JPS62167368A - 磁性被膜形成用ペ−スト - Google Patents
磁性被膜形成用ペ−ストInfo
- Publication number
- JPS62167368A JPS62167368A JP61007723A JP772386A JPS62167368A JP S62167368 A JPS62167368 A JP S62167368A JP 61007723 A JP61007723 A JP 61007723A JP 772386 A JP772386 A JP 772386A JP S62167368 A JPS62167368 A JP S62167368A
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- Japan
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- magnetic
- weight
- epoxy resin
- coating film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金属、ガラス、セラミック、プラスチック等の
基体表面に任意の形状の磁性膜を形成するための磁性被
膜形成用ペーストに関するものである。
基体表面に任意の形状の磁性膜を形成するための磁性被
膜形成用ペーストに関するものである。
従来、永久磁石として種々の材料が開発されてさたが、
現在では性能、コストの点で浸れるフェライト磁石が主
流を占めている。近年に至り希土類コバルト磁石が開発
され、その特性が極めて良好なため特に高性能を要する
分野に用いられている。これらの磁石は何れも一軸異方
性であり、粉砕した磁性粉末を磁場中で圧粉成形し、焼
結して製造される。
現在では性能、コストの点で浸れるフェライト磁石が主
流を占めている。近年に至り希土類コバルト磁石が開発
され、その特性が極めて良好なため特に高性能を要する
分野に用いられている。これらの磁石は何れも一軸異方
性であり、粉砕した磁性粉末を磁場中で圧粉成形し、焼
結して製造される。
ところでこのような磁石を薄くでされば応用範囲が一層
広くなる。例えば回転軸に取付けた円盤上の同一円周上
に薄い磁石片を等間隔で取付けておけば軸の回転数をホ
ール素子等によって磁気的に検出することができる。
広くなる。例えば回転軸に取付けた円盤上の同一円周上
に薄い磁石片を等間隔で取付けておけば軸の回転数をホ
ール素子等によって磁気的に検出することができる。
しかしながら、上記焼結磁石からそのような慰い磁石片
を製造することは、素材が脆いために極めて困難である
。
を製造することは、素材が脆いために極めて困難である
。
近年、磁性粉末とプラスチック分混合し、磁場を印加し
た金型に射出して配向、成形３行なったプラスチック磁
石も出現しているが、この方式によれば比較的種々の形
状の磁石の製造が可能であるものの、金型中における混
合体の流動性の制約から１間以下の厚さの磁石片を得る
ことは困難である。又、仮に上記の方法で薄い磁石片が
得られたとしても、その磁石片を基体に取付けるには接
着剤等で貼付ける必要があり、所要の磁石片配列な得る
には大変手間が掛る。このような手間を省き、簡単に所
要の基体に磁性の膜を形成するにはスパッタリング法、
イオンビーム法等の方法が考えられるが、この方法の場
合、膜の厚さは時間に比例し、膜を厚くするとそれだけ
時間が掛るので高価となり、薄過ぎると得られる磁石膜
の磁束が小さくなり、あまり実用的な方法とは云えない
。
た金型に射出して配向、成形３行なったプラスチック磁
石も出現しているが、この方式によれば比較的種々の形
状の磁石の製造が可能であるものの、金型中における混
合体の流動性の制約から１間以下の厚さの磁石片を得る
ことは困難である。又、仮に上記の方法で薄い磁石片が
得られたとしても、その磁石片を基体に取付けるには接
着剤等で貼付ける必要があり、所要の磁石片配列な得る
には大変手間が掛る。このような手間を省き、簡単に所
要の基体に磁性の膜を形成するにはスパッタリング法、
イオンビーム法等の方法が考えられるが、この方法の場
合、膜の厚さは時間に比例し、膜を厚くするとそれだけ
時間が掛るので高価となり、薄過ぎると得られる磁石膜
の磁束が小さくなり、あまり実用的な方法とは云えない
。
本発明は金属、ガラス、セラミック、プラスチック等の
基体表面に任意の形状の磁性被膜を容易且つ低コストで
形成するべく為されたものである。
基体表面に任意の形状の磁性被膜を容易且つ低コストで
形成するべく為されたものである。
この目的を達成するため本発明者等は、磁性粉末を接着
性の良好な熱硬化性の樹脂と混合してペースト状にすれ
ば磁性被膜の形成が簡単にできるのではないかと考え、
種々実験の結果本発明に到達したものである。
性の良好な熱硬化性の樹脂と混合してペースト状にすれ
ば磁性被膜の形成が簡単にできるのではないかと考え、
種々実験の結果本発明に到達したものである。
