JPS63448A - 金属帯の表面処理におけるガスワイピングノズル - Google Patents

金属帯の表面処理におけるガスワイピングノズル

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JPS63448A
JPS63448A JP14146686A JP14146686A JPS63448A JP S63448 A JPS63448 A JP S63448A JP 14146686 A JP14146686 A JP 14146686A JP 14146686 A JP14146686 A JP 14146686A JP S63448 A JPS63448 A JP S63448A
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gas
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molten metal
wiping
ion implantation
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JP14146686A
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Shuichi Takei
武井 秀一
Masaya Tsutsumi
堤 正也
Katsuhiko Yui
湯井 勝彦
Kazuhiko Fukutani
和彦 福谷
Katsushi Saito
斉藤 勝士
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Nippon Steel Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、金属帯の溶融めっ3金属または浸漬型化学
処理液の付着量を制御する金属帯の表面処理におけるガ
スワイピングノズルに関する。
(従来の技術) 従来より、金属grf’9へ溶融斬鉛めっきを行なう場
合や、溶融めっきあるいは電気めっき後その他で浸vL
J!!化学処理を行なう場合には、ガスワイピング装置
により溶融金属や化学処理液の付着量を制御している・ 第2図はガスワイピングノズルを用いた溶融めっき装置
の概略図である0図面において、鋼板Sはスナウト11
を通ってめっき浴1に侵り、ボットロール!2に巻き付
き、方向を変え、めっき浴面2より立ち上る。その立ち
上がり詩には、図面に示すように必要付着量4よりもか
なり多量のめっき金属3を引き]二げてしまう、そこで
、ポンプ13より圧縮して送られてきたワイピングガス
はガス溜り14を経て、ワイピングノズル16のノズル
噴出口17より噴出し、これが鋼板Sによって引き上げ
られた溶融金属3をそぎ落し、必要金属付77量4が得
られる。ワイピングガスとしては、空気や窒素が用いら
れている。
(光す1が解決しようとする問題点) このようなガスワイピング装置においては、ワイピング
ノズルのガス噴出口が、溶融金属あるいは化学処理液の
飛沫によって部分的に[I詰りを起す、第3図は従来の
ワイピングノズル先端部側面図であり、ノズル16の内
壁18は溶融金属7等が付着して[1詰りを起こした状
態を示している。目詰りにより局部的にガス噴出賃が減
少し、めっき金属や化学処理液の付着量が部分的に過多
になってしまうという不具合が生ずる。
通常、ナイフ、ヘラ状の用具を用いてノズル噴出口の部
分的な目詰りを取り除くが、この作業拳操作の間に通過
した金属帯は十分にワイピングされない、この結果、製
品は外観および付着量について不合格品となり、生産性
および経済性の面で大さな問題となっていた。また、高
温の溶融金属がノズル本体に付着し、ノズル金属と合金
化反応を起こして固着すると、その除去に多大な労力と
時間が必要になり、さらには手入れによって合金化部分
を取り除く際にノズル本体にまで傷が入ってしまうとい
う問題もあった。
従来これらの問題点の解決方法として、ノズルの本体を
セラミックスで製作するという事が考えられた。これは
セラミックスは溶融金属や化学処理液に対する“濡れ性
”が悪く、一旦付着しても溶融金属や化学処理液をはじ
き、ノズルから噴出するガスによって取り除くことがで
きるという考えに基づいている。しかし、セラミックス
製のノズルは非常に高価であり、十分な対策とはいえな
かった。また、部分的にセラミックスを張り合わせる方
法も考えられた。しかし、ノズル本体の鉄とセラミック
スの熱膨張率の差などから、しばしばセラミックス部に
クラックが入り、さらにガス圧力によってクラックが成
長し1割れが生じてしまい、この方法もまた十分な対策
たり得なかった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、ノズル噴出口に付着して11詰りを起こす溶
融金属や化学処理液が、ノズルからの噴出ガスで容易に
取り除ける程濡れ性が低く(液や溶融金属をはじく)、
かつ溶融めっき浴上などの環境によっても破壊を受けず
に長期間安定して使用することができるワイピングノズ
ルを得ることを目的としている。
(問題点を解決するための手段) この発明に係るワイピング装置は、通常の鉄製のワイピ
ングノズルのガス噴出「1近傍のガス流路壁面および上
下外面に、イオン打ち込み処理を行なっている。また、
注入するイオンは窒素、ホウ素、炭素、ケイ素等といっ
た元十の一種または二種以りを用いることができる。
(作用) イオン注入することにより内外壁最表層がセラミックス
化し、濡れ性が大幅に低減する。したがって、ノズル噴
出【]に溶融金属や化学処理液が一口、付着してもこれ
らをはじき、ノズルからの噴出ガスによって容易に取り
除かれる。また、セラミックス化するのは金属のごく最
表層であるため、ワイピングノズルの通常の使用環境に
おいては1表面にクラックは生じない。
(実施例) 以下、第1図を参照してこの発明の一実施例について説
明する。
ワイピングノズル1Bは、ノズル噴出口17近傍の壁面
18に窒素、ホウ素をイオン打ち込み21している。イ
オン打ち込みは通常の方法で行なわれる。
すなわち、イオン源で発生したイオンビームをノズル噴
出[117近傍の壁面18に衝突させ、イオン打ち込み
を行なう。
上記のようにイオン打ち込み21を行なったノズル18
では、一旦ノズル噴出口17に付着した溶融金属は最表
層がセラミックス化した内外壁18にはじかれ、工状6
になり、噴出ガスGによって取り除かれる。
この実施例のイオン注入処理条件を第1表の実施例1に
示す、なお、その他の実施例を実施例2として併記した
第  1  表 本実施例においては、打ち込み元素として、窒素、ホウ
素を取り]二げたが、炭素、ケイ素等でも同様の効果が
得られる。
(発明の効果) 以上のように、この発明によればワイピングノズルのノ
ズル噴出口近傍の内外壁にイオン注入処理を行なったの
で、噴出口近傍の内外壁はセラミックス化して濡れ性が
大幅に低減する。したがって、ノズル噴出口に目詰りを
生じることはなく、長時間連続して表面処理装置を辻転
することができるので、生産性は向上する。また、セラ
ミックス製ノズルに比べて安価なワイピングノズルが得
られる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発IIの一実施例を示すもので、ワイピン
グノズルの側面図、第2図は溶融めっき装置の概略図、
および第3図は従来のガスワイピングノズルの側面図で
ある。 !・・・めっき浴、3・・・引き」二げられた溶融金属
。 5.7・・・溶融金属、1B・・・ワイピングノズル、
17・・・ノズル噴出口、18・・・ノズル噴出口の内
外壁、21・・・イオン打ち込み、S・・・銅帯。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)浸漬によって金属帯に付着した溶融金属または化
    学処理液の付着量を制御するガスワイピング装置におい
    て、ノズル本体のガス噴出口先端部の表面にイオン打ち
    込みを行なったことを特徴とする金属帯の表面処理にお
    けるガスワイピングノズル。
  2. (2)前記イオン打ち込みの元素が炭素、窒素、ホウ素
    、およびケイ素のうちの一種または二種以上である特許
    請求の範囲第1項記載の金属帯の表面処理におけるガス
    ワイピングノズル。
JP14146686A 1986-06-19 1986-06-19 金属帯の表面処理におけるガスワイピングノズル Expired - Lifetime JPH0617560B2 (ja)

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