JPS6348612A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS6348612A JPS6348612A JP61190518A JP19051886A JPS6348612A JP S6348612 A JPS6348612 A JP S6348612A JP 61190518 A JP61190518 A JP 61190518A JP 19051886 A JP19051886 A JP 19051886A JP S6348612 A JPS6348612 A JP S6348612A
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体に関する。特に電気特性に優れた
高密度磁気記8Wc体に関する。
高密度磁気記8Wc体に関する。
近年、磁気デ、イスクなどの磁気記0媒体は、高密度化
の要求に伴って、強磁性体を含む塗膜は薄膜となる方向
にある。すなわち、従来4〜5μm又はそれ以上であっ
た塗膜の膜厚は、近年1μm以下になりつつある(日本
機械学会第615回講習会テキスト第84頁、昭和61
年1月)。
の要求に伴って、強磁性体を含む塗膜は薄膜となる方向
にある。すなわち、従来4〜5μm又はそれ以上であっ
た塗膜の膜厚は、近年1μm以下になりつつある(日本
機械学会第615回講習会テキスト第84頁、昭和61
年1月)。
このような磁気ディスクは、強磁性体粉末をバインダー
、例えばニポキシ使脂、フニノール樹脂並びにビニル樹
脂又はセルロースなどからなる組成物に分散した塗料を
基板上に塗布して塗膜とし。
、例えばニポキシ使脂、フニノール樹脂並びにビニル樹
脂又はセルロースなどからなる組成物に分散した塗料を
基板上に塗布して塗膜とし。
硬化することによって製造することができる(特る場合
もある。
もある。
上記従来技術は、塗膜を薄膜とすると単位面積当りの強
磁性体粉体(以下単に磁性粉という)の量が少なくなる
ため8力が減少するという問題について配慮されていな
かった。
磁性体粉体(以下単に磁性粉という)の量が少なくなる
ため8力が減少するという問題について配慮されていな
かった。
前述の如く、磁気ディスクは磁性粉を分散させた塗料を
用いて製造する。この場合、粉体の割合が多いと粉体の
凝集が起こり均一に分散しなくなる。前記特開昭各号の
例からも分かるように、磁性粉を均一に分散している塗
膜の磁性粉含率は大体55〜60重量%であり、60重
量%を越える例は、例外的に65重量%の場合が一例あ
るのみである。そしてこの磁性粉含率65重量%の場合
は、塗膜が弱く、また塗料を保存する場合に種々の注意
を払う必要がある。
用いて製造する。この場合、粉体の割合が多いと粉体の
凝集が起こり均一に分散しなくなる。前記特開昭各号の
例からも分かるように、磁性粉を均一に分散している塗
膜の磁性粉含率は大体55〜60重量%であり、60重
量%を越える例は、例外的に65重量%の場合が一例あ
るのみである。そしてこの磁性粉含率65重量%の場合
は、塗膜が弱く、また塗料を保存する場合に種々の注意
を払う必要がある。
なお、磁気テープの場合は磁性粉含率が80重量%程度
のものも使用されている。これはテープの塗膜は、膜厚
が4〜5μmであり、高粘性の塗料、すなわちバインダ
ー濃度の高い塗料を用いて製造されており、バインダー
濃度が高い塗料はより多くの粉体を凝集することなく均
一に分散させることができるためである。
のものも使用されている。これはテープの塗膜は、膜厚
が4〜5μmであり、高粘性の塗料、すなわちバインダ
ー濃度の高い塗料を用いて製造されており、バインダー
濃度が高い塗料はより多くの粉体を凝集することなく均
一に分散させることができるためである。
一方、高密度磁気ディスクの場合は塗膜の膜厚を薄くす
る必要があり、このような塗膜を製造するためには低粘
性の塗料を用いねばならない。従ってバインダー濃度の
低い塗料、つまり磁性粉含塩がそれ程高くできない塗料
を用いることになる。
る必要があり、このような塗膜を製造するためには低粘
性の塗料を用いねばならない。従ってバインダー濃度の
低い塗料、つまり磁性粉含塩がそれ程高くできない塗料
を用いることになる。
