JPS6343252A - 電子ビ−ムプロ−ビング装置 - Google Patents
電子ビ−ムプロ−ビング装置Info
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- JPS6343252A JPS6343252A JP18524986A JP18524986A JPS6343252A JP S6343252 A JPS6343252 A JP S6343252A JP 18524986 A JP18524986 A JP 18524986A JP 18524986 A JP18524986 A JP 18524986A JP S6343252 A JPS6343252 A JP S6343252A
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- electron beam
- electron
- electric field
- electrons
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- Pending
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 15
- 230000010287 polarization Effects 0.000 abstract 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔目 次〕
・概要
・ 産業上の利用分野
・ 従来の技術
・ 発明が解決しようとする問題点
・ 問題点を解決するための手段
・作用
・ 実施例
・ 発明の効果
〔概 要〕
電子ビーム照射軸に関し対称位置に複数の２次電子検出
器を設け、該電子ビーム照射軸上に電子ビーム貫通孔を
有する２次電子偏向用の電界分布調整電極を配置して照
射軸方向に散乱する２次電子を２次電子検出器方向に偏
向させた電子ビームプロービング装置。
器を設け、該電子ビーム照射軸上に電子ビーム貫通孔を
有する２次電子偏向用の電界分布調整電極を配置して照
射軸方向に散乱する２次電子を２次電子検出器方向に偏
向させた電子ビームプロービング装置。
本発明は、ＬＳＩ等の試料上に電子ビームを照射し、そ
の２次電子を検出して試料の検査、試験等を非接触で行
なう電子ビームプロービングＨＨに関する。
の２次電子を検出して試料の検査、試験等を非接触で行
なう電子ビームプロービングＨＨに関する。
従来の電子ビームプロービング装置の構成を第２図に示
す。対物レンズ６を通して電子ビーム（１次電子）■が
照射され試料（例えばＬＳＩ等の半導体素子）４を走査
する。電子ビームが試料・ｔに入射するとこの試料４か
ら２次電子２が放射散乱する。３はエネルギー分析器の
グリッドである。試料４と対物レンズ６との間の所定の
位置に１つの２次電子検出器５が設けられ、試料４から
の２次電子が検出される。
す。対物レンズ６を通して電子ビーム（１次電子）■が
照射され試料（例えばＬＳＩ等の半導体素子）４を走査
する。電子ビームが試料・ｔに入射するとこの試料４か
ら２次電子２が放射散乱する。３はエネルギー分析器の
グリッドである。試料４と対物レンズ６との間の所定の
位置に１つの２次電子検出器５が設けられ、試料４から
の２次電子が検出される。
このような従来の電子ビームプロービング装置において
は、１つの２次電子検出器により試料４から全周囲に散
乱する２次電子を捕えて検出するため、２次電子検出器
の取付位置あるいは試料４の配置状態により２次電子の
検出結果にパラつきが生ずるという問題があった。
は、１つの２次電子検出器により試料４から全周囲に散
乱する２次電子を捕えて検出するため、２次電子検出器
の取付位置あるいは試料４の配置状態により２次電子の
検出結果にパラつきが生ずるという問題があった。
上記問題点を解消するため、本願発明者は電子ビーム照
射軸に関し対称位置に複数の２次電子検出器を設けた電
子ビームプロービング装置を既に提案している。この改
良された電子ビームプロービング装置を第３図に示す。
射軸に関し対称位置に複数の２次電子検出器を設けた電
子ビームプロービング装置を既に提案している。この改
良された電子ビームプロービング装置を第３図に示す。
この例では、電子ビーム照射軸に関し対称位置に２つの
２次電子検出器５が設けられている。その他の構成、作
用は第２図の従来例と同様である。このような構成によ
り検出器の取付位置等に基く検出値のバラつき等の問題
を改善することができた。
２次電子検出器５が設けられている。その他の構成、作
用は第２図の従来例と同様である。このような構成によ
り検出器の取付位置等に基く検出値のバラつき等の問題
を改善することができた。
