JPS6348612A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS6348612A JPS6348612A JP61190518A JP19051886A JPS6348612A JP S6348612 A JPS6348612 A JP S6348612A JP 61190518 A JP61190518 A JP 61190518A JP 19051886 A JP19051886 A JP 19051886A JP S6348612 A JPS6348612 A JP S6348612A
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体に関する。特に電気特性に優れた
高密度磁気記８Ｗｃ体に関する。
高密度磁気記８Ｗｃ体に関する。
近年、磁気デ、イスクなどの磁気記０媒体は、高密度化
の要求に伴って、強磁性体を含む塗膜は薄膜となる方向
にある。すなわち、従来４〜５μｍ又はそれ以上であっ
た塗膜の膜厚は、近年１μｍ以下になりつつある（日本
機械学会第６１５回講習会テキスト第８４頁、昭和６１
年１月）。
の要求に伴って、強磁性体を含む塗膜は薄膜となる方向
にある。すなわち、従来４〜５μｍ又はそれ以上であっ
た塗膜の膜厚は、近年１μｍ以下になりつつある（日本
機械学会第６１５回講習会テキスト第８４頁、昭和６１
年１月）。
このような磁気ディスクは、強磁性体粉末をバインダー
、例えばニポキシ使脂、フニノール樹脂並びにビニル樹
脂又はセルロースなどからなる組成物に分散した塗料を
基板上に塗布して塗膜とし。
、例えばニポキシ使脂、フニノール樹脂並びにビニル樹
脂又はセルロースなどからなる組成物に分散した塗料を
基板上に塗布して塗膜とし。
硬化することによって製造することができる（特る場合
もある。
もある。
上記従来技術は、塗膜を薄膜とすると単位面積当りの強
磁性体粉体（以下単に磁性粉という）の量が少なくなる
ため８力が減少するという問題について配慮されていな
かった。
磁性体粉体（以下単に磁性粉という）の量が少なくなる
ため８力が減少するという問題について配慮されていな
かった。
前述の如く、磁気ディスクは磁性粉を分散させた塗料を
用いて製造する。この場合、粉体の割合が多いと粉体の
凝集が起こり均一に分散しなくなる。前記特開昭各号の
例からも分かるように、磁性粉を均一に分散している塗
膜の磁性粉含率は大体５５〜６０重量％であり、６０重
量％を越える例は、例外的に６５重量％の場合が一例あ
るのみである。そしてこの磁性粉含率６５重量％の場合
は、塗膜が弱く、また塗料を保存する場合に種々の注意
を払う必要がある。
用いて製造する。この場合、粉体の割合が多いと粉体の
凝集が起こり均一に分散しなくなる。前記特開昭各号の
例からも分かるように、磁性粉を均一に分散している塗
膜の磁性粉含率は大体５５〜６０重量％であり、６０重
量％を越える例は、例外的に６５重量％の場合が一例あ
るのみである。そしてこの磁性粉含率６５重量％の場合
は、塗膜が弱く、また塗料を保存する場合に種々の注意
を払う必要がある。
なお、磁気テープの場合は磁性粉含率が８０重量％程度
のものも使用されている。これはテープの塗膜は、膜厚
が４〜５μｍであり、高粘性の塗料、すなわちバインダ
ー濃度の高い塗料を用いて製造されており、バインダー
濃度が高い塗料はより多くの粉体を凝集することなく均
一に分散させることができるためである。
のものも使用されている。これはテープの塗膜は、膜厚
が４〜５μｍであり、高粘性の塗料、すなわちバインダ
ー濃度の高い塗料を用いて製造されており、バインダー
濃度が高い塗料はより多くの粉体を凝集することなく均
一に分散させることができるためである。
一方、高密度磁気ディスクの場合は塗膜の膜厚を薄くす
る必要があり、このような塗膜を製造するためには低粘
性の塗料を用いねばならない。従ってバインダー濃度の
低い塗料、つまり磁性粉含塩がそれ程高くできない塗料
を用いることになる。
る必要があり、このような塗膜を製造するためには低粘
性の塗料を用いねばならない。従ってバインダー濃度の
低い塗料、つまり磁性粉含塩がそれ程高くできない塗料
を用いることになる。
それ故イノを来の高密度磁気ディスクは前記の如き磁性
粉含率の塗膜を有している。
粉含率の塗膜を有している。
本発明の目的は上記問題を解決した、電気特性に優れた
高密度磁気記録媒体を提供することにある。
高密度磁気記録媒体を提供することにある。
が塗膜の６６〜９０重量％であり、塗膜の膜厚が１μｍ
以下であることを特徴とする磁気記録媒体によって達成
される。
以下であることを特徴とする磁気記録媒体によって達成
される。
上記塗膜の膜厚は０．１〜０．５μｍであることがより
好ましい。また磁性粉含率は７０〜９０重量％であるこ
とがより好ましい。
好ましい。また磁性粉含率は７０〜９０重量％であるこ
とがより好ましい。
磁性粉含率、すなわち塗膜中の磁性粉の含有率であって
磁性粉、バインダー、フィラーの量の合計に対する磁性
粉の量と実質的に同じ値が、６６重量％以上であれば電