それ故イノを来の高密度磁気ディスクは前記の如き磁性
粉含率の塗膜を有している。
粉含率の塗膜を有している。
本発明の目的は上記問題を解決した、電気特性に優れた
高密度磁気記録媒体を提供することにある。
高密度磁気記録媒体を提供することにある。
が塗膜の66〜90重量%であり、塗膜の膜厚が1μm
以下であることを特徴とする磁気記録媒体によって達成
される。
以下であることを特徴とする磁気記録媒体によって達成
される。
上記塗膜の膜厚は0.1〜0.5μmであることがより
好ましい。また磁性粉含率は70〜90重量%であるこ
とがより好ましい。
好ましい。また磁性粉含率は70〜90重量%であるこ
とがより好ましい。
磁性粉含率、すなわち塗膜中の磁性粉の含有率であって
磁性粉、バインダー、フィラーの量の合計に対する磁性
粉の量と実質的に同じ値が、66重量%以上であれば電
気8力は従来のそれより高くなり、とくに70重重景以
上であればさらに高くなる。しかしながら磁性粉含率が
あまりに高いものは逆にバインダー量が少なくなるので
塗膜の強度が小さくなる。そのため磁性粉含率は90重
量%以下であることが好ましい。
磁性粉、バインダー、フィラーの量の合計に対する磁性
粉の量と実質的に同じ値が、66重量%以上であれば電
気8力は従来のそれより高くなり、とくに70重重景以
上であればさらに高くなる。しかしながら磁性粉含率が
あまりに高いものは逆にバインダー量が少なくなるので
塗膜の強度が小さくなる。そのため磁性粉含率は90重
量%以下であることが好ましい。
本発明の磁気記録媒体は、例えば原料のバインダーの組
成比とその混合方法を従来のそれより変更することによ
って製造し得る。
成比とその混合方法を従来のそれより変更することによ
って製造し得る。
すなわち、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びビニル樹
脂からなるバインダーにおいて、ビニル樹脂の比率を1
9〜75重景%、重量キシ樹脂とフェノール樹脂の合計
の比率を25〜81重景%と重量。エポキシ樹脂とフェ
ノール樹脂の比率は通常用いられている約3対7〜7対
3の範囲で用いればよい。エポキシ樹脂とフェノール樹
脂の種類によってはこの範囲から多少逸脱してもさしつ
かえない。そして磁性粉100重量部に対するビニル樹
脂のtを7重量%以上、好ましくは8重量%以、ヒとし
、磁性粉とビニル樹脂とを最初に混合することを特徴と
する。ビニル樹脂の量の上限の量は、磁性粉含率とバイ
ンダー中のビニル樹脂の比率から自ずから決まる。また
フィラーを加える場合、その景の上限の値は磁性粉含率
とビニル樹脂の量から自ずから決まる。
脂からなるバインダーにおいて、ビニル樹脂の比率を1
9〜75重景%、重量キシ樹脂とフェノール樹脂の合計
の比率を25〜81重景%と重量。エポキシ樹脂とフェ
ノール樹脂の比率は通常用いられている約3対7〜7対
3の範囲で用いればよい。エポキシ樹脂とフェノール樹
脂の種類によってはこの範囲から多少逸脱してもさしつ
かえない。そして磁性粉100重量部に対するビニル樹
脂のtを7重量%以上、好ましくは8重量%以、ヒとし
、磁性粉とビニル樹脂とを最初に混合することを特徴と
する。ビニル樹脂の量の上限の量は、磁性粉含率とバイ
ンダー中のビニル樹脂の比率から自ずから決まる。また
フィラーを加える場合、その景の上限の値は磁性粉含率
とビニル樹脂の量から自ずから決まる。
ニポキシ樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂は例えば前
記特開昭に記載のものが用いられる。もちろんこれ以外
のものも用いることができる。塗膜の膜厚を薄くすると
き、例えば0.4〜0.2μmの膜厚にするときには、
フェノール樹脂として高分子量、長鎖状のフェノール樹
脂、側えばポリビニルフェノール、ビニルフェノール・
メチルメタアゲリレート共重合体などを用いるのが好ま
しい。
記特開昭に記載のものが用いられる。もちろんこれ以外
のものも用いることができる。塗膜の膜厚を薄くすると
き、例えば0.4〜0.2μmの膜厚にするときには、
フェノール樹脂として高分子量、長鎖状のフェノール樹
脂、側えばポリビニルフェノール、ビニルフェノール・
