅
錫合金層になる場合もある。すなわち。
る銅とめっき被膜中の錫とが相互拡散し、母材とめっき
被膜の界面に銅錫合金層が形成される。この銅錫合金層
の生成量は、加熱温度、加熱時間、母材板厚などによっ
て決定され、さらに詳細には冷却温度、母材とめつき金
属の熱伝導度および比熱、加熱媒体の対流などによって
も左右される。したがって上記のような加熱溶融処理条
件であっても、母材板厚によっては銅錫合金層がほとん
ど形成されないこともあり、逆に被膜中のほとんどが銅
錫合金層になる場合もある。すなわち。
加熱温度と加熱時間だけでは銅錫合金層の生成量は規制
できない。
できない。
電子機器は排ガスや海浜地帯などの腐食しやすい環境や
、高温、高湿下、あるいは車両搭載時の振動や衝撃など
様々な環境で使用されている。これら電子機器に組み込
まれる接触子は上記のような厳しい環境に耐え得る性質
を有する必要がある。
、高温、高湿下、あるいは車両搭載時の振動や衝撃など
様々な環境で使用されている。これら電子機器に組み込
まれる接触子は上記のような厳しい環境に耐え得る性質
を有する必要がある。
このような接触子の使用状況を想定して、接触子は様々
な信頼性試験に供されてその品質確認がなされる。−例
としては、コネクタを数十回挿抜後。
な信頼性試験に供されてその品質確認がなされる。−例
としては、コネクタを数十回挿抜後。
温湿度サイクルや腐食性環境に置き、接触抵抗値を測定
するといった方法である。
するといった方法である。
従来、銅合金母材に錫系めっきを行った後、加熱溶融処
理を施した接触子用材料を接触子に成形加工し、上記の
信頼性試験に供した場合、コネクタの挿抜により表面接
点全屈であるめっき被膜が削られて錫が粉末状に接点面
に付着し、この錫粉末は活性度が高いため、その後の温
湿度サイクル試験や腐食環境試験によって、酸化や硫化
等の化学反応を起こし、接触抵抗が上昇するという問題
点があった。
理を施した接触子用材料を接触子に成形加工し、上記の
信頼性試験に供した場合、コネクタの挿抜により表面接
点全屈であるめっき被膜が削られて錫が粉末状に接点面
に付着し、この錫粉末は活性度が高いため、その後の温
湿度サイクル試験や腐食環境試験によって、酸化や硫化
等の化学反応を起こし、接触抵抗が上昇するという問題
点があった。
この発明はかかる問題点を解決するためになされたもの
で、成形加工したコネクタの挿抜を繰り返してもあまり
錫の粉末が発生せず、挿抜後に温湿度サイクルや腐食環
境に曝しても接触抵抗が上昇しない接触子用材料を得る
ことを目的とする。
で、成形加工したコネクタの挿抜を繰り返してもあまり
錫の粉末が発生せず、挿抜後に温湿度サイクルや腐食環
境に曝しても接触抵抗が上昇しない接触子用材料を得る
ことを目的とする。
この発明にかかる接触子用材料は、銅合金形村上に直接
または銅下地めっきを施した後、錫あるいは錫合金めっ
きを施し、この錫あるいは錫合金めっき被膜を加熱溶融
した接触子用材料において、加熱溶融によりめっき被膜
と母材または銅めっき被膜の界面に生成する銅錫合金層
の厚さを、銅錫合金層とその外側のめっき金属層の合計
の厚さの50〜80%としたものである。
または銅下地めっきを施した後、錫あるいは錫合金めっ
きを施し、この錫あるいは錫合金めっき被膜を加熱溶融
した接触子用材料において、加熱溶融によりめっき被膜
と母材または銅めっき被膜の界面に生成する銅錫合金層
の厚さを、銅錫合金層とその外側のめっき金属層の合計
の厚さの50〜80%としたものである。
母材の銅合金としてはりん青銅、Cu−5n−Ni合金
など、従来より接触子用材料に使用されてきた銅合金が
使用できる。銅下地めっき、および錫あるいは錫合金め
っきも従来の接触子用材料に行われてきたものと同様に
行うことができる。錫合金としては錫−鉛合金などがあ
る。
など、従来より接触子用材料に使用されてきた銅合金が
使用できる。銅下地めっき、および錫あるいは錫合金め
っきも従来の接触子用材料に行われてきたものと同様に
行うことができる。錫合金としては錫−鉛合金などがあ
る。
めっき被膜を形成後の加熱はめっき被膜を溶融して母材
中に拡散させ、めっき被膜と母材の界面に銅錫合金層を
形成するものであり、マツフル炉またはバーナーによる
直接加熱が好ましいが、加熱中の表面酸化を防止できる
他の加熱手段によってもよい。
中に拡散させ、めっき被膜と母材の界面に銅錫合金層を
形成するものであり、マツフル炉またはバーナーによる
直接加熱が好ましいが、加熱中の表面酸化を防止できる
他の加熱手段によってもよい。
本発明の接触子用材料は、銅合金上に直接または銅めっ
きを施した後、錫あるいは錫合金めっきを施し、形成さ
れためっき被膜を加熱溶融して、銅合金母材あるいは銅
下地めっき被膜とこれらの上にめっきした錫めっき被膜