気８力は従来のそれより高くなり、とくに７０重重景以
上であればさらに高くなる。しかしながら磁性粉含率が
あまりに高いものは逆にバインダー量が少なくなるので
塗膜の強度が小さくなる。そのため磁性粉含率は９０重
量％以下であることが好ましい。
磁性粉、バインダー、フィラーの量の合計に対する磁性
粉の量と実質的に同じ値が、６６重量％以上であれば電
気８力は従来のそれより高くなり、とくに７０重重景以
上であればさらに高くなる。しかしながら磁性粉含率が
あまりに高いものは逆にバインダー量が少なくなるので
塗膜の強度が小さくなる。そのため磁性粉含率は９０重
量％以下であることが好ましい。
本発明の磁気記録媒体は、例えば原料のバインダーの組
成比とその混合方法を従来のそれより変更することによ
って製造し得る。
成比とその混合方法を従来のそれより変更することによ
って製造し得る。
すなわち、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びビニル樹
脂からなるバインダーにおいて、ビニル樹脂の比率を１
９〜７５重景％、重量キシ樹脂とフェノール樹脂の合計
の比率を２５〜８１重景％と重量。エポキシ樹脂とフェ
ノール樹脂の比率は通常用いられている約３対７〜７対
３の範囲で用いればよい。エポキシ樹脂とフェノール樹
脂の種類によってはこの範囲から多少逸脱してもさしつ
かえない。そして磁性粉１００重量部に対するビニル樹
脂のｔを７重量％以上、好ましくは８重量％以、ヒとし
、磁性粉とビニル樹脂とを最初に混合することを特徴と
する。ビニル樹脂の量の上限の量は、磁性粉含率とバイ
ンダー中のビニル樹脂の比率から自ずから決まる。また
フィラーを加える場合、その景の上限の値は磁性粉含率
とビニル樹脂の量から自ずから決まる。
脂からなるバインダーにおいて、ビニル樹脂の比率を１
９〜７５重景％、重量キシ樹脂とフェノール樹脂の合計
の比率を２５〜８１重景％と重量。エポキシ樹脂とフェ
ノール樹脂の比率は通常用いられている約３対７〜７対
３の範囲で用いればよい。エポキシ樹脂とフェノール樹
脂の種類によってはこの範囲から多少逸脱してもさしつ
かえない。そして磁性粉１００重量部に対するビニル樹
脂のｔを７重量％以上、好ましくは８重量％以、ヒとし
、磁性粉とビニル樹脂とを最初に混合することを特徴と
する。ビニル樹脂の量の上限の量は、磁性粉含率とバイ
ンダー中のビニル樹脂の比率から自ずから決まる。また
フィラーを加える場合、その景の上限の値は磁性粉含率
とビニル樹脂の量から自ずから決まる。
ニポキシ樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂は例えば前
記特開昭に記載のものが用いられる。もちろんこれ以外
のものも用いることができる。塗膜の膜厚を薄くすると
き、例えば０．４〜０．２μｍの膜厚にするときには、
フェノール樹脂として高分子量、長鎖状のフェノール樹
脂、側えばポリビニルフェノール、ビニルフェノール・
メチルメタアゲリレート共重合体などを用いるのが好ま
しい。
記特開昭に記載のものが用いられる。もちろんこれ以外
のものも用いることができる。塗膜の膜厚を薄くすると
き、例えば０．４〜０．２μｍの膜厚にするときには、
フェノール樹脂として高分子量、長鎖状のフェノール樹
脂、側えばポリビニルフェノール、ビニルフェノール・
メチルメタアゲリレート共重合体などを用いるのが好ま
しい。
故硬度を必要とする場合は、特別な製造方法を行なうこ
とが好ましい。
とが好ましい。
そのような方法の］っとして、基板とくにアルミニウム
基板を用い、その表面に中間層として、シランカップリ
ング剤を塗布し、乾燥後、さらにその表面に磁性粉をバ
インダー中に分散させた磁性塗料を塗布し、熱硬化させ
る方法がある。シランカップリング剤としては、末端に
アミノ基またはエポキシ基を含むことが必要である。こ
の場合熱硬化時にエポキシ・フェノール樹脂とシランカ
ップリング剤、シランカップリング剤とアルミニウム基
板との間で架橋が起こり、磁性塗膜のアルミニウム基板
への接着性が改良された。その結果、磁性塗膜の硬度が
改良されたと考えられる。
基板を用い、その表面に中間層として、シランカップリ
ング剤を塗布し、乾燥後、さらにその表面に磁性粉をバ
インダー中に分散させた磁性塗料を塗布し、熱硬化させ
る方法がある。シランカップリング剤としては、末端に
アミノ基またはエポキシ基を含むことが必要である。こ
の場合熱硬化時にエポキシ・フェノール樹脂とシランカ
ップリング剤、シランカップリング剤とアルミニウム基
板との間で架橋が起こり、磁性塗膜のアルミニウム基板
への接着性が改良された。その結果、磁性塗膜の硬度が
改良されたと考えられる。
また他の方法としては、塗料を基板に塗布して高磁性粉
含有率の塗膜、特に薄膜では、磁性粉にバインダーが吸
着し、その周囲にもバインダーが存在するが、磁性粉の
間をバインダーが完全には埋めていない状態にあり、空
孔が形成されているものと考えられる。従って、塗膜を
加圧することにより、空孔をつぶし、磁性粉の間をバイ