メチルメタアゲリレート共重合体などを用いるのが好ま
しい。
故硬度を必要とする場合は、特別な製造方法を行なうこ
とが好ましい。
とが好ましい。
そのような方法の]っとして、基板とくにアルミニウム
基板を用い、その表面に中間層として、シランカップリ
ング剤を塗布し、乾燥後、さらにその表面に磁性粉をバ
インダー中に分散させた磁性塗料を塗布し、熱硬化させ
る方法がある。シランカップリング剤としては、末端に
アミノ基またはエポキシ基を含むことが必要である。こ
の場合熱硬化時にエポキシ・フェノール樹脂とシランカ
ップリング剤、シランカップリング剤とアルミニウム基
板との間で架橋が起こり、磁性塗膜のアルミニウム基板
への接着性が改良された。その結果、磁性塗膜の硬度が
改良されたと考えられる。
基板を用い、その表面に中間層として、シランカップリ
ング剤を塗布し、乾燥後、さらにその表面に磁性粉をバ
インダー中に分散させた磁性塗料を塗布し、熱硬化させ
る方法がある。シランカップリング剤としては、末端に
アミノ基またはエポキシ基を含むことが必要である。こ
の場合熱硬化時にエポキシ・フェノール樹脂とシランカ
ップリング剤、シランカップリング剤とアルミニウム基
板との間で架橋が起こり、磁性塗膜のアルミニウム基板
への接着性が改良された。その結果、磁性塗膜の硬度が
改良されたと考えられる。
また他の方法としては、塗料を基板に塗布して高磁性粉
含有率の塗膜、特に薄膜では、磁性粉にバインダーが吸
着し、その周囲にもバインダーが存在するが、磁性粉の
間をバインダーが完全には埋めていない状態にあり、空
孔が形成されているものと考えられる。従って、塗膜を
加圧することにより、空孔をつぶし、磁性粉の間をバイ
ンダーで埋めることができれば、緻密な塗膜が得られる
。加圧する条件としては、熱硬化性樹脂が最も軟化、流
動し易い温度範囲、即ち、熱硬化性樹脂の融点以上、硬
化開始温度以下が、低圧力でのプレスが可能であり、加
圧の効率が最も大きい。
含有率の塗膜、特に薄膜では、磁性粉にバインダーが吸
着し、その周囲にもバインダーが存在するが、磁性粉の
間をバインダーが完全には埋めていない状態にあり、空
孔が形成されているものと考えられる。従って、塗膜を
加圧することにより、空孔をつぶし、磁性粉の間をバイ
ンダーで埋めることができれば、緻密な塗膜が得られる
。加圧する条件としては、熱硬化性樹脂が最も軟化、流
動し易い温度範囲、即ち、熱硬化性樹脂の融点以上、硬
化開始温度以下が、低圧力でのプレスが可能であり、加
圧の効率が最も大きい。
実施例1
磁性粉700重量部とブチラール樹脂60重量部および
粒径0.7 μmの単結晶アルミナ4o重量部をニー
ダ−混練機に投入し、約1s分間混合を行なう、つぎに
、酢酸セロソルブ800重量部を除々に添加し、ニーダ
−混線を8時間行なった。
粒径0.7 μmの単結晶アルミナ4o重量部をニー
ダ−混練機に投入し、約1s分間混合を行なう、つぎに
、酢酸セロソルブ800重量部を除々に添加し、ニーダ
−混線を8時間行なった。
得られた混線物690重量部をボールミルボットに入れ
、さらに酢酸セロソルブ350重量部を添加し、3日間
ボールミル混練を行ない磁性粉を分散させた。つぎに、
フェノール中間体(分子量約300)56重量部とエポ
キシ樹脂56重量部をブチルセロソルブ770重量部に
溶解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した。得られた
磁性塗料をあらかじめ表面を清浄にした14インチのア
ルミニウム基板にスピン塗布し、6Ji楊配向を施し。
、さらに酢酸セロソルブ350重量部を添加し、3日間
ボールミル混練を行ない磁性粉を分散させた。つぎに、
フェノール中間体(分子量約300)56重量部とエポ
キシ樹脂56重量部をブチルセロソルブ770重量部に
溶解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した。得られた
磁性塗料をあらかじめ表面を清浄にした14インチのア
ルミニウム基板にスピン塗布し、6Ji楊配向を施し。
塗膜を硬化させた。このようにして得られた磁性粉含有
率66重量%の磁気ディスクの塗膜膜厚と塗布面粗さは
塗膜加工以前の段階で、それぞれR105utaの位置