即ち本発明の磁性被膜形成用ペーストは、（イ）磁性粉
末 ９５〜５０重量％ （ロ）希釈剤 １〜２０重量％ （ハ）（ハ−１）エポキシ樹脂 １００重量部（ハ−２
）硬化剤 １〜４０重量部 （／１１）（ハ−２）を合計で４〜３０重量％上記（イ
）（ロ）（ハ）の合計が１００重量％となるようにこれ
らを含有せしめたものである。
末 ９５〜５０重量％ （ロ）希釈剤 １〜２０重量％ （ハ）（ハ−１）エポキシ樹脂 １００重量部（ハ−２
）硬化剤 １〜４０重量部 （／１１）（ハ−２）を合計で４〜３０重量％上記（イ
）（ロ）（ハ）の合計が１００重量％となるようにこれ
らを含有せしめたものである。
（イ）の磁性粉末は保磁力が大きく、−軸異方性のある
ものであれば何でも良く、フェライト、ＳｍＣ０１Ｓｍ
Ｃ！ ｏ 等の希土類コバルト化合物、希土類鉄ボロ
ン系化合物等を用いることができる。該粉末は高保磁力
が発揮でき、しかもペースト状とし得る程度に粉砕され
ているのが望ましく、０．１〜１０μｍ程度が適当であ
る。磁性粉末の添加量は使用粉末の比重によって変更す
る必要があるが、５０重量％未満であると磁気特性は著
るしく低下する。又、９５重量％を超えると樹脂の比率
が低下し過ぎ、硬化物の強度低下、接着力の低下の原因
となる。
ものであれば何でも良く、フェライト、ＳｍＣ０１Ｓｍ
Ｃ！ ｏ 等の希土類コバルト化合物、希土類鉄ボロ
ン系化合物等を用いることができる。該粉末は高保磁力
が発揮でき、しかもペースト状とし得る程度に粉砕され
ているのが望ましく、０．１〜１０μｍ程度が適当であ
る。磁性粉末の添加量は使用粉末の比重によって変更す
る必要があるが、５０重量％未満であると磁気特性は著
るしく低下する。又、９５重量％を超えると樹脂の比率
が低下し過ぎ、硬化物の強度低下、接着力の低下の原因
となる。
（ロ）の溶剤には硬化剤の作用を受ける反応性の溶剤と
これと反応しない非反応性溶剤があり、何れを用いても
良く、又併用しても良い。前者としては、フェニルグリ
シジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ネオペン
チルグリコールジグリシジルエーテルなどで代表される
エポキシ化合物があり、後者の非反応性溶剤としてはエ
ポキシ樹脂を溶解するアセトン、メチルエチルケトン、
トルエン、モノクロルベンゼン、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブなどが挙げられる。溶剤の添加はペース
トの粘度を調整するためであるが、添加量が多過ぎると
硬化物の特性低下をきたすので、１〜２０重毒％とする
。
これと反応しない非反応性溶剤があり、何れを用いても
良く、又併用しても良い。前者としては、フェニルグリ
シジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ネオペン
チルグリコールジグリシジルエーテルなどで代表される
エポキシ化合物があり、後者の非反応性溶剤としてはエ
ポキシ樹脂を溶解するアセトン、メチルエチルケトン、
トルエン、モノクロルベンゼン、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブなどが挙げられる。溶剤の添加はペース
トの粘度を調整するためであるが、添加量が多過ぎると
硬化物の特性低下をきたすので、１〜２０重毒％とする
。
（ハ−１）のエポキシ樹脂は１分子中に２個以上のエポ
キシ基を有するものであれば何れでも良い。
キシ基を有するものであれば何れでも良い。
例工ばビスフェノールＡ１ビスフエノールＦ１カテフー
ル、レゾルシンなどのような多価フェノール又はグリセ
リン、ポリエチレングリコールのような多価アルフール
とエピクロルヒドリン分反応させて得られるポリグリシ
ジルエーテル、あるいはｐ−オキシ安息香酸、β−オキ
シナフトエ酸のようなヒドロキシカルボン酸とエピクロ
ルヒドリンを反応させて得られるグリシジルエーテルエ
ステル、あるいはフタル酸、テレフタル酸のようなポリ
カルボン酸から得られるポリグリシジルエステル、ある
いは４，４′−ジアミノジフェニルメタンやｍ−アミノ
フェノールなどから得られるグリシジルアミン化合物、
更にはエポキシ化ノボラックやエポキシ化ポリオレフィ
ンなどが例示されるが、これらに限定されるものではな
い。
ル、レゾルシンなどのような多価フェノール又はグリセ
リン、ポリエチレングリコールのような多価アルフール
とエピクロルヒドリン分反応させて得られるポリグリシ
ジルエーテル、あるいはｐ−オキシ安息香酸、β−オキ
シナフトエ酸のようなヒドロキシカルボン酸とエピクロ
ルヒドリンを反応させて得られるグリシジルエーテルエ
ステル、あるいはフタル酸、テレフタル酸のようなポリ
カルボン酸から得られるポリグリシジルエステル、ある
いは４，４′−ジアミノジフェニルメタンやｍ−アミノ
フェノールなどから得られるグリシジルアミン化合物、
更にはエポキシ化ノボラックやエポキシ化ポリオレフィ
ンなどが例示されるが、これらに限定されるものではな
い。