ンダーで埋めることができれば、緻密な塗膜が得られる
。加圧する条件としては、熱硬化性樹脂が最も軟化、流
動し易い温度範囲、即ち、熱硬化性樹脂の融点以上、硬
化開始温度以下が、低圧力でのプレスが可能であり、加
圧の効率が最も大きい。
含有率の塗膜、特に薄膜では、磁性粉にバインダーが吸
着し、その周囲にもバインダーが存在するが、磁性粉の
間をバインダーが完全には埋めていない状態にあり、空
孔が形成されているものと考えられる。従って、塗膜を
加圧することにより、空孔をつぶし、磁性粉の間をバイ
ンダーで埋めることができれば、緻密な塗膜が得られる
。加圧する条件としては、熱硬化性樹脂が最も軟化、流
動し易い温度範囲、即ち、熱硬化性樹脂の融点以上、硬
化開始温度以下が、低圧力でのプレスが可能であり、加
圧の効率が最も大きい。
実施例１
磁性粉７００重量部とブチラール樹脂６０重量部および
粒径０．７ μｍの単結晶アルミナ４ｏ重量部をニー
ダ−混練機に投入し、約１ｓ分間混合を行なう、つぎに
、酢酸セロソルブ８００重量部を除々に添加し、ニーダ
−混線を８時間行なった。
粒径０．７ μｍの単結晶アルミナ４ｏ重量部をニー
ダ−混練機に投入し、約１ｓ分間混合を行なう、つぎに
、酢酸セロソルブ８００重量部を除々に添加し、ニーダ
−混線を８時間行なった。
得られた混線物６９０重量部をボールミルボットに入れ
、さらに酢酸セロソルブ３５０重量部を添加し、３日間
ボールミル混練を行ない磁性粉を分散させた。つぎに、
フェノール中間体（分子量約３００）５６重量部とエポ
キシ樹脂５６重量部をブチルセロソルブ７７０重量部に
溶解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した。得られた
磁性塗料をあらかじめ表面を清浄にした１４インチのア
ルミニウム基板にスピン塗布し、６Ｊｉ楊配向を施し。
、さらに酢酸セロソルブ３５０重量部を添加し、３日間
ボールミル混練を行ない磁性粉を分散させた。つぎに、
フェノール中間体（分子量約３００）５６重量部とエポ
キシ樹脂５６重量部をブチルセロソルブ７７０重量部に
溶解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した。得られた
磁性塗料をあらかじめ表面を清浄にした１４インチのア
ルミニウム基板にスピン塗布し、６Ｊｉ楊配向を施し。
塗膜を硬化させた。このようにして得られた磁性粉含有
率６６重量％の磁気ディスクの塗膜膜厚と塗布面粗さは
塗膜加工以前の段階で、それぞれＲ１０５ｕｔａの位置
で０．６μｍ、０．０４０ｆｉｍＲａであった。塗膜加
工後は膜厚０．３５ μｍ２面粗さ０．０１０ ｐｍ
Ｒａであった。
率６６重量％の磁気ディスクの塗膜膜厚と塗布面粗さは
塗膜加工以前の段階で、それぞれＲ１０５ｕｔａの位置
で０．６μｍ、０．０４０ｆｉｍＲａであった。塗膜加
工後は膜厚０．３５ μｍ２面粗さ０．０１０ ｐｍ
Ｒａであった。
実施例２
実施例１のフェノール中間体に代えてフェノール樹脂（
分子量約５０００）を用い、フェノール樹脂とエポキシ
樹脂を溶解するブチルセロソルブを１０５０重量部とし
てほかは実施例１と同様にして磁気ディスクを得た。こ
の磁性粉含有率６６重量％の磁気ディスクは塗膜加工以
前の段階でＲ１０５ｕｔａの位置で膜厚０．２ μｍ、
塗布面粗さは０．０３０ μｍ Ｒａであった。なお
、塗膜面には。
分子量約５０００）を用い、フェノール樹脂とエポキシ
樹脂を溶解するブチルセロソルブを１０５０重量部とし
てほかは実施例１と同様にして磁気ディスクを得た。こ
の磁性粉含有率６６重量％の磁気ディスクは塗膜加工以
前の段階でＲ１０５ｕｔａの位置で膜厚０．２ μｍ、
塗布面粗さは０．０３０ μｍ Ｒａであった。なお
、塗膜面には。
目視可能な突起、スジ、孔等の欠陥は確ｌΣできなかっ
た。塗膜加工後の膜〕は０．１ μｍ、而粗さは０．０
１０ μｒｎＲａであった。
た。塗膜加工後の膜〕は０．１ μｍ、而粗さは０．０
１０ μｒｎＲａであった。
実施例３
実施例１のフェノール中間体に代えてフェノール樹脂（
分子量約５０００） Ｓｏ重量部、エポキシ樹脂の屋を
３０重量部、これらを溶解するブチルセロソルブを８０
０００重量したほかは実施例１と同様にして磁気ディス
クを得た。この磁性粉含有率７０重量％の磁気ディスク
は塗膜加工以前の段階で、Ｒ１０５ｒｍの位置で膜厚０
．２ μｍ、塗布面粗さは０．０３５ μｍＲａで
あった。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔
等の欠陥はＳ認できながった。塗膜加工後の膜厚は０．
１μｍ１面粗さは０．０１１ ｐｍＲａであった。
分子量約５０００） Ｓｏ重量部、エポキシ樹脂の屋を
３０重量部、これらを溶解するブチルセロソルブを８０
０００重量したほかは実施例１と同様にして磁気ディス
クを得た。この磁性粉含有率７０重量％の磁気ディスク
は塗膜加工以前の段階で、Ｒ１０５ｒｍの位置で膜厚０
．２ μｍ、塗布面粗さは０．０３５ μｍＲａで
あった。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔
