JPS6348571B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6348571B2 JPS6348571B2 JP60125114A JP12511485A JPS6348571B2 JP S6348571 B2 JPS6348571 B2 JP S6348571B2 JP 60125114 A JP60125114 A JP 60125114A JP 12511485 A JP12511485 A JP 12511485A JP S6348571 B2 JPS6348571 B2 JP S6348571B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nitrogen
- titanium
- fluoride
- gas
- nitrogen trifluoride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(dinaphthalen-2-ylamino)phenyl]phenyl]-n-naphthalen-2-ylnaphthalen-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N(C=3C=CC(=CC=3)C=3C=CC(=CC=3)N(C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C3=CC4=CC=CC=C4C=C3)=CC=C21 QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N nitrogen trifluoride Chemical compound FN(F)F GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 19
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- XROWMBWRMNHXMF-UHFFFAOYSA-J titanium tetrafluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[Ti+4] XROWMBWRMNHXMF-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 17
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 11
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 39
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 8
- DUQAODNTUBJRGF-ONEGZZNKSA-N dinitrogen difluoride Chemical compound F\N=N\F DUQAODNTUBJRGF-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 4
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 4
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- RFCAUADVODFSLZ-UHFFFAOYSA-N 1-Chloro-1,1,2,2,2-pentafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)Cl RFCAUADVODFSLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019406 chloropentafluoroethane Nutrition 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 3
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 2
- GFADZIUESKAXAK-UHFFFAOYSA-N tetrafluorohydrazine Chemical compound FN(F)N(F)F GFADZIUESKAXAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- AFYPFACVUDMOHA-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoromethane Chemical compound FC(F)(F)Cl AFYPFACVUDMOHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N hexafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)F WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N octafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- NLPMQGKZYAYAFE-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) fluoride Chemical compound F[Ti](F)F NLPMQGKZYAYAFE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、三弗化窒素および／またはその分解