で0.6μm、0.040fimRaであった。塗膜加
工後は膜厚0.35 μm2面粗さ0.010 pm
Raであった。
率66重量%の磁気ディスクの塗膜膜厚と塗布面粗さは
塗膜加工以前の段階で、それぞれR105utaの位置
で0.6μm、0.040fimRaであった。塗膜加
工後は膜厚0.35 μm2面粗さ0.010 pm
Raであった。
実施例2
実施例1のフェノール中間体に代えてフェノール樹脂(
分子量約5000)を用い、フェノール樹脂とエポキシ
樹脂を溶解するブチルセロソルブを1050重量部とし
てほかは実施例1と同様にして磁気ディスクを得た。こ
の磁性粉含有率66重量%の磁気ディスクは塗膜加工以
前の段階でR105utaの位置で膜厚0.2 μm、
塗布面粗さは0.030 μm Raであった。なお
、塗膜面には。
分子量約5000)を用い、フェノール樹脂とエポキシ
樹脂を溶解するブチルセロソルブを1050重量部とし
てほかは実施例1と同様にして磁気ディスクを得た。こ
の磁性粉含有率66重量%の磁気ディスクは塗膜加工以
前の段階でR105utaの位置で膜厚0.2 μm、
塗布面粗さは0.030 μm Raであった。なお
、塗膜面には。
目視可能な突起、スジ、孔等の欠陥は確lΣできなかっ
た。塗膜加工後の膜〕は0.1 μm、而粗さは0.0
10 μrnRaであった。
た。塗膜加工後の膜〕は0.1 μm、而粗さは0.0
10 μrnRaであった。
実施例3
実施例1のフェノール中間体に代えてフェノール樹脂(
分子量約5000) So重量部、エポキシ樹脂の屋を
30重量部、これらを溶解するブチルセロソルブを80
000重量したほかは実施例1と同様にして磁気ディス
クを得た。この磁性粉含有率70重量%の磁気ディスク
は塗膜加工以前の段階で、R105rmの位置で膜厚0
.2 μm、塗布面粗さは0.035 μmRaで
あった。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔
等の欠陥はS認できながった。塗膜加工後の膜厚は0.
1μm1面粗さは0.011 pmRaであった。
分子量約5000) So重量部、エポキシ樹脂の屋を
30重量部、これらを溶解するブチルセロソルブを80
000重量したほかは実施例1と同様にして磁気ディス
クを得た。この磁性粉含有率70重量%の磁気ディスク
は塗膜加工以前の段階で、R105rmの位置で膜厚0
.2 μm、塗布面粗さは0.035 μmRaで
あった。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔
等の欠陥はS認できながった。塗膜加工後の膜厚は0.
1μm1面粗さは0.011 pmRaであった。
実施例4
実施例]のフェノール中間体に代えてフェノール樹脂(
分子量約5000)16重量部、エポキシ樹脂の景を1
6重量部、これらを溶解するブチルセロソルブを740
重量部としたほかは実施例1と同様にして磁気ディスク
を得た。この磁性粉含率80重量%の磁気ディスクの塗
膜膜厚は塗膜加工以前の段階で0.2 μmであった
。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔等の欠
陥は確認できなかった。
分子量約5000)16重量部、エポキシ樹脂の景を1
6重量部、これらを溶解するブチルセロソルブを740
重量部としたほかは実施例1と同様にして磁気ディスク
を得た。この磁性粉含率80重量%の磁気ディスクの塗
膜膜厚は塗膜加工以前の段階で0.2 μmであった
。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔等の欠
陥は確認できなかった。
実施例5
磁性粉700M量部とブチラール樹脂60重量部をニー
ダ−混線機に投入し、約15分間混合を行なう、つぎに
、酢酸セロソルブ800重量部を除々に添加し、ニーダ
−混線を8時間行なった。
ダ−混線機に投入し、約15分間混合を行なう、つぎに
、酢酸セロソルブ800重量部を除々に添加し、ニーダ
−混線を8時間行なった。
得られた混線物670重量部をボールミルポットに入れ
、さらに酢酸セロソルブ320重量部を添加し、3日間
ボールミル混棟を行ない、磁性粉を分散させた。つぎに