等の欠陥はＳ認できながった。塗膜加工後の膜厚は０．
１μｍ１面粗さは０．０１１ ｐｍＲａであった。
実施例４
実施例］のフェノール中間体に代えてフェノール樹脂（
分子量約５０００）１６重量部、エポキシ樹脂の景を１
６重量部、これらを溶解するブチルセロソルブを７４０
重量部としたほかは実施例１と同様にして磁気ディスク
を得た。この磁性粉含率８０重量％の磁気ディスクの塗
膜膜厚は塗膜加工以前の段階で０．２ μｍであった
。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔等の欠
陥は確認できなかった。
分子量約５０００）１６重量部、エポキシ樹脂の景を１
６重量部、これらを溶解するブチルセロソルブを７４０
重量部としたほかは実施例１と同様にして磁気ディスク
を得た。この磁性粉含率８０重量％の磁気ディスクの塗
膜膜厚は塗膜加工以前の段階で０．２ μｍであった
。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔等の欠
陥は確認できなかった。
実施例５
磁性粉７００Ｍ量部とブチラール樹脂６０重量部をニー
ダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう、つぎに
、酢酸セロソルブ８００重量部を除々に添加し、ニーダ
−混線を８時間行なった。
ダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう、つぎに
、酢酸セロソルブ８００重量部を除々に添加し、ニーダ
−混線を８時間行なった。
得られた混線物６７０重量部をボールミルポットに入れ
、さらに酢酸セロソルブ３２０重量部を添加し、３日間
ボールミル混棟を行ない、磁性粉を分散させた。つぎに
フェノール樹脂（分子量５．０００ ）４重量部とエポ
キシ樹脂４重量部をブチルセロソルブ５８０重量部に溶
解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した。得られた磁
性塗料をあらかじめ表面を清浄にした１４インチのアル
ミニウム基板にスピン塗布し、磁場配向を施し、塗膜を
硬化させた。このようにして得ら九た磁性粉含有率９０
重量％の磁気ディスクの塗膜厚は０．２ μｍであっ
た。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔等の
欠陥は確認できなかった。
、さらに酢酸セロソルブ３２０重量部を添加し、３日間
ボールミル混棟を行ない、磁性粉を分散させた。つぎに
フェノール樹脂（分子量５．０００ ）４重量部とエポ
キシ樹脂４重量部をブチルセロソルブ５８０重量部に溶
解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した。得られた磁
性塗料をあらかじめ表面を清浄にした１４インチのアル
ミニウム基板にスピン塗布し、磁場配向を施し、塗膜を
硬化させた。このようにして得ら九た磁性粉含有率９０
重量％の磁気ディスクの塗膜厚は０．２ μｍであっ
た。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔等の
欠陥は確認できなかった。
実施例６
実施例５のフェノール樹脂に代えてフェノール中間体（
分子量３０ｏ）とし、これとニボキシ樹脂を溶がするブ
チルセロソルブを４５０重量部としたほかは実施例５と
同様にして磁気ディスクを得た。この磁性粉含有率９０
重量％の磁気ディスクの塗膜厚は０．４ μｍであった
。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔等の欠
陥は確認できなかった。
分子量３０ｏ）とし、これとニボキシ樹脂を溶がするブ
チルセロソルブを４５０重量部としたほかは実施例５と
同様にして磁気ディスクを得た。この磁性粉含有率９０
重量％の磁気ディスクの塗膜厚は０．４ μｍであった
。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔等の欠
陥は確認できなかった。
比較例１
磁性粉７００重量部とフェノール樹脂３０重量部および
粒径０．７ μ＋ｎの単結晶アルミナ４０重量部をニ
ーダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう。つぎ
に、酢酸セロソルブ８００重量部を除々に添加し、ニー
ダ−混線を８時間行なった。得られた混線物６８０重量
部をボールミルボットに入れ、さらに酢酸セロソルブ３
３０１１量部を添加し、３日間ボールミル混棟を行ない
磁性粉を分散させた。つぎに、フェノール中間体（分子
量３００）３４重量部とニポキシ樹脂３４重吸部をブチ
ルセロツルフロ００重量部に溶解した溶液を添加し、ｍ
性塗料を調製した。得られた磁性塗料をあらかじめ表面
を清浄にした１４インチのアルミニウム基板にスピン塗
布し、磁場配向を施し、塗膜を硬化させた。このように
して得られた磁性粉含有率７０重量％の磁気ディスクの