前記複数の２次電子検出器５を設けた構成においては、
１次電子１の照射軸に沿ってほぼ逆方向に垂直上方に放
散する２次電子２′ （第２図）は両側の２次電子検出
器５からほぼ等しい電界作用を受けいずれの検出器にも
揃えられずに外部に散乱してしまい、検出信号レベルが
低下するという問題があった。
１次電子１の照射軸に沿ってほぼ逆方向に垂直上方に放
散する２次電子２′ （第２図）は両側の２次電子検出
器５からほぼ等しい電界作用を受けいずれの検出器にも
揃えられずに外部に散乱してしまい、検出信号レベルが
低下するという問題があった。
本発明は、上記先行技術の問題点に鑑みなされたもので
あって、複数の２次電子検出器を配設した電子ビームプ
ロービング装置において、１次電子の照射軸方向に沿っ
て散乱する２次電子を確実に揃え検出信号レベルの低下
を防止することである。
あって、複数の２次電子検出器を配設した電子ビームプ
ロービング装置において、１次電子の照射軸方向に沿っ
て散乱する２次電子を確実に揃え検出信号レベルの低下
を防止することである。
前記目的を達成するため、本発明では、検査すべき試料
上に電子ビームを照射し、該試料から放射散乱する２次
電子を２次電子検出器により検出する電子ビームプロー
ビング装置において、前記２次電子検出器を電子ビーム
照射軸に関し対称位置に複数個設け、２次電子偏向用の
電界分布調整電極を該電子ビーム照射軸近傍に設けたこ
とを特徴とする。
上に電子ビームを照射し、該試料から放射散乱する２次
電子を２次電子検出器により検出する電子ビームプロー
ビング装置において、前記２次電子検出器を電子ビーム
照射軸に関し対称位置に複数個設け、２次電子偏向用の
電界分布調整電極を該電子ビーム照射軸近傍に設けたこ
とを特徴とする。
試料から電子ビーム照射軸に沿って照射方向と逆方向に
発散する２次電子は電子ビーム照射軸近傍に設けた電界
分布調整電極により２次電子検出器の方向に偏向され２
次電子検出器に捕獲され検出される。
発散する２次電子は電子ビーム照射軸近傍に設けた電界
分布調整電極により２次電子検出器の方向に偏向され２
次電子検出器に捕獲され検出される。
第１図は本発明に係る電子ビームプロービング装置の構
成図である。第３図の先行技術装置と同−又は対応する
部分には同一の番号を付して説明を省略する。試料４と
対物レンズ６間の電子ビーム照射軸上には、中央に１次
電子の貫通孔８を有する電界分布調整電極７が設けられ
る。電界分布調整電極７は可変電源９に接続される。１
次電子（電子ビーム）１は対物レンズ６から貫通孔８を
通して試料４上に照射される。照射軸に沿って照射方向
と逆方向にほぼ垂直上方に発散する２次電子２は負電位
を印加された電界分布調整電極７により横方向に偏向さ
れ各２次電子検出器５に捕獲される。電界分布調整電極
７は、中央に電子ビーム貫通孔を有する円板形状又は円
錐形状であることが好ましいが、これに限らず適当な形
状の電極を電子ビーム照射軸近傍の２次電子を偏向可能
を位置に設けておけばよい。
成図である。第３図の先行技術装置と同−又は対応する
部分には同一の番号を付して説明を省略する。試料４と
対物レンズ６間の電子ビーム照射軸上には、中央に１次
電子の貫通孔８を有する電界分布調整電極７が設けられ
る。電界分布調整電極７は可変電源９に接続される。１
次電子（電子ビーム）１は対物レンズ６から貫通孔８を
通して試料４上に照射される。照射軸に沿って照射方向
と逆方向にほぼ垂直上方に発散する２次電子２は負電位
を印加された電界分布調整電極７により横方向に偏向さ
れ各２次電子検出器５に捕獲される。電界分布調整電極
７は、中央に電子ビーム貫通孔を有する円板形状又は円
錐形状であることが好ましいが、これに限らず適当な形
状の電極を電子ビーム照射軸近傍の２次電子を偏向可能
を位置に設けておけばよい。
Ｃ発明の効果〕
以上説明したように、本発明に係る電子ビームプロービ
ング装置においては、電子ビーム照射軸に関し対称位置
に複数個の２次電子検出器を設けるとともに電子ビーム
照射軸近傍に２次電子偏向用の電界分布調整電極を設は
複数の２次電子検出器の電子捕獲力が相殺される各検出
器対称軸位置、即ち電子ビーム照射軸近傍の２次電子を
検出器方向に偏向させて検出している。従って、検査す
べき試料からの２次電子は確実に検出され複数の検出器
を配設した場合における２次電子検出信号レベルの低下
を防止できる。
ング装置においては、電子ビーム照射軸に関し対称位置
に複数個の２次電子検出器を設けるとともに電子ビーム
照射軸近傍に２次電子偏向用の電界分布調整電極を設は
複数の２次電子検出器の電子捕獲力が相殺される各検出
器対称軸位置、即ち電子ビーム照射軸近傍の２次電子を
検出器方向に偏向させて検出している。従って、検査す