物を含む窒素弗化物を金属チタンと接触、反応さ
せることにより、該窒素弗化物中の弗素をチタン
弗化物として除去する方法に関する。
物を含む窒素弗化物を金属チタンと接触、反応さ
せることにより、該窒素弗化物中の弗素をチタン
弗化物として除去する方法に関する。
従来の技術と問題点
三弗化窒素は、化学レーザーの弗素源として、
或は、超LSI用ドライエツチングガスとして注目
されている有用なガスである。三弗化窒素は、常
温では、物理的、化学的に安定なガスであるが、
熱、紫外線、電気放電等、適当な条件下では、分
解し、分解生成物として、四弗化二窒素、二弗化
二窒素、二弗化窒素、六弗化二窒素等の窒素弗化
物或は弗素ガス等が生成する。
或は、超LSI用ドライエツチングガスとして注目
されている有用なガスである。三弗化窒素は、常
温では、物理的、化学的に安定なガスであるが、
熱、紫外線、電気放電等、適当な条件下では、分
解し、分解生成物として、四弗化二窒素、二弗化
二窒素、二弗化窒素、六弗化二窒素等の窒素弗化
物或は弗素ガス等が生成する。
三弗化窒素は、許容濃度10ppm（TWA―TLV）
の毒性ガスであり、その分解生成物中には更に毒
性の強いガスが含まれる。
の毒性ガスであり、その分解生成物中には更に毒
性の強いガスが含まれる。
従つて、三弗化窒素を有効な目的に使用するた
めには、三弗化窒素或は、さらに有毒な窒素弗化
物等を、分解、除去し、無害化する方法が不可欠
である。
めには、三弗化窒素或は、さらに有毒な窒素弗化
物等を、分解、除去し、無害化する方法が不可欠
である。
従来、三弗化窒素或は窒素弗化物を分解する方
法として、 (1) 高温の活性炭と接触させる方法 〔J.Massonne et.al，Angew.Chem.78，336
（1966）〕 (2) 加熱した金属銅と接触させる方法 〔C.B.Colburn et.al，J.Am.Chem.Soc.80，
5004（1958）〕 (3) 炭化水素を燃料としたバーナー炎を通す方法 等が知られている。
法として、 (1) 高温の活性炭と接触させる方法 〔J.Massonne et.al，Angew.Chem.78，336
（1966）〕 (2) 加熱した金属銅と接触させる方法 〔C.B.Colburn et.al，J.Am.Chem.Soc.80，
5004（1958）〕 (3) 炭化水素を燃料としたバーナー炎を通す方法 等が知られている。
ところで、(1)の方法では三弗化窒素を、安全な
窒素と、四弗化炭素に完全に分解するために、
500℃以上の高温を要し、しかも炭素との激しい
反応の為、反応中に爆発の危険をともなう。
窒素と、四弗化炭素に完全に分解するために、
500℃以上の高温を要し、しかも炭素との激しい
反応の為、反応中に爆発の危険をともなう。
(2)の方法では380℃程度の温度では、三弗化窒
素の分解率40〜60％程度と低く、しかも、分解生
成物として三弗化窒素よりもさらに活性な弗化物
である四弗化二窒素を生じる。
素の分解率40〜60％程度と低く、しかも、分解生
成物として三弗化窒素よりもさらに活性な弗化物
である四弗化二窒素を生じる。
(3)の方法では、分解と同時に弗化水素、及び窒
素酸化物が生成するため、ひきつづき、これら副
生物の処理が必要である。
素酸化物が生成するため、ひきつづき、これら副
生物の処理が必要である。
等の処理を有していた。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、上記の事情を考慮し、特に高い反応
温度を必要とせず、しかも、危険な副生物を排出
しない、安全で簡便な、三弗化窒素および／また
はその分解物を含む窒素弗化物の処理方法の提供
を目的としている。
温度を必要とせず、しかも、危険な副生物を排出
しない、安全で簡便な、三弗化窒素および／また
はその分解物を含む窒素弗化物の処理方法の提供
を目的としている。
問題点を解決するための手段
上記目的を達成するため、検討を重ねた結果、
本発明者らは、三弗化窒素および／またはその分
解物を含む窒素弗化物を、金属チタンと接触、反
応させることにより、窒素弗化物中の弗素を、チ
タン弗化物として、きわめて効率よく除去できる
ことを見出し、本発明を完成した。
本発明者らは、三弗化窒素および／またはその分
解物を含む窒素弗化物を、金属チタンと接触、反
応させることにより、窒素弗化物中の弗素を、チ
タン弗化物として、きわめて効率よく除去できる
ことを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明の要旨は三弗化窒素および／
またはその分解物を含む窒素弗化物を金属チタン
と200℃以上の温度、好ましくは250〜400℃の温
度で接触・反応させ、該窒素弗化物中の弗素をチ
タン弗化物として除去することを特徴とする、窒
素弗化物の処理方法にある。
またはその分解物を含む窒素弗化物を金属チタン
と200℃以上の温度、好ましくは250〜400℃の温
度で接触・反応させ、該窒素弗化物中の弗素をチ
タン弗化物として除去することを特徴とする、窒
素弗化物の処理方法にある。
チタン弗化物としては、一般に三弗化チタン
（青色固体、昇華温度900℃以上）および四弗化チ
タン（白色固体、昇華温度284℃）が知られてい
る。本発明の方法で生成するのは、殆どが、昇華
温度の低い四弗化チタンであるため、反応でチタ
ン表面に生じる四弗化チタンは、ただちに気化
し、常に新しいチタン表面が露出されるため、反
応の効率は非常によく、チタンを有効に利用する