塗膜加工以前の膜厚はＲ１０５＋＋ｍで０．４ μｍ
であったが、塗膜面にはスジ、孔等の欠陥が目視でｔｉ
ｌＪされ、表面が粗く、塗膜加工しても５表面粗さ０．
０１５μｍＲａ以下の塗膜は得られなかった。
粒径０．７ μ＋ｎの単結晶アルミナ４０重量部をニ
ーダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう。つぎ
に、酢酸セロソルブ８００重量部を除々に添加し、ニー
ダ−混線を８時間行なった。得られた混線物６８０重量
部をボールミルボットに入れ、さらに酢酸セロソルブ３
３０１１量部を添加し、３日間ボールミル混棟を行ない
磁性粉を分散させた。つぎに、フェノール中間体（分子
量３００）３４重量部とニポキシ樹脂３４重吸部をブチ
ルセロツルフロ００重量部に溶解した溶液を添加し、ｍ
性塗料を調製した。得られた磁性塗料をあらかじめ表面
を清浄にした１４インチのアルミニウム基板にスピン塗
布し、磁場配向を施し、塗膜を硬化させた。このように
して得られた磁性粉含有率７０重量％の磁気ディスクの
塗膜加工以前の膜厚はＲ１０５＋＋ｍで０．４ μｍ
であったが、塗膜面にはスジ、孔等の欠陥が目視でｔｉ
ｌＪされ、表面が粗く、塗膜加工しても５表面粗さ０．
０１５μｍＲａ以下の塗膜は得られなかった。
比較例２
磁性粉７００重量部とフェノール樹脂３０重量部および
粒径０．７ μｍの単結晶アルミナ４０重量部をニー
ダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう。つぎに
、酢酸セロソルブ８００重量部を除々に添加し、ニーダ
−混線を８時間行なった。
粒径０．７ μｍの単結晶アルミナ４０重量部をニー
ダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう。つぎに
、酢酸セロソルブ８００重量部を除々に添加し、ニーダ
−混線を８時間行なった。
得られた混線物６８０重量部をボールミルポットに入れ
、さらに酢酸セロソルブ３３０重量部を添加し、３日間
ボールミル混棟を行ない磁性粉を分散させた。つぎに、
フェノール樹脂（分子量５０００）３４重量部とエポキ
シ樹脂３４重量部をブチルセロソルブ８００重量部に溶
解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した。得られた磁
性塗料をあらかじめ表面を清浄にした１４インチのアル
ミニウム基板にスピン塗布し、磁場配向を施し、塗膜を
硬化させた。このようにして得られた磁性粉含有率７０
重量％の磁気ディスクの塗膜加工以前の膜厚はＲ１０５
ｎｎ＋で０．２ μｍであったが、塗膜面にはスジ、
孔等の欠陥が目視で＄１察され、表面が粗く、塗膜加工
しても表面粗さ０．０１５ μｍ Ｒａ以下の塗膜は
得られなかった。
、さらに酢酸セロソルブ３３０重量部を添加し、３日間
ボールミル混棟を行ない磁性粉を分散させた。つぎに、
フェノール樹脂（分子量５０００）３４重量部とエポキ
シ樹脂３４重量部をブチルセロソルブ８００重量部に溶
解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した。得られた磁
性塗料をあらかじめ表面を清浄にした１４インチのアル
ミニウム基板にスピン塗布し、磁場配向を施し、塗膜を
硬化させた。このようにして得られた磁性粉含有率７０
重量％の磁気ディスクの塗膜加工以前の膜厚はＲ１０５
ｎｎ＋で０．２ μｍであったが、塗膜面にはスジ、
孔等の欠陥が目視で＄１察され、表面が粗く、塗膜加工
しても表面粗さ０．０１５ μｍ Ｒａ以下の塗膜は
得られなかった。
実施例７
磁性粉７００重量部とブチラール樹脂６０重量部および
粒径０．７ μｍの単結晶アルミナ４０重量部をニーダ
−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう。つぎに、
酢酸セロソルブ８００重量部を除々に添加し、ニーダ−
混練を８時間行なった。
粒径０．７ μｍの単結晶アルミナ４０重量部をニーダ
−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう。つぎに、
酢酸セロソルブ８００重量部を除々に添加し、ニーダ−
混練を８時間行なった。
得られた混線物６９０重量部をボールミルボットに入れ
、さらに酢酸セロソルブ３５０重量部を添加し、３日間
ボールミル混棟を行ない磁性粉を分散させた。つぎにフ
ェノール樹脂３０重量部とエポキシ樹脂３４重量部をブ
チルセロソルブ５００重量部に溶解した溶液を添加し、
磁性塗料を調製した。
、さらに酢酸セロソルブ３５０重量部を添加し、３日間
ボールミル混棟を行ない磁性粉を分散させた。つぎにフ
ェノール樹脂３０重量部とエポキシ樹脂３４重量部をブ
チルセロソルブ５００重量部に溶解した溶液を添加し、
磁性塗料を調製した。
ｎ−β （アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジ
メトキシシラン１０重量部をブチルセロソルブ９０重量
部に溶解した溶液をあらかしめ表面を清浄にしたアルミ