べき試料からの２次電子は確実に検出され複数の検出器
を配設した場合における２次電子検出信号レベルの低下
を防止できる。
第１図は本発明に係る電子ビームプロービング装置の構
成図、第２図は従来技術の構成説明図、第３図は本発明
者による先行技術の構成説明図である。 １・・・１次電子、 ２・・・２次電子、４・・・試
料、 ５・・・２次電子検出器、７・・・電界分
布調整電極。 本発明の構成説明図 １・・・１次電子 ２゛°２次電子 ４・・・試料 ５゛°°２次電子検出器 ７・・・電界分布誠整電極
成図、第２図は従来技術の構成説明図、第３図は本発明
者による先行技術の構成説明図である。 １・・・１次電子、 ２・・・２次電子、４・・・試
料、 ５・・・２次電子検出器、７・・・電界分
布調整電極。 本発明の構成説明図 １・・・１次電子 ２゛°２次電子 ４・・・試料 ５゛°°２次電子検出器 ７・・・電界分布誠整電極
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、検査すべき試料（４）上に電子ビーム（１）を照射
し、該試料（４）から放射散乱する２次電子（２）を２
次電子検出器（５）により検出する電子ビームプロービ
ング装置において、前記２次電子検出器を電子ビーム照
射軸に関し対称位置に複数個設け、２次電子偏向用の電
界分布調整電極（７）を該電子ビーム照射軸近傍に設け
たことを特徴とする電子ビームプロービング装置。 ２、前記電界分布調整電極（７）は、中央に電子ビーム
貫通孔（８）を有する実質上円板又は円錐形状であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子ビーム
プロービング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18524986A JPS6343252A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 電子ビ−ムプロ−ビング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18524986A JPS6343252A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 電子ビ−ムプロ−ビング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6343252A true JPS6343252A (ja) | 1988-02-24 |
Family
ID=16167501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18524986A Pending JPS6343252A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 電子ビ−ムプロ−ビング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6343252A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63255140A (ja) * | 1987-12-15 | 1988-10-21 | Tokyo Isuzu Jidosha Kk | コンテナのスライド積替え装置 |
| JPH02280071A (ja) * | 1989-03-21 | 1990-11-16 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 電子ビームを用いたテスト・システム及び方法 |
-
1986
- 1986-08-08 JP JP18524986A patent/JPS6343252A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63255140A (ja) * | 1987-12-15 | 1988-10-21 | Tokyo Isuzu Jidosha Kk | コンテナのスライド積替え装置 |
| JPH0323381B2 (ja) * | 1987-12-15 | 1991-03-28 | Tokyo Isuzu Jidosha Kk | |
| JPH02280071A (ja) * | 1989-03-21 | 1990-11-16 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 電子ビームを用いたテスト・システム及び方法 |
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