（ハ−２）の硬化剤はエポキシ樹脂用硬化剤として知ら
れているモノアミン、ポリアミン、グリシジルエーテル
のアミン付加物の他、尿素、グアニジン、ヒドラジン、
ヒドラジド、アミジン、トリアジン、アゾ化合物等ひ用
いることができる。これらは単独で用いても良く、複数
種併用しても良い。エポキシ樹脂１００重量部に対する
硬化剤の添加量は種々の硬化剤について通常指定されて
いるが、上記の硬化剤の場合１〜４０重量部の範囲で添
加すれば良い。又、硬化反応の温度は硬化剤の種類に依
存するので、適当な硬化剤を選択する必要がある。一般
に脂肪族アミンは低温で反応し、芳香族アミンは中、高
温で反応する。
れているモノアミン、ポリアミン、グリシジルエーテル
のアミン付加物の他、尿素、グアニジン、ヒドラジン、
ヒドラジド、アミジン、トリアジン、アゾ化合物等ひ用
いることができる。これらは単独で用いても良く、複数
種併用しても良い。エポキシ樹脂１００重量部に対する
硬化剤の添加量は種々の硬化剤について通常指定されて
いるが、上記の硬化剤の場合１〜４０重量部の範囲で添
加すれば良い。又、硬化反応の温度は硬化剤の種類に依
存するので、適当な硬化剤を選択する必要がある。一般
に脂肪族アミンは低温で反応し、芳香族アミンは中、高
温で反応する。
エポキシ樹脂と硬化剤は合計で４〜３０重量％とする必
要がある。この比率は磁性粉末の割合と相補的であって
、多過ぎれば磁気特性が低下し、少な過ぎれば硬化物の
強度が不足する他、基体への接着力も小さくなって基体
から剥離し易くなる。
要がある。この比率は磁性粉末の割合と相補的であって
、多過ぎれば磁気特性が低下し、少な過ぎれば硬化物の
強度が不足する他、基体への接着力も小さくなって基体
から剥離し易くなる。
本発明の磁性被膜形成用ペーストは上記各成分を秤量混
合し、３本ロール等で混練すれば容易に得られる。この
ペーストをスクリーン印刷によって所望のパターンで基
体表面へ塗布し、所定の温度で硬化処理すれば、基体に
充分接着した磁性被膜とすることができ、この磁性被膜
に着磁処理を施せば磁性被膜は磁石化する。膜厚はスク
リーンのマスク部厚さの選択により、又重ね塗りによっ
て任意に厚くできる。
合し、３本ロール等で混練すれば容易に得られる。この
ペーストをスクリーン印刷によって所望のパターンで基
体表面へ塗布し、所定の温度で硬化処理すれば、基体に
充分接着した磁性被膜とすることができ、この磁性被膜
に着磁処理を施せば磁性被膜は磁石化する。膜厚はスク
リーンのマスク部厚さの選択により、又重ね塗りによっ
て任意に厚くできる。
磁性粉末として平均粒径約２．５μｍに微粉砕したＳ＋
ｎ０ｏ５粉末及び平均粒径約４μｍに微粉砕したＳｍＣ
！（＋粉末、希釈剤としてｎ−ブチルグリシジルエーテ
ル、エポキシ樹脂としてスミエポキシＥＬＡ−１２８（
住友化学工業（１１製ビスフエノールＡ型エポキシ樹脂
の商品名、エポキシ当量１９０ ｇ／ ｅｑｕｉｖ）、
硬化剤としてスミキュアＰ−７２５（住友化学工業■製
ポリアミド樹脂の商品名、アミン価３００■ＫｏＨ／ｇ
）及びジシアンジアミドを用いた。
ｎ０ｏ５粉末及び平均粒径約４μｍに微粉砕したＳｍＣ
！（＋粉末、希釈剤としてｎ−ブチルグリシジルエーテ
ル、エポキシ樹脂としてスミエポキシＥＬＡ−１２８（
住友化学工業（１１製ビスフエノールＡ型エポキシ樹脂
の商品名、エポキシ当量１９０ ｇ／ ｅｑｕｉｖ）、
硬化剤としてスミキュアＰ−７２５（住友化学工業■製
ポリアミド樹脂の商品名、アミン価３００■ＫｏＨ／ｇ
）及びジシアンジアミドを用いた。
エポキシ樹脂と希釈剤及び硬化剤は、重量比で１３ ：
７ ： ５の割合で混合し、この混合物と前記磁性粉
末を種々の割合で混練し、磁性被膜形成用ペーストを得
た。このペーストを磁場を印加して、又は磁場を印加し
ないで３Ｑｓｎ角のアルミナ基板に１００角のパターン
で印刷塗布し、１００Ｃで３０分間加熱して硬化せしめ
た。その後表面粗さ計で膜厚を測定した。次いでこのア
ルミナ基板から磁性被膜を有する部分を５ｇｌ５角に切
り取り、コンデンサ一式着脱磁電源装置でパルス着磁を
行ない、振動試料型磁力計で磁気特性を測定した。
７ ： ５の割合で混合し、この混合物と前記磁性粉
末を種々の割合で混練し、磁性被膜形成用ペーストを得
た。このペーストを磁場を印加して、又は磁場を印加し
ないで３Ｑｓｎ角のアルミナ基板に１００角のパターン
で印刷塗布し、１００Ｃで３０分間加熱して硬化せしめ
た。その後表面粗さ計で膜厚を測定した。次いでこのア
ルミナ基板から磁性被膜を有する部分を５ｇｌ５角に切
り取り、コンデンサ一式着脱磁電源装置でパルス着磁を
行ない、振動試料型磁力計で磁気特性を測定した。
ペースト組成、配向の有無、膜厚、磁気特性（保磁力及
び残留磁束密度）を第１表にまとめて示す。
び残留磁束密度）を第１表にまとめて示す。
第 １ 表
第１表の結果から、本発明の磁性被膜形成用ペーストに
よればプラス−チック磁石より幾分性能は劣るが、用途
によっては充分使用に耐える磁性被膜が得られることが
判る。又、印刷塗布時に配向せしめた方が配向しない場