ニウム基板にスピン塗布した。
メトキシシラン１０重量部をブチルセロソルブ９０重量
部に溶解した溶液をあらかしめ表面を清浄にしたアルミ
ニウム基板にスピン塗布した。
その直後に、その表面に、上記磁性塗料をスピン塗布し
、磁場配向を施した。得られた磁気ディスクの磁性塗膜
の厚さは０．６〜０．８ μｍであった。この磁気デ
ィスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、磁気ディ
スクを試作した。得られた磁気ディスクについて鉛筆硬
さ試験を行なったところ、７Ｈの硬度を示した。なお、
この磁性塗料を直接、あらかじめ表面を清浄にしたアル
ミニウム基板へスピン塗布し、磁場配向を行ない、この
磁気ディスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、磁
気ディスクを試作したとき、その磁気ディスク塗膜の鉛
筆硬さはＩＨであった。
、磁場配向を施した。得られた磁気ディスクの磁性塗膜
の厚さは０．６〜０．８ μｍであった。この磁気デ
ィスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、磁気ディ
スクを試作した。得られた磁気ディスクについて鉛筆硬
さ試験を行なったところ、７Ｈの硬度を示した。なお、
この磁性塗料を直接、あらかじめ表面を清浄にしたアル
ミニウム基板へスピン塗布し、磁場配向を行ない、この
磁気ディスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、磁
気ディスクを試作したとき、その磁気ディスク塗膜の鉛
筆硬さはＩＨであった。
実施例８
磁性粉７００重量部とブチラール樹脂樹脂６０重量部お
よび粒径０．７ μｍの単結晶アルミナ４０重量部をニ
ーダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう。つぎ
に、酢酸セロソルブ８０’ＯｆＡ量部を除々に添加し、
ニーダ−混線を８時間行なった。得られた混線物６９０
重景重景ボールミルポットに入れ、さらに酢酸セロソル
ブ３５０重量部を添加し、３日間ボールミル混練を行な
い磁性粉を分散させた。つぎに、フェノール樹脂３０重
量部とエポキシ樹脂３０重量部をブチルセロソルブ６０
０重量部に溶解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した
。得られた磁性塗料をあらかじめ表面を清浄にしたアル
ミニウム基板にスピン塗布し、磁場配向を施し、塗膜を
乾燥させた。得られた磁気ディスクの磁性塗膜の厚さは
０．６〜０．８μｍであった。この磁気ディスク塗膜上
に重量物を載せることにより１００ｇ／ａＪの圧力をか
け、１００℃の恒温槽中に２時間装置した。その後、磁
気ディスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、磁気
ディスクを試作した（硬化中は加圧せず）。
よび粒径０．７ μｍの単結晶アルミナ４０重量部をニ
ーダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう。つぎ
に、酢酸セロソルブ８０’ＯｆＡ量部を除々に添加し、
ニーダ−混線を８時間行なった。得られた混線物６９０
重景重景ボールミルポットに入れ、さらに酢酸セロソル
ブ３５０重量部を添加し、３日間ボールミル混練を行な
い磁性粉を分散させた。つぎに、フェノール樹脂３０重
量部とエポキシ樹脂３０重量部をブチルセロソルブ６０
０重量部に溶解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した
。得られた磁性塗料をあらかじめ表面を清浄にしたアル
ミニウム基板にスピン塗布し、磁場配向を施し、塗膜を
乾燥させた。得られた磁気ディスクの磁性塗膜の厚さは
０．６〜０．８μｍであった。この磁気ディスク塗膜上
に重量物を載せることにより１００ｇ／ａＪの圧力をか
け、１００℃の恒温槽中に２時間装置した。その後、磁
気ディスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、磁気
ディスクを試作した（硬化中は加圧せず）。
得られた磁気ディスクについて塗膜の鉛筆硬さ試験を行
なったところ、８Ｈの硬度を示した６なお、この磁性塗
料をアルミニウム基板への塗布と磁場配向を行なった後
、磁気ディスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、
磁気ディスクを試作した。（１００℃の恒温槽中での１
００ｇ／ｄの加圧を省略した点が異なる。）得られた磁
気ディスクについて塗膜の鉛筆硬さ試験を行なったとこ
ろ、２Ｈの硬度を示した。
なったところ、８Ｈの硬度を示した６なお、この磁性塗
料をアルミニウム基板への塗布と磁場配向を行なった後
、磁気ディスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、
磁気ディスクを試作した。（１００℃の恒温槽中での１
００ｇ／ｄの加圧を省略した点が異なる。）得られた磁
