JPS6255556B2 - - Google Patents
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- JPS6255556B2 JPS6255556B2 JP262380A JP262380A JPS6255556B2 JP S6255556 B2 JPS6255556 B2 JP S6255556B2 JP 262380 A JP262380 A JP 262380A JP 262380 A JP262380 A JP 262380A JP S6255556 B2 JPS6255556 B2 JP S6255556B2
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- Expired
Links
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気デイスクなどの磁性膜用塗料組
成物の製造方法に関する。
成物の製造方法に関する。
従来、磁気デイスクの製造は強磁性体微粒子を
高分子結合剤溶液中に分散せしめてなる塗料を基
板上に塗布し、熱硬化、加工等のプロセスを経て
行なわれている。一般に塗膜中の磁性粉粒子はラ
ンダムに凝集し、不均一な大きさの凝集体として
存在している。したがつて高密度デイスクとして
は、電気的欠陥や表面の平滑性等の面で充分満足
しえない。
高分子結合剤溶液中に分散せしめてなる塗料を基
板上に塗布し、熱硬化、加工等のプロセスを経て
行なわれている。一般に塗膜中の磁性粉粒子はラ
ンダムに凝集し、不均一な大きさの凝集体として
存在している。したがつて高密度デイスクとして
は、電気的欠陥や表面の平滑性等の面で充分満足
しえない。
本発明は、磁気デイスクなどの塗膜中の磁性粉
を均一な束状に形成させ得る塗料組成物を製造す
る方法を提供することを目的とする。このように
塗膜中の磁性粉が均一な束状である磁気デイスク
は、電気的なノイズや欠陥が減少し、電気的特性
及び機械的特性に優れる。
を均一な束状に形成させ得る塗料組成物を製造す
る方法を提供することを目的とする。このように
塗膜中の磁性粉が均一な束状である磁気デイスク
は、電気的なノイズや欠陥が減少し、電気的特性
及び機械的特性に優れる。
本発明は、
磁性粉 100重量部
ポリビニルブチラール（以下PVDと略す）、
ポリビニルホルマール（以下PVFMと略す）
及びポリビニルアセテート（以下PVACと略
す）からなる群から選ばれた少なくとも一種
のビニル樹脂 1.5〜30重量部 エポキシ樹脂 11〜70重量部 フエノール樹脂 10〜70重量部 及び溶媒からなる磁性膜用塗料組成物、もしくは
必要に応じて、この組成物に 充填剤 0.1〜15重量部 を加えた磁性塗料組成物をつぎの方法により製造
することにある。
及びポリビニルアセテート（以下PVACと略
す）からなる群から選ばれた少なくとも一種
のビニル樹脂 1.5〜30重量部 エポキシ樹脂 11〜70重量部 フエノール樹脂 10〜70重量部 及び溶媒からなる磁性膜用塗料組成物、もしくは
必要に応じて、この組成物に 充填剤 0.1〜15重量部 を加えた磁性塗料組成物をつぎの方法により製造
することにある。
すなわち、本発明は、磁性粉100重量部、エポ
キシ樹脂10〜40重量部及び溶媒15〜60重量部から
なる混合物、若しくはこの混合物に充填剤0.1〜
15重量部を加えた混合物をずり応力10〜400Kg／
cm2の力を加えて混練する第１工程と、上記混練物
にエポキシ樹脂を含むバインダー５〜30重量部と
溶媒110〜150重量部を加え、さらに混練を行なう
第２工程と、混練した上記組成物と溶媒またはバ
インダー溶液とを混合し、磁気デイスク用塗料と
する第３工程とよりなる。
キシ樹脂10〜40重量部及び溶媒15〜60重量部から
なる混合物、若しくはこの混合物に充填剤0.1〜
15重量部を加えた混合物をずり応力10〜400Kg／
cm2の力を加えて混練する第１工程と、上記混練物
にエポキシ樹脂を含むバインダー５〜30重量部と
溶媒110〜150重量部を加え、さらに混練を行なう
第２工程と、混練した上記組成物と溶媒またはバ
インダー溶液とを混合し、磁気デイスク用塗料と
する第３工程とよりなる。
第１工程における混練は、たとえばニーダーに
よつて行なうことにより、混合物に10〜400Kg／
cm2のずり応力を加えることができる。より好まし
いずり応力の範囲は、15〜150Kg／cm2である。10
Kg／cm2未満のずり応力では混合物を混練すること
が困難であり、10Kg／cm2以上15Kg／cm2未満では、
混練は可能であるが長時間を要する。またずり応
力が150Kg／cm2を越えると、樹脂が機械的作用に
よつて劣化する傾向があらわれ、400Kg／cm2を越
えるとそれが著しくなる。従つて、上記の範囲が
好ましい。ずり応力は、ニーダーのブレードと容
器とのギヤツプ、回転数などによつて決まるもの
であるから、あらかじめ計算しておけば回転数を
制御することにより調整することができる。な