の界面に、銅錫合金層とその外側のめっき金属層を足し
た厚さの50〜80%の厚さの銅錫合金層を生成させる
ことにより製造される。
きを施した後、錫あるいは錫合金めっきを施し、形成さ
れためっき被膜を加熱溶融して、銅合金母材あるいは銅
下地めっき被膜とこれらの上にめっきした錫めっき被膜
の界面に、銅錫合金層とその外側のめっき金属層を足し
た厚さの50〜80%の厚さの銅錫合金層を生成させる
ことにより製造される。
この発明の接触子用材料においては、全被膜中の50〜
80%の厚さを占める硬い銅錫合金層が存在するので、
成形加工後の接触子の挿抜を繰り返しても、接点の最表
面が削られるだけで内部の銅錫合金層は削られないから
、錫粉末の過剰な生成を防止し、挿抜後に温湿度サイク
ルや腐食環境に曝しても、錫化合物の生成は少ないので
、接触抵抗の上昇は十分に抑制される。
80%の厚さを占める硬い銅錫合金層が存在するので、
成形加工後の接触子の挿抜を繰り返しても、接点の最表
面が削られるだけで内部の銅錫合金層は削られないから
、錫粉末の過剰な生成を防止し、挿抜後に温湿度サイク
ルや腐食環境に曝しても、錫化合物の生成は少ないので
、接触抵抗の上昇は十分に抑制される。
以下、この発明の実施例について説明する。母材として
2種類のりん青銅(C5101RとC5210R)およ
びCu−Sn−Ni合金(MF202R)を使用し、こ
れらの母材上に錫あるいは錫−鉛合金めっきを行い、加
熱溶融処理により銅錫合金層を生成させ、この銅錫合金
層の厚さが、それ自体の厚さとその外側のめっき金属層
の厚さを足した厚さの50〜80%(以下。
2種類のりん青銅(C5101RとC5210R)およ
びCu−Sn−Ni合金(MF202R)を使用し、こ
れらの母材上に錫あるいは錫−鉛合金めっきを行い、加
熱溶融処理により銅錫合金層を生成させ、この銅錫合金
層の厚さが、それ自体の厚さとその外側のめっき金属層
の厚さを足した厚さの50〜80%(以下。
この比率を拡散層比率と呼ぶ)として接触子用材料を、
接触子に成形加工後、接触信頼性試験を行って接触抵抗
を測定するとともに、はんだ付は性試験を行った。
接触子に成形加工後、接触信頼性試験を行って接触抵抗
を測定するとともに、はんだ付は性試験を行った。
また上記母材に銅下地めっきを施した後同様の処理を行
った接触子用材料についても同様の試験を行った。
った接触子用材料についても同様の試験を行った。
比較例として、拡散層比率を20.40%および100
%とした以外は実施例と同様に製作した接触子用材料に
ついて同様の試験を行った。
%とした以外は実施例と同様に製作した接触子用材料に
ついて同様の試験を行った。
錫めっきは硫Iv錫浴、銅下地めっきは硫酸銅浴により
施し、また錫−鉛合金はホウフッ化浴により90%5n
−10%pb合金を電着した。加熱溶融処理はマツフル
炉とバーナーによる直接加熱を併用して行った。
施し、また錫−鉛合金はホウフッ化浴により90%5n
−10%pb合金を電着した。加熱溶融処理はマツフル
炉とバーナーによる直接加熱を併用して行った。
接触信頼性試験ならびにはんだ付は性試験の条件は下記
の通りである。
の通りである。
温湿度サイクル試験
コネクタを10回挿抜後、嵌合状態で第1図に示す温湿
度サイクル雰囲気に10サイクル曝し、接触抵抗を81
11定した。
度サイクル雰囲気に10サイクル曝し、接触抵抗を81
11定した。
耐硫化水素試験
コネクタを10回挿抜後、嵌合状態で硫化水素ガス濃度
3ppm−温度40℃、湿度90%の雰囲気に500時
間曝し、接触抵抗を測定した。
3ppm−温度40℃、湿度90%の雰囲気に500時
間曝し、接触抵抗を測定した。
はんだ付は性試験
成形加工前の条材を沸騰した水蒸気に1時間曝した後、
ロジン系W級フラックスに3秒間浸漬し、230℃の共
晶はんだ浴に、25aoo/seeの浸漬速度で、深さ
8m+nで5秒間浸漬し、濡れ時間を測定した。
ロジン系W級フラックスに3秒間浸漬し、230℃の共
晶はんだ浴に、25aoo/seeの浸漬速度で、深さ
8m+nで5秒間浸漬し、濡れ時間を測定した。
第1表はこの発明の実施例ならびに比較例の接触信頼性
およびはんだ付は性試験の結果である。
およびはんだ付は性試験の結果である。
本発明の実施例では、接触信頼性試験における接触抵抗
の上昇はわずかであったが、拡散層比率が20%と40
%の比較例では、接触抵抗が大きく上昇した。また、拡
散層比率が100%の比較例では。
の上昇はわずかであったが、拡散層比率が20%と40
%の比較例では、接触抵抗が大きく上昇した。また、拡
散層比率が100%の比較例では。
はんだの濡れが得られなかった。
ところで上記実施例では、母材としてりん青銅とMF2
02Rの場合について述べたが、C7250等の銅合金
についても同様の効果が得られる。まためっき浴は上記