合に比べて磁気特性が良好になることも判る。
よればプラス−チック磁石より幾分性能は劣るが、用途
によっては充分使用に耐える磁性被膜が得られることが
判る。又、印刷塗布時に配向せしめた方が配向しない場
合に比べて磁気特性が良好になることも判る。
このように本発明のペーストによれば基体表面に任意の
形状で且つ任意の厚さの磁性被膜を極めて容易に且つ低
コストで形成でき、種々の用途に応用することができる
。
形状で且つ任意の厚さの磁性被膜を極めて容易に且つ低
コストで形成でき、種々の用途に応用することができる
。
Claims (1)
- （１）（イ）磁性粉末９５〜５０重量％ （ロ）希釈剤１〜２０重量％ （ハ）（ハ−１）エポキシ樹脂１００重量部、（ハ−２
）硬化剤１〜４０重量部、 （ハ−１）（ハ−２）を上記割合で含有し、合計で４〜
３０重量％、 の割合でこれらを含み上記（イ）（ロ）（ハ）の合計が
１００重量％である磁性被膜形成用ペースト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61007723A JPS62167368A (ja) | 1986-01-17 | 1986-01-17 | 磁性被膜形成用ペ−スト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61007723A JPS62167368A (ja) | 1986-01-17 | 1986-01-17 | 磁性被膜形成用ペ−スト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62167368A true JPS62167368A (ja) | 1987-07-23 |
Family
ID=11673633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61007723A Pending JPS62167368A (ja) | 1986-01-17 | 1986-01-17 | 磁性被膜形成用ペ−スト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62167368A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2004027795A1 (ja) * | 2002-09-19 | 2006-01-19 | Ｎｅｃトーキン株式会社 | ボンド磁石の製造方法及びボンド磁石を備えた磁気デバイスの製造方法 |
| JP2009154564A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Fujikura Ltd | レバーシャフトポジション検出装置 |
| JP2010538494A (ja) * | 2007-09-07 | 2010-12-09 | ヴィシェイ デール エレクトロニクス インコーポレイテッド | バイアスギャップインダクタとその製造方法 |
| WO2022190647A1 (ja) * | 2021-03-10 | 2022-09-15 | 日清紡ホールディングス株式会社 | 磁性ペースト |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56100871A (en) * | 1980-01-16 | 1981-08-13 | Hitachi Ltd | Manufacture of coating composition for magnetic film |
| JPS57207655A (en) * | 1981-06-17 | 1982-12-20 | Tokyo Jiki Insatsu Kk | Preparation of water-based emulsion paint |
| JPS60149669A (ja) * | 1984-01-17 | 1985-08-07 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 紫外線硬化性磁性塗料組成物 |
-
1986
- 1986-01-17 JP JP61007723A patent/JPS62167368A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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| US7531050B2 (en) | 2002-09-19 | 2009-05-12 | Nec Tokin Corporation | Method for manufacturing bonded magnet and method for manufacturing magnetic device having bonded magnet |
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