フェノール樹脂(分子量5.000 )4重量部とエポ
キシ樹脂4重量部をブチルセロソルブ580重量部に溶
解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した。得られた磁
性塗料をあらかじめ表面を清浄にした14インチのアル
ミニウム基板にスピン塗布し、磁場配向を施し、塗膜を
硬化させた。このようにして得ら九た磁性粉含有率90
重量%の磁気ディスクの塗膜厚は0.2 μmであっ
た。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔等の
欠陥は確認できなかった。
、さらに酢酸セロソルブ320重量部を添加し、3日間
ボールミル混棟を行ない、磁性粉を分散させた。つぎに
フェノール樹脂(分子量5.000 )4重量部とエポ
キシ樹脂4重量部をブチルセロソルブ580重量部に溶
解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した。得られた磁
性塗料をあらかじめ表面を清浄にした14インチのアル
ミニウム基板にスピン塗布し、磁場配向を施し、塗膜を
硬化させた。このようにして得ら九た磁性粉含有率90
重量%の磁気ディスクの塗膜厚は0.2 μmであっ
た。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔等の
欠陥は確認できなかった。
実施例6
実施例5のフェノール樹脂に代えてフェノール中間体(
分子量30o)とし、これとニボキシ樹脂を溶がするブ
チルセロソルブを450重量部としたほかは実施例5と
同様にして磁気ディスクを得た。この磁性粉含有率90
重量%の磁気ディスクの塗膜厚は0.4 μmであった
。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔等の欠
陥は確認できなかった。
分子量30o)とし、これとニボキシ樹脂を溶がするブ
チルセロソルブを450重量部としたほかは実施例5と
同様にして磁気ディスクを得た。この磁性粉含有率90
重量%の磁気ディスクの塗膜厚は0.4 μmであった
。なお、塗膜面には、目視可能な突起、スジ、孔等の欠
陥は確認できなかった。
比較例1
磁性粉700重量部とフェノール樹脂30重量部および
粒径0.7 μ+nの単結晶アルミナ40重量部をニ
ーダ−混線機に投入し、約15分間混合を行なう。つぎ
に、酢酸セロソルブ800重量部を除々に添加し、ニー
ダ−混線を8時間行なった。得られた混線物680重量
部をボールミルボットに入れ、さらに酢酸セロソルブ3
3011量部を添加し、3日間ボールミル混棟を行ない
磁性粉を分散させた。つぎに、フェノール中間体(分子
量300)34重量部とニポキシ樹脂34重吸部をブチ
ルセロツルフロ00重量部に溶解した溶液を添加し、m
性塗料を調製した。得られた磁性塗料をあらかじめ表面
を清浄にした14インチのアルミニウム基板にスピン塗
布し、磁場配向を施し、塗膜を硬化させた。このように
して得られた磁性粉含有率70重量%の磁気ディスクの
塗膜加工以前の膜厚はR105++mで0.4 μm
であったが、塗膜面にはスジ、孔等の欠陥が目視でti
lJされ、表面が粗く、塗膜加工しても5表面粗さ0.
015μmRa以下の塗膜は得られなかった。
粒径0.7 μ+nの単結晶アルミナ40重量部をニ
ーダ−混線機に投入し、約15分間混合を行なう。つぎ
に、酢酸セロソルブ800重量部を除々に添加し、ニー
ダ−混線を8時間行なった。得られた混線物680重量
部をボールミルボットに入れ、さらに酢酸セロソルブ3
3011量部を添加し、3日間ボールミル混棟を行ない
磁性粉を分散させた。つぎに、フェノール中間体(分子
量300)34重量部とニポキシ樹脂34重吸部をブチ
ルセロツルフロ00重量部に溶解した溶液を添加し、m
性塗料を調製した。得られた磁性塗料をあらかじめ表面
を清浄にした14インチのアルミニウム基板にスピン塗
布し、磁場配向を施し、塗膜を硬化させた。このように
して得られた磁性粉含有率70重量%の磁気ディスクの
塗膜加工以前の膜厚はR105++mで0.4 μm
であったが、塗膜面にはスジ、孔等の欠陥が目視でti
lJされ、表面が粗く、塗膜加工しても5表面粗さ0.