お、混練によつて混合物の粘度などが変化するの
で、混練中回転数は一定でもずり応力は、変化す
る。それ故、あらかじめこの点を計算して回転数
を定めるか、混練中回転数を変化させるかしてず
り応力を前記範囲に保つ。
よつて行なうことにより、混合物に10〜400Kg／
cm2のずり応力を加えることができる。より好まし
いずり応力の範囲は、15〜150Kg／cm2である。10
Kg／cm2未満のずり応力では混合物を混練すること
が困難であり、10Kg／cm2以上15Kg／cm2未満では、
混練は可能であるが長時間を要する。またずり応
力が150Kg／cm2を越えると、樹脂が機械的作用に
よつて劣化する傾向があらわれ、400Kg／cm2を越
えるとそれが著しくなる。従つて、上記の範囲が
好ましい。ずり応力は、ニーダーのブレードと容
器とのギヤツプ、回転数などによつて決まるもの
であるから、あらかじめ計算しておけば回転数を
制御することにより調整することができる。な
お、混練によつて混合物の粘度などが変化するの
で、混練中回転数は一定でもずり応力は、変化す
る。それ故、あらかじめこの点を計算して回転数
を定めるか、混練中回転数を変化させるかしてず
り応力を前記範囲に保つ。
一例を示すと、前記混合物を、ブレード回転数
５〜50rpmで回転させ、10〜400Kg／cm2のずり応
力を与えながら30分〜24時間混練する。この間混
練物の温度は、室温から95℃位の間で変化する。
５〜50rpmで回転させ、10〜400Kg／cm2のずり応
力を与えながら30分〜24時間混練する。この間混
練物の温度は、室温から95℃位の間で変化する。
第１工程に用いる混合物は、原料をすべて同時
に混合することを要しない。すなわち、あらかじ
めポリマーと磁性粉を混合してから溶媒を加えて
混練してもよい。またポリマーを溶媒に溶かして
加えてもよい。
に混合することを要しない。すなわち、あらかじ
めポリマーと磁性粉を混合してから溶媒を加えて
混練してもよい。またポリマーを溶媒に溶かして
加えてもよい。
第１工程においては樹脂としてエポキシ樹脂の
みを無機物、すなわち磁性粉と必要ならば充填
物、と混合することが必要である。これにより磁
性粉が均一な束状に分散する。またこの際溶媒の
量も重要である。前記の量未満では混練すること
が実質的に困難であり、また前記の量を越えると
前記のずり応力を与えながら混練することが困難
となる。
みを無機物、すなわち磁性粉と必要ならば充填
物、と混合することが必要である。これにより磁
性粉が均一な束状に分散する。またこの際溶媒の
量も重要である。前記の量未満では混練すること
が実質的に困難であり、また前記の量を越えると
前記のずり応力を与えながら混練することが困難
となる。
第２、第３工程における混練は、通常のボール
ミルなどを用いて行なう。この場合も、残りの樹
脂、溶媒の混合は、一度に行なつても、順次少量
ずつ行なつてもよい。
ミルなどを用いて行なう。この場合も、残りの樹
脂、溶媒の混合は、一度に行なつても、順次少量
ずつ行なつてもよい。
また、第１工程、第２工程、第３工程に用いる
溶媒は、同じものである必要はない。もちろん同
種の溶媒であつてもよい。
溶媒は、同じものである必要はない。もちろん同
種の溶媒であつてもよい。
エポキシ樹脂は、第１工程で全部配合しなかつ
たとき、残りは第２工程で加えることが必要であ
る。第２工程で加える樹脂は、上記のエポキシ樹
脂のみでも、これに他の樹脂を加えて混合しても
よい。ビニル樹脂としてはPVBがもつとも好まし
い。
たとき、残りは第２工程で加えることが必要であ
る。第２工程で加える樹脂は、上記のエポキシ樹
脂のみでも、これに他の樹脂を加えて混合しても
よい。ビニル樹脂としてはPVBがもつとも好まし
い。
磁気デイスクの塗膜は、一般に回転塗布によつ
て塗布され、その厚みは、回転数と回転する時間
と塗料粘度により決まることは公知である。それ
故第３工程において溶媒を加え所望の粘度にする
この際必要な樹脂量が未だ配合されていないとき
は、当然残りの樹脂を溶媒と共に加える。
て塗布され、その厚みは、回転数と回転する時間
と塗料粘度により決まることは公知である。それ
故第３工程において溶媒を加え所望の粘度にする
この際必要な樹脂量が未だ配合されていないとき
は、当然残りの樹脂を溶媒と共に加える。
このようにして得た磁性膜用塗料組成物は、磁
性粉は均一な束状に凝集しており、これを用いて
通常の方法により磁気デイスクを製造することが
できる。すなわち、塗布に適した粘度とするため
必要があれば溶媒でさらに希釈し、アルミニウム
円板に塗布し、必要ならば磁場配向し、熱硬化、
加工して磁気デイスクとする。
性粉は均一な束状に凝集しており、これを用いて
通常の方法により磁気デイスクを製造することが
できる。すなわち、塗布に適した粘度とするため
必要があれば溶媒でさらに希釈し、アルミニウム
円板に塗布し、必要ならば磁場配向し、熱硬化、
加工して磁気デイスクとする。
以下実施例により説明する。
実施例 １
磁性粉100重量部とα―Al2O310重量部をニー