ことができる。
（青色固体、昇華温度900℃以上）および四弗化チ
タン（白色固体、昇華温度284℃）が知られてい
る。本発明の方法で生成するのは、殆どが、昇華
温度の低い四弗化チタンであるため、反応でチタ
ン表面に生じる四弗化チタンは、ただちに気化
し、常に新しいチタン表面が露出されるため、反
応の効率は非常によく、チタンを有効に利用する
ことができる。
本発明の方法における反応例を以下に示す。
NF3＋３／4Ti→１／2N2＋３／4TiF4 (1)
処理される窒素弗化物が、四弗化二窒素、二弗
化二窒素、二弗化窒素、六弗化二窒素等の窒素弗
化物の場合も、(1)式と同様の反応が進行し、窒素
弗化物中の弗素を、四弗化チタンとして固定する
ことができる。
化二窒素、二弗化窒素、六弗化二窒素等の窒素弗
化物の場合も、(1)式と同様の反応が進行し、窒素
弗化物中の弗素を、四弗化チタンとして固定する
ことができる。
ガス状の四弗化チタンは、冷却することにより
固体状四弗化チタンとして容易に排出ガスより回
収、除去でき、また、水或はアルカリ水溶液等に
よる洗浄等の方法により、除去する事も可能で、
特にその方法を限定するものではない。
固体状四弗化チタンとして容易に排出ガスより回
収、除去でき、また、水或はアルカリ水溶液等に
よる洗浄等の方法により、除去する事も可能で、
特にその方法を限定するものではない。
使用される金属チタンは、通常のスポンジチタ
ン等、入手の容易なものでよく、特殊な処理、加
工等は必要でない。その形状は、特に限定され
ず、粒状、棒状、ワイヤー状、等操作性の良い形
状であればよい。
ン等、入手の容易なものでよく、特殊な処理、加
工等は必要でない。その形状は、特に限定され
ず、粒状、棒状、ワイヤー状、等操作性の良い形
状であればよい。
本発明の方法で処理されるガス組成物中の窒素
弗化物の濃度は、特に範囲を限定されるものでな
く、本発明の方法により、容易に許容濃度以下ま
で窒素弗化物濃度を減じ、該ガス組成物を無害化
することができる。
弗化物の濃度は、特に範囲を限定されるものでな
く、本発明の方法により、容易に許容濃度以下ま
で窒素弗化物濃度を減じ、該ガス組成物を無害化
することができる。
窒素弗化物を含むガス組成物中に共存するガス
成分としては、窒素、ヘリウム、アルゴン、キセ
ノン等の不活性ガス、通常のドライエツチングに
使用されるフロン13、フロン14、フロン23、フロ
ン115、フロン116、フロン218等のフロン類、或
はエツチング排ガスや化学レーザーの排ガスに含
まれる四弗化ケイ素、フツ素、フツ化水素等、こ
れらのガスのうち、一種或は複数種が共存しても
さしつかえない。
成分としては、窒素、ヘリウム、アルゴン、キセ
ノン等の不活性ガス、通常のドライエツチングに
使用されるフロン13、フロン14、フロン23、フロ
ン115、フロン116、フロン218等のフロン類、或
はエツチング排ガスや化学レーザーの排ガスに含
まれる四弗化ケイ素、フツ素、フツ化水素等、こ
れらのガスのうち、一種或は複数種が共存しても
さしつかえない。
窒素弗化物と金属チタンの反応温度は200℃以
上、特に250〜400℃が好ましい。200℃以下の温
度では、生成する四弗化チタンの蒸気圧が低く、
チタン表面を固体状四弗化チタンが覆い反応の進
行を阻害する点から好ましくない。
上、特に250〜400℃が好ましい。200℃以下の温
度では、生成する四弗化チタンの蒸気圧が低く、
チタン表面を固体状四弗化チタンが覆い反応の進
行を阻害する点から好ましくない。
また、反応温度を高温にしてゆくと、不活性ガ
スを除き、共存ガスも反応に関与し、反応器内の
局所過熱状態或はチタン表面への堆積物の蓄積が
生じるため、反応器の材質面、金属チタンの反応
効率面、或いはエネルギー的な面から好ましいと
はいえない。しかし、このような場合にはガス組
成物中の窒素弗化物（活性弗化物が共存する場合
にはこれも含む）濃度を、窒素、ヘリウム、アル
ゴン等の不活性ガスで希釈し、窒素弗化物濃度30
〜10vol％以下に減じることにより、このような
局所過熱を防ぐことができる。反応の方法は、特
に限定されるものではないが、通常の流通式が装
置も簡便で操作も容易である。
スを除き、共存ガスも反応に関与し、反応器内の
局所過熱状態或はチタン表面への堆積物の蓄積が
生じるため、反応器の材質面、金属チタンの反応
効率面、或いはエネルギー的な面から好ましいと
はいえない。しかし、このような場合にはガス組
成物中の窒素弗化物（活性弗化物が共存する場合
にはこれも含む）濃度を、窒素、ヘリウム、アル
ゴン等の不活性ガスで希釈し、窒素弗化物濃度30
〜10vol％以下に減じることにより、このような
局所過熱を防ぐことができる。反応の方法は、特
に限定されるものではないが、通常の流通式が装
置も簡便で操作も容易である。
本発明の方法にもとづく装置の例を、概略図と
して第１図に示した。
して第１図に示した。
実施例
以下に実施例を示し、本発明を具体的に説明す
る。
る。
［実施例 １］
内径20mm〓のニツケル製反応管に、４〜8mesh
の粒状スポンジチタンを60ｇ充填し、外部からヒ
ータにより反応管を330℃に保持した。三弗化窒
素10vol％、窒素90vol％の組成の混合ガスを24
／hrの流量にて導入し、６時間連続処理を行な
つた。生成ガスは内容積300mlの内部冷却器を備
えたチタン弗化物捕集容器でチタン弗化物を固
化、回収した後、水酸化カリウム水溶液で洗浄し
た。排出ガスを、経時的に分析を行なつた結果、
排出ガス中の成分は窒素のみであり、三弗化窒素
は検出されなかつた。
の粒状スポンジチタンを60ｇ充填し、外部からヒ