気ディスクについて塗膜の鉛筆硬さ試験を行なったとこ
ろ、２Ｈの硬度を示した。
本発明によれば、磁性粉含有率６６％以上９０％以下の
磁性塗膜で、例えば０．２ μｍの薄膜が可能である
ため、塗布型磁気ディスクの高出力化・高分解能に効果
がある。また、塗布時の膜厚が薄いため、塗膜加工時の
塗膜加工量を大巾に減少させることが可能である。従っ
て、塗膜加工時間の大巾削減が可能であるとともに、塗
膜加工に伴なう、スクラッチを大ｒｌＪに減少させるこ
とが可能となり、磁気ディスクの電気的欠陥を減少させ
る効果もある。
磁性塗膜で、例えば０．２ μｍの薄膜が可能である
ため、塗布型磁気ディスクの高出力化・高分解能に効果
がある。また、塗布時の膜厚が薄いため、塗膜加工時の
塗膜加工量を大巾に減少させることが可能である。従っ
て、塗膜加工時間の大巾削減が可能であるとともに、塗
膜加工に伴なう、スクラッチを大ｒｌＪに減少させるこ
とが可能となり、磁気ディスクの電気的欠陥を減少させ
る効果もある。
さらに、上記の薄膜塗布媒体を塗膜加工することにより
、連続媒体に必須の保護膜を考慮すると実質的に連続媒
体と同程度の高密度記録再生可能な磁気記録媒体を得ろ
ことが可能となった。
、連続媒体に必須の保護膜を考慮すると実質的に連続媒
体と同程度の高密度記録再生可能な磁気記録媒体を得ろ
ことが可能となった。
／＋１、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非磁性基板上に強磁性体粉体を含有する塗膜を有す
る磁気記録媒体において、強磁性体粉体の量が塗膜の６
６〜９０重量％であり、塗膜の膜厚が１μｍ以下である
ことを特徴とする磁気記録媒体。 ２、上記塗膜の膜厚が０．１〜０．５μｍである特許請
求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 ３、上記強磁性体粉体の量が塗膜の７０〜９０重量％で
ある特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61190518A JPS6348612A (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 磁気記録媒体 |
| KR1019870008250A KR920002577B1 (ko) | 1986-08-15 | 1987-07-29 | 자기기록매체 |
| US07/082,213 US4789581A (en) | 1986-08-15 | 1987-08-06 | Magnetic recording medium |
| DE19873727197 DE3727197C2 (de) | 1986-08-15 | 1987-08-14 | Magnetisches Aufnahmemedium und Verfahren zu seiner Herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61190518A JPS6348612A (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6348612A true JPS6348612A (ja) | 1988-03-01 |
Family
ID=16259424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61190518A Pending JPS6348612A (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 磁気記録媒体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4789581A (ja) |
| JP (1) | JPS6348612A (ja) |
| KR (1) | KR920002577B1 (ja) |
| DE (1) | DE3727197C2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5180616A (en) * | 1986-06-23 | 1993-01-19 | Hitachi, Ltd. | Hard disk magnetic recording medium comprising magnetic powder and a binder and having a specified magnetic layer thickness and surface roughness |
| FR2638016A1 (fr) * | 1988-10-18 | 1990-04-20 | Kodak Pathe | Procede de traitement de surface de couches magnetiques |
| FR2638000B1 (fr) * | 1988-10-18 | 1990-12-14 | Kodak Pathe | Carte a memoire magnetique a grande capacite et procede de fabrication |