015μmRa以下の塗膜は得られなかった。
比較例2
磁性粉700重量部とフェノール樹脂30重量部および
粒径0.7 μmの単結晶アルミナ40重量部をニー
ダ−混線機に投入し、約15分間混合を行なう。つぎに
、酢酸セロソルブ800重量部を除々に添加し、ニーダ
−混線を8時間行なった。
粒径0.7 μmの単結晶アルミナ40重量部をニー
ダ−混線機に投入し、約15分間混合を行なう。つぎに
、酢酸セロソルブ800重量部を除々に添加し、ニーダ
−混線を8時間行なった。
得られた混線物680重量部をボールミルポットに入れ
、さらに酢酸セロソルブ330重量部を添加し、3日間
ボールミル混棟を行ない磁性粉を分散させた。つぎに、
フェノール樹脂(分子量5000)34重量部とエポキ
シ樹脂34重量部をブチルセロソルブ800重量部に溶
解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した。得られた磁
性塗料をあらかじめ表面を清浄にした14インチのアル
ミニウム基板にスピン塗布し、磁場配向を施し、塗膜を
硬化させた。このようにして得られた磁性粉含有率70
重量%の磁気ディスクの塗膜加工以前の膜厚はR105
nn+で0.2 μmであったが、塗膜面にはスジ、
孔等の欠陥が目視で$1察され、表面が粗く、塗膜加工
しても表面粗さ0.015 μm Ra以下の塗膜は
得られなかった。
、さらに酢酸セロソルブ330重量部を添加し、3日間
ボールミル混棟を行ない磁性粉を分散させた。つぎに、
フェノール樹脂(分子量5000)34重量部とエポキ
シ樹脂34重量部をブチルセロソルブ800重量部に溶
解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した。得られた磁
性塗料をあらかじめ表面を清浄にした14インチのアル
ミニウム基板にスピン塗布し、磁場配向を施し、塗膜を
硬化させた。このようにして得られた磁性粉含有率70
重量%の磁気ディスクの塗膜加工以前の膜厚はR105
nn+で0.2 μmであったが、塗膜面にはスジ、
孔等の欠陥が目視で$1察され、表面が粗く、塗膜加工
しても表面粗さ0.015 μm Ra以下の塗膜は
得られなかった。
実施例7
磁性粉700重量部とブチラール樹脂60重量部および
粒径0.7 μmの単結晶アルミナ40重量部をニーダ
−混線機に投入し、約15分間混合を行なう。つぎに、
酢酸セロソルブ800重量部を除々に添加し、ニーダ−
混練を8時間行なった。
粒径0.7 μmの単結晶アルミナ40重量部をニーダ
−混線機に投入し、約15分間混合を行なう。つぎに、
酢酸セロソルブ800重量部を除々に添加し、ニーダ−
混練を8時間行なった。
得られた混線物690重量部をボールミルボットに入れ
、さらに酢酸セロソルブ350重量部を添加し、3日間
ボールミル混棟を行ない磁性粉を分散させた。つぎにフ
ェノール樹脂30重量部とエポキシ樹脂34重量部をブ
チルセロソルブ500重量部に溶解した溶液を添加し、
磁性塗料を調製した。
、さらに酢酸セロソルブ350重量部を添加し、3日間
ボールミル混棟を行ない磁性粉を分散させた。つぎにフ
ェノール樹脂30重量部とエポキシ樹脂34重量部をブ
チルセロソルブ500重量部に溶解した溶液を添加し、
磁性塗料を調製した。
n−β (アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジ
メトキシシラン10重量部をブチルセロソルブ90重量
部に溶解した溶液をあらかしめ表面を清浄にしたアルミ
ニウム基板にスピン塗布した。
メトキシシラン10重量部をブチルセロソルブ90重量
部に溶解した溶液をあらかしめ表面を清浄にしたアルミ
ニウム基板にスピン塗布した。
その直後に、その表面に、上記磁性塗料をスピン塗布し
、磁場配向を施した。得られた磁気ディスクの磁性塗膜
の厚さは0.6〜0.8 μmであった。この磁気デ
ィスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、磁気ディ
スクを試作した。得られた磁気ディスクについて鉛筆硬
さ試験を行なったところ、7Hの硬度を示した。なお、
この磁性塗料を直接、あらかじめ表面を清浄にしたアル
ミニウム基板へスピン塗布し、磁場配向を行ない、この
磁気ディスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、磁
気ディスクを試作したとき、その磁気ディスク塗膜の鉛
筆硬さはIHであった。
、磁場配向を施した。得られた磁気ディスクの磁性塗膜
の厚さは0.6〜0.8 μmであった。この磁気デ
ィスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、磁気ディ
スクを試作した。得られた磁気ディスクについて鉛筆硬
さ試験を行なったところ、7Hの硬度を示した。なお、
この磁性塗料を直接、あらかじめ表面を清浄にしたアル
ミニウム基板へスピン塗布し、磁場配向を行ない、この
磁気ディスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、磁
気ディスクを試作したとき、その磁気ディスク塗膜の鉛
筆硬さはIHであった。
実施例8
磁性粉700重量部とブチラール樹脂樹脂60重量部お
よび粒径0.7 μmの単結晶アルミナ40重量部をニ
ーダ−混線機に投入し、約15分間混合を行なう。つぎ
に、酢酸セロソルブ80’OfA量部を除々に添加し、
ニーダ−混線を8時間行なった。得られた混線物690
重景重景ボールミルポットに入れ、さらに酢酸セロソル
ブ350重量部を添加し、3日間ボールミル混練を行な
い磁性粉を分散させた。つぎに、フェノール樹脂30重
量部とエポキシ樹脂30重量部をブチルセロソルブ60
0重量部に溶解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した
。得られた磁性塗料をあらかじめ表面を清浄にしたアル
ミニウム基板にスピン塗布し、磁場配向を施し、塗膜を
乾燥させた。得られた磁気ディスクの磁性塗膜の厚さは