ータにより反応管を330℃に保持した。三弗化窒
素10vol％、窒素90vol％の組成の混合ガスを24
／hrの流量にて導入し、６時間連続処理を行な
つた。生成ガスは内容積300mlの内部冷却器を備
えたチタン弗化物捕集容器でチタン弗化物を固
化、回収した後、水酸化カリウム水溶液で洗浄し
た。排出ガスを、経時的に分析を行なつた結果、
排出ガス中の成分は窒素のみであり、三弗化窒素
は検出されなかつた。
また、６時間経過後、湿式スクラバー内の水溶
液中には、チタン成分は検出されなかつた。
液中には、チタン成分は検出されなかつた。
［実施例 ２］
反応温度310℃とした他は、実施例１と同様の
装置、同様のチタン充填量にて、ガス組成物の処
理を行なつた。三弗化窒素20vol％、フロン115
80vol％の組成を有する混合ガスを９／hrの流
量にて導入し、８時間連続して処理を行なつた。
装置、同様のチタン充填量にて、ガス組成物の処
理を行なつた。三弗化窒素20vol％、フロン115
80vol％の組成を有する混合ガスを９／hrの流
量にて導入し、８時間連続して処理を行なつた。
排出ガスを経時的に分析した結果、排出ガス中
の成分は、窒素11vol％、フロン115 89vol％であ
り、三弗化窒素は検出されなかつた。
の成分は、窒素11vol％、フロン115 89vol％であ
り、三弗化窒素は検出されなかつた。
［実施例 ３］
実施例１と同様の装置、チタン充填量、実施例
２と同様の反応温度にて、ガス組成物の処理を行
なつた。
２と同様の反応温度にて、ガス組成物の処理を行
なつた。
三弗化窒素10vol％、四弗化ケイ素0.5vol％、
ヘリウム89.5vol％の組成を有する混合ガスを18
／hrの流量にて導入し、８時間連続して処理を
行なつた。
ヘリウム89.5vol％の組成を有する混合ガスを18
／hrの流量にて導入し、８時間連続して処理を
行なつた。
排出ガスを経時的に分析した結果、排出ガス中
の成分は、窒素約５％、ヘリウム約95％であり、
三弗化窒素、及び四弗化ケイ素は検出されなかつ
た。
の成分は、窒素約５％、ヘリウム約95％であり、
三弗化窒素、及び四弗化ケイ素は検出されなかつ
た。
［実施例 ４］
反応温度300℃とした他は、実施例１と同様の
装置、同様のチタン充填量にて、ガス組成物の処
理を行なつた。
装置、同様のチタン充填量にて、ガス組成物の処
理を行なつた。
三弗化窒素を希釈せず単独で1.2／hrの流量
で導入し、10時間連続して処理を行なつた。
で導入し、10時間連続して処理を行なつた。
排出ガスを経時的に分析した結果、排出ガス中
の成分は、窒素のみであり、三弗化窒素は検出さ
れなかつた。
の成分は、窒素のみであり、三弗化窒素は検出さ
れなかつた。
［実施例 ５］
反応温度310℃とした他は、実施例１と同様の
装置、同様のチタン充填量にて、ガス組成物の処
理を行なつた。三弗化窒素60vol％、二弗化二窒
素3vol％、窒素37vol％の組成を有する混合ガス
を３／hrの流量にて導入し、８時間連続して処
理を行なつた。
装置、同様のチタン充填量にて、ガス組成物の処
理を行なつた。三弗化窒素60vol％、二弗化二窒
素3vol％、窒素37vol％の組成を有する混合ガス
を３／hrの流量にて導入し、８時間連続して処
理を行なつた。
排出ガスを経時的に分析した結果、排出ガス中
の成分は窒素のみであり、三弗化窒素、二弗化二
窒素は検出されなかつた。
の成分は窒素のみであり、三弗化窒素、二弗化二
窒素は検出されなかつた。
［実施例 ６］
反応温度300℃とした他は、実施例１と同様の
装置、同様のチタン充填量にて、ガス組成物の処
理を行なつた。
装置、同様のチタン充填量にて、ガス組成物の処
理を行なつた。
三弗化窒素49vol％、弗素1vol％、弗化水素
49vol％の組成を有する混合ガスを2.4／hrの流
量にて導入し、８時間連続して処理を行なつた。
49vol％の組成を有する混合ガスを2.4／hrの流
量にて導入し、８時間連続して処理を行なつた。
排出ガスを経時的に分析した結果、排出ガス中
の成分は窒素のみであり、弗素、弗化水素及び三
弗化窒素は検出されなかつた。
の成分は窒素のみであり、弗素、弗化水素及び三
弗化窒素は検出されなかつた。
発明の効果
以上述べたように、本発明は、窒素弗化物中の
弗素をチタン弗化物として回収することにより、
きわめて効率よく、しかも簡便、安全、経済的に
窒素弗化物を処理する方法を提供するものであ
る。
弗素をチタン弗化物として回収することにより、
きわめて効率よく、しかも簡便、安全、経済的に
窒素弗化物を処理する方法を提供するものであ
る。
第１図は本発明の方法による装置の例を示す図
である。 １…チタン充填反応管、２…四弗化チタン捕集
装置、３…湿式スクラバー、４…ガス入口、５…
ガス出口、６…冷却管。
である。 １…チタン充填反応管、２…四弗化チタン捕集
装置、３…湿式スクラバー、４…ガス入口、５…
ガス出口、６…冷却管。
Claims (1)
- １ 三弗化窒素および／またはその分解物を含む
窒素弗化物を金属チタンと200℃以上の温度で接
触させ、前記窒素弗化物中の弗素をチタン弗化物
として除去することを特徴とする窒素弗化物の処
理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60125114A JPS61287424A (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 窒素弗化物の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60125114A JPS61287424A (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 窒素弗化物の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61287424A JPS61287424A (ja) | 1986-12-17 |