説明以外の浴であっても本質的に変わらない。さらに拡
散層比率を50〜80%とする加熱溶融手段は、マンフ
ル炉およびバーナーの直接加熱による方法以外でも可能
であるが、加熱中の表面酸化を防ぐ必要がある。
02Rの場合について述べたが、C7250等の銅合金
についても同様の効果が得られる。まためっき浴は上記
説明以外の浴であっても本質的に変わらない。さらに拡
散層比率を50〜80%とする加熱溶融手段は、マンフ
ル炉およびバーナーの直接加熱による方法以外でも可能
であるが、加熱中の表面酸化を防ぐ必要がある。
この発明は以上説明した通り、拡散層比率を50〜80
%にすることにより、挿抜時の錫粉末の発生を少なくし
て接触抵抗の上昇を有効に抑制し、接触子の接触信頼性
を維持することができるという効果がある。
%にすることにより、挿抜時の錫粉末の発生を少なくし
て接触抵抗の上昇を有効に抑制し、接触子の接触信頼性
を維持することができるという効果がある。
図は温湿度サイクル試験を説明する線図である。
Claims (4)
- (1)銅合金母材上に直接錫あるいは錫合金めっきを施
し、この錫あるいは錫合金めっき被膜を加熱溶融してな
る接触子用材料において、前記加熱溶融によりめっき被
膜と母材の界面に生成する銅錫合金層の厚さが、銅錫合
金層とその外側のめっき金属層の合計の厚さの50〜8
0%であることを特徴とする接触子用材料。 - (2)銅合金がりん青銅またはCu−Sn−Ni合金で
ある特許請求の範囲第1項記載の接触子用材料。 - (3)銅下地めっきを施した銅合金母材上に錫あるいは
錫合金めっきを施し、この錫あるいは錫合金めっき被膜
を加熱溶融してなる接触子用材料において、前記加熱溶
融により錫あるいは錫合金めっき被膜と銅めっき被膜の
界面に生成する銅錫合金層の厚さが、銅錫合金層とその
外側のめっき金属層の合計の厚さの50〜80%である
ことを特徴とする接触子用材料。 - (4)銅合金がりん青銅またはCu−Sn−Ni合金で
ある特許請求の範囲第3項記載の接触子用材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19667186A JPS6353872A (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | 接触子用材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19667186A JPS6353872A (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | 接触子用材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6353872A true JPS6353872A (ja) | 1988-03-08 |
Family
ID=16361656
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19667186A Pending JPS6353872A (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | 接触子用材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6353872A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05190250A (ja) * | 1991-07-22 | 1993-07-30 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 電気デバイスの製造方法 |
JP2003147579A (ja) * | 2001-11-13 | 2003-05-21 | Yazaki Corp | 端 子 |
JP2006328542A (ja) * | 2006-05-29 | 2006-12-07 | Dowa Holdings Co Ltd | 銅基合金材およびその製造法 |
Citations (1)
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JPS5615569A (en) * | 1979-07-18 | 1981-02-14 | Nippon Mining Co | Contactor |
-
1986
- 1986-08-22 JP JP19667186A patent/JPS6353872A/ja active Pending
Patent Citations (1)
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