| US5965194A (en) * | 1992-01-10 | 1999-10-12 | Imation Corp. | Magnetic recording media prepared from magnetic particles having an extremely thin, continuous, amorphous, aluminum hydrous oxide coating |
| JP2872227B2 (ja) * | 1992-08-07 | 1999-03-17 | 戸田工業株式会社 | 磁気記録媒体用下地層 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5555439A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-23 | Hitachi Ltd | Magnetic recording medium composite |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1244108A (en) * | 1968-02-12 | 1971-08-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| US4122234A (en) * | 1977-08-08 | 1978-10-24 | Dysan Corporation | Article employing a heat hardenable liquid film forming composition with particles dispersed therein and method for making same |
| US4397751A (en) * | 1981-05-04 | 1983-08-09 | International Business Machines Corporation | Magnetic disk coatings |
| JPS58125231A (ja) * | 1982-01-19 | 1983-07-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| EP0123707B1 (de) * | 1983-05-02 | 1987-10-21 | Ibm Deutschland Gmbh | Anordnung aus einer mit einem Schmierstoff versehenen Magnetplatte und einem Magnetkopf und Verfahren zum Herstellen der Anordnung |
| JPS6173237A (ja) * | 1984-09-18 | 1986-04-15 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気デイスク |
| JPH0719364B2 (ja) * | 1985-02-28 | 1995-03-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-08-15 JP JP61190518A patent/JPS6348612A/ja active Pending
-
1987
- 1987-07-29 KR KR1019870008250A patent/KR920002577B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1987-08-06 US US07/082,213 patent/US4789581A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-08-14 DE DE19873727197 patent/DE3727197C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5555439A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-23 | Hitachi Ltd | Magnetic recording medium composite |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR880003288A (ko) | 1988-05-16 |
| DE3727197A1 (de) | 1988-02-25 |
| DE3727197C2 (de) | 1994-09-22 |
| KR920002577B1 (ko) | 1992-03-30 |
| US4789581A (en) | 1988-12-06 |
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