0.6〜0.8μmであった。この磁気ディスク塗膜上
に重量物を載せることにより100g/aJの圧力をか
け、100℃の恒温槽中に2時間装置した。その後、磁
気ディスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、磁気
ディスクを試作した(硬化中は加圧せず)。
よび粒径0.7 μmの単結晶アルミナ40重量部をニ
ーダ−混線機に投入し、約15分間混合を行なう。つぎ
に、酢酸セロソルブ80’OfA量部を除々に添加し、
ニーダ−混線を8時間行なった。得られた混線物690
重景重景ボールミルポットに入れ、さらに酢酸セロソル
ブ350重量部を添加し、3日間ボールミル混練を行な
い磁性粉を分散させた。つぎに、フェノール樹脂30重
量部とエポキシ樹脂30重量部をブチルセロソルブ60
0重量部に溶解した溶液を添加し、磁性塗料を調製した
。得られた磁性塗料をあらかじめ表面を清浄にしたアル
ミニウム基板にスピン塗布し、磁場配向を施し、塗膜を
乾燥させた。得られた磁気ディスクの磁性塗膜の厚さは
0.6〜0.8μmであった。この磁気ディスク塗膜上
に重量物を載せることにより100g/aJの圧力をか
け、100℃の恒温槽中に2時間装置した。その後、磁
気ディスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、磁気
ディスクを試作した(硬化中は加圧せず)。
得られた磁気ディスクについて塗膜の鉛筆硬さ試験を行
なったところ、8Hの硬度を示した6なお、この磁性塗
料をアルミニウム基板への塗布と磁場配向を行なった後
、磁気ディスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、
磁気ディスクを試作した。(100℃の恒温槽中での1
00g/dの加圧を省略した点が異なる。)得られた磁
気ディスクについて塗膜の鉛筆硬さ試験を行なったとこ
ろ、2Hの硬度を示した。
なったところ、8Hの硬度を示した6なお、この磁性塗
料をアルミニウム基板への塗布と磁場配向を行なった後
、磁気ディスク塗膜の硬化を周知の方法により行ない、
磁気ディスクを試作した。(100℃の恒温槽中での1
00g/dの加圧を省略した点が異なる。)得られた磁
気ディスクについて塗膜の鉛筆硬さ試験を行なったとこ
ろ、2Hの硬度を示した。
本発明によれば、磁性粉含有率66%以上90%以下の
磁性塗膜で、例えば0.2 μmの薄膜が可能である
ため、塗布型磁気ディスクの高出力化・高分解能に効果
がある。また、塗布時の膜厚が薄いため、塗膜加工時の
塗膜加工量を大巾に減少させることが可能である。従っ
て、塗膜加工時間の大巾削減が可能であるとともに、塗
膜加工に伴なう、スクラッチを大rlJに減少させるこ
とが可能となり、磁気ディスクの電気的欠陥を減少させ
る効果もある。
磁性塗膜で、例えば0.2 μmの薄膜が可能である
ため、塗布型磁気ディスクの高出力化・高分解能に効果
がある。また、塗布時の膜厚が薄いため、塗膜加工時の
塗膜加工量を大巾に減少させることが可能である。従っ
て、塗膜加工時間の大巾削減が可能であるとともに、塗
膜加工に伴なう、スクラッチを大rlJに減少させるこ
とが可能となり、磁気ディスクの電気的欠陥を減少させ
る効果もある。
さらに、上記の薄膜塗布媒体を塗膜加工することにより
、連続媒体に必須の保護膜を考慮すると実質的に連続媒
体と同程度の高密度記録再生可能な磁気記録媒体を得ろ
ことが可能となった。
、連続媒体に必須の保護膜を考慮すると実質的に連続媒
体と同程度の高密度記録再生可能な磁気記録媒体を得ろ
ことが可能となった。
/+1、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非磁性基板上に強磁性体粉体を含有する塗膜を有す
る磁気記録媒体において、強磁性体粉体の量が塗膜の6
6〜90重量%であり、塗膜の膜厚が1μm以下である
ことを特徴とする磁気記録媒体。 2、上記塗膜の膜厚が0.1〜0.5μmである特許請
求の範囲第1項記載の磁気記録媒体。 3、上記強磁性体粉体の量が塗膜の70〜90重量%で
ある特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61190518A JPS6348612A (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 磁気記録媒体 |
KR1019870008250A KR920002577B1 (ko) | 1986-08-15 | 1987-07-29 | 자기기록매체 |
US07/082,213 US4789581A (en) | 1986-08-15 | 1987-08-06 | Magnetic recording medium |
DE19873727197 DE3727197C2 (de) | 1986-08-15 | 1987-08-14 | Magnetisches Aufnahmemedium und Verfahren zu seiner Herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61190518A JPS6348612A (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6348612A true JPS6348612A (ja) | 1988-03-01 |
Family
ID=16259424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61190518A Pending JPS6348612A (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 磁気記録媒体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4789581A (ja) |
JP (1) | JPS6348612A (ja) |
KR (1) | KR920002577B1 (ja) |