ダー混練機に投入し約５分間混合を行なう。つぎ
に、エポキシ樹脂20重量部をシクロヘキサノン30
重量部で溶解した溶液を加えて、ずり速度を約50
Kg／cm2で約４時間混練を行なう。
ダー混練機に投入し約５分間混合を行なう。つぎ
に、エポキシ樹脂20重量部をシクロヘキサノン30
重量部で溶解した溶液を加えて、ずり速度を約50
Kg／cm2で約４時間混練を行なう。
上記混練物をボールミルポツトに入れ、エポキ
シ樹脂15重量部とシクロヘキサノン130重量部を
加え４日間ボールミル混練を行ない磁性粉を分散
させる。つぎに、フエノール樹脂35重量部、ビニ
ール樹脂の2.5％のシクロヘキサノン溶液350重量
部を添加し、磁気デイスク用塗料を調合する。つ
ぎにあらかじめ表面を洗浄したアルミニウム基板
に上記塗料を塗布する。この塗膜中の磁性粉粒子
を周知の方法によつて配向せしめる。この塗膜中
の磁性粉粒子は束状で均一に分散している。
シ樹脂15重量部とシクロヘキサノン130重量部を
加え４日間ボールミル混練を行ない磁性粉を分散
させる。つぎに、フエノール樹脂35重量部、ビニ
ール樹脂の2.5％のシクロヘキサノン溶液350重量
部を添加し、磁気デイスク用塗料を調合する。つ
ぎにあらかじめ表面を洗浄したアルミニウム基板
に上記塗料を塗布する。この塗膜中の磁性粉粒子
を周知の方法によつて配向せしめる。この塗膜中
の磁性粉粒子は束状で均一に分散している。
このデイスクの電気特性について調べた結果、
従来のデイスクに比べ、ノイズが約15％減少し、
Ｓ／Ｎが約20％向上した。
従来のデイスクに比べ、ノイズが約15％減少し、
Ｓ／Ｎが約20％向上した。
Claims (1)
- １ 磁性粉100重量部、エポキシ樹脂10〜40重量
部及び溶媒15〜60重量部からなる混合物、若しく
は必要に応じてこの混合物に充填剤0.1〜15重量
部を加えた混合物をずり応力10〜400Kg／cm2の力
を加えて混練する第１工程、上部混練物にエポキ
シ樹脂を含むバインダー５〜30重量部と溶媒110
〜150重量部を加え混練を行なう第２工程及びさ
らに混練した上記混練物に溶媒又はバインダー溶
液を加えて磁性膜用塗料組成物とする第３工程よ
りなる塗料組成物製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP262380A JPS56100871A (en) | 1980-01-16 | 1980-01-16 | Manufacture of coating composition for magnetic film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP262380A JPS56100871A (en) | 1980-01-16 | 1980-01-16 | Manufacture of coating composition for magnetic film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56100871A JPS56100871A (en) | 1981-08-13 |
| JPS6255556B2 true JPS6255556B2 (ja) | 1987-11-20 |
Family
ID=11534520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP262380A Granted JPS56100871A (en) | 1980-01-16 | 1980-01-16 | Manufacture of coating composition for magnetic film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56100871A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58200423A (ja) * | 1982-05-18 | 1983-11-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気塗料組成物の製造方法 |
| JPS6254765A (ja) * | 1985-09-04 | 1987-03-10 | Toshiba Corp | 有機厚膜ペ−ストの製造方法 |
| JPS62167368A (ja) * | 1986-01-17 | 1987-07-23 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 磁性被膜形成用ペ−スト |
-
1980
- 1980-01-16 JP JP262380A patent/JPS56100871A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56100871A (en) | 1981-08-13 |
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