| JPS6348571B2 true JPS6348571B2 (ja) | 1988-09-29 |
Family
ID=14902190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60125114A Granted JPS61287424A (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 窒素弗化物の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61287424A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2001304C (en) * | 1988-10-25 | 1990-04-25 | Makoto Aritsuka | Method for purifying nitrogen trifluoride gas |
| JPH03202128A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-03 | Ebara Res Co Ltd | Ｎｆ↓３の除害方法 |
| JPH0798648B2 (ja) * | 1990-01-10 | 1995-10-25 | セントラル硝子株式会社 | Ｎｆ３ガスの精製方法 |
| US5401473A (en) * | 1990-07-09 | 1995-03-28 | Daidousanso Co., Ltd. | Method and apparatus for treatment of NF3 gas |
| US5176889A (en) * | 1990-07-09 | 1993-01-05 | Daidousanso Co., Ltd. | Method and apparatus for treatment of NF3 gas |
| GB0418125D0 (en) * | 2004-08-13 | 2004-09-15 | Boc Group Plc | Treatment of effluent gases |
| US9833837B2 (en) | 2013-06-20 | 2017-12-05 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Passivation and alloying element retention in gas atomized powders |
-
1985
- 1985-06-11 JP JP60125114A patent/JPS61287424A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61287424A (ja) | 1986-12-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6348571B2 (ja) | ||
| JP2003530987A (ja) | フッ素ガスを含む半導体製造排出物を削減するための装置および方法 | |
| JP4080336B2 (ja) | フッ素含有化合物の分解 | |
| WO2003069228A1 (fr) | Procede de traitement de gaz d'echappement | |
| JPH0669499B2 (ja) | フロン類の分解方法 | |
| JPS6348570B2 (ja) | ||
| KR100830843B1 (ko) | 알칼리용융염을 이용한 할로겐화 휘발성 유기화합물의처리방법 | |
| JPH06178914A (ja) | 排ガス処理装置 | |
| JPH0716583B2 (ja) | フッ化塩素を含む排ガスの乾式処理方法 | |
| JPS6312322A (ja) | 排ガス処理方法 | |
| JP3188830B2 (ja) | Ｎｆ３排ガスの除害方法及び除害装置 | |
| JPH0365218A (ja) | 三フッ化窒素の除害方法 | |
| JPH10314934A (ja) | 表面処理方法 | |
| JPS62225228A (ja) | 窒素弗化物の処理法 | |
| JPH09205272A (ja) | 表面処理方法及びその装置 | |
| JP2002255558A (ja) | フッ化物の酸化物転換方法 | |
| JPH05261247A (ja) | 三フッ化窒素の除害方法 | |
| JP3216868B2 (ja) | ハロゲン化物ガスの分解方法 | |
| JPS6252277B2 (ja) | ||
| JP2681034B2 (ja) | フロンの無害化方法 | |
| JP2728926B2 (ja) | 窒素弗化物含有排ガスの処理方法 | |
| JPH10216479A (ja) | 三弗化窒素ガスの除害方法 | |
| JPS5942022A (ja) | 廃オゾン処理方法 | |
| JPH0365219A (ja) | 三フッ化窒素含有ガスの除害方法 | |
| JP4086918B2 (ja) | 強誘電体薄膜処理排ガスの除害処理方法 |