DE (1) | DE3727197C2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5180616A (en) * | 1986-06-23 | 1993-01-19 | Hitachi, Ltd. | Hard disk magnetic recording medium comprising magnetic powder and a binder and having a specified magnetic layer thickness and surface roughness |
FR2638016A1 (fr) * | 1988-10-18 | 1990-04-20 | Kodak Pathe | Procede de traitement de surface de couches magnetiques |
FR2638000B1 (fr) * | 1988-10-18 | 1990-12-14 | Kodak Pathe | Carte a memoire magnetique a grande capacite et procede de fabrication |
US5965194A (en) * | 1992-01-10 | 1999-10-12 | Imation Corp. | Magnetic recording media prepared from magnetic particles having an extremely thin, continuous, amorphous, aluminum hydrous oxide coating |
JP2872227B2 (ja) * | 1992-08-07 | 1999-03-17 | 戸田工業株式会社 | 磁気記録媒体用下地層 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5555439A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-23 | Hitachi Ltd | Magnetic recording medium composite |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1244108A (en) * | 1968-02-12 | 1971-08-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
US4122234A (en) * | 1977-08-08 | 1978-10-24 | Dysan Corporation | Article employing a heat hardenable liquid film forming composition with particles dispersed therein and method for making same |
US4397751A (en) * | 1981-05-04 | 1983-08-09 | International Business Machines Corporation | Magnetic disk coatings |
JPS58125231A (ja) * | 1982-01-19 | 1983-07-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
EP0123707B1 (de) * | 1983-05-02 | 1987-10-21 | Ibm Deutschland Gmbh | Anordnung aus einer mit einem Schmierstoff versehenen Magnetplatte und einem Magnetkopf und Verfahren zum Herstellen der Anordnung |
JPS6173237A (ja) * | 1984-09-18 | 1986-04-15 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気デイスク |
JPH0719364B2 (ja) * | 1985-02-28 | 1995-03-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-08-15 JP JP61190518A patent/JPS6348612A/ja active Pending
-
1987
- 1987-07-29 KR KR1019870008250A patent/KR920002577B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1987-08-06 US US07/082,213 patent/US4789581A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-08-14 DE DE19873727197 patent/DE3727197C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5555439A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-23 | Hitachi Ltd | Magnetic recording medium composite |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR880003288A (ko) | 1988-05-16 |
DE3727197A1 (de) | 1988-02-25 |
DE3727197C2 (de) | 1994-09-22 |
KR920002577B1 (ko) | 1992-03-30 |
US4789581A (en) | 1988-12-06 |
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