JPS6342100A - 3値レベルrom - Google Patents
3値レベルromInfo
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- JPS6342100A JPS6342100A JP61185246A JP18524686A JPS6342100A JP S6342100 A JPS6342100 A JP S6342100A JP 61185246 A JP61185246 A JP 61185246A JP 18524686 A JP18524686 A JP 18524686A JP S6342100 A JPS6342100 A JP S6342100A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cell
- level
- output
- generation circuit
- transistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/56—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
- G11C11/5692—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency read-only digital stores using storage elements with more than two stable states
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔目 次〕
概要
産業上の利用分野
従来の技術
発明が解決しようとする問題点
問題点を解決するための手段
作用
実施例
発明の効果
〔概 要〕
3値レベルROMにおいて、3値レベルセルに接続され
るセルレベル発生回路と、中間レベルを発生する基準セ
ルレベル発生回路との間に、交差結合された1対のスイ
ッチング素子を設け、これらのスイッチング素子の両端
の電位の組合せによリ3値レベルセルの状態を判別する
ようにし、これにより、基準レベル発生回路の数を低減
したものである。
るセルレベル発生回路と、中間レベルを発生する基準セ
ルレベル発生回路との間に、交差結合された1対のスイ
ッチング素子を設け、これらのスイッチング素子の両端
の電位の組合せによリ3値レベルセルの状態を判別する
ようにし、これにより、基準レベル発生回路の数を低減
したものである。
本発明は3値レベルリードオンリメモリ (ROM)、
特に、3値レベルセルの読出しレベルのセンス回路の改
良に関する。
特に、3値レベルセルの読出しレベルのセンス回路の改
良に関する。
ROMの集積度を上げるために、多値レベルのメモリセ
ルが注目されている。このような多値レベルのメモリセ
ルの書込みは、ゲート実効幅を変化させることによりセ
ルトランジスタのg、を変化させる方法が一般的であり
、3値レベルのメモリセルであれば、第2図に示すごと
く、状態■。
ルが注目されている。このような多値レベルのメモリセ
ルの書込みは、ゲート実効幅を変化させることによりセ
ルトランジスタのg、を変化させる方法が一般的であり
、3値レベルのメモリセルであれば、第2図に示すごと
く、状態■。
n、mに対応する3種のg、すなわちget + ga
ingm3を用意しである。
ingm3を用意しである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述の3種のgsを判別するためには、従来、状態I、
IIの中間レベルのg+a(=gえ、)を有する基準セ
ル、および状6n、mの中間レベルのgm (=g*z
)を有する基準セルを設け、これらの基準セルから読出
された出力とメモリセルから読出された出力とを比較し
ていたので、基準セル自身の製造精度の問題点と共に、
回路構成が複雑となり、ROMの集積度の点で不利であ
るという問題点があった。
IIの中間レベルのg+a(=gえ、)を有する基準セ
ル、および状6n、mの中間レベルのgm (=g*z
)を有する基準セルを設け、これらの基準セルから読出
された出力とメモリセルから読出された出力とを比較し
ていたので、基準セル自身の製造精度の問題点と共に、
回路構成が複雑となり、ROMの集積度の点で不利であ
るという問題点があった。
本発明の目的は、上述の問題点に鑑み、メモリセルおよ
び基準セルの数を減少させることにより、回路構成が簡
単な3値レベルROMを提供することであり、その構成
は第1図に示される。
び基準セルの数を減少させることにより、回路構成が簡
単な3値レベルROMを提供することであり、その構成
は第1図に示される。
第1図において、セルトランジスタQのglIは、gM
l+ gvaz + gsi (第2図参照)を選択し
得、他方、基準セルトランジスタQRのg、はglであ
る。セルトランジスタQの出力はセルレベル発生回路3
により電圧■に変換され、他方、基準セルトランジスタ
Q、の出力は基準セルレベル発生回路4により基準電圧
Vえに変換される。負荷Q1とセルレベル発生回路3と
の間にはスイッチング素子Q、が接続され、負荷Q、と
基本セルレベル発生回路4との間にはスイッチング素子
Q4が接続されている。スイッチング素子Q、は基本セ
ルレベル発生回路4の出力V、によって制御され、他方
、スイッチング素子Q4はセルレベル発生回路3の出力
■によって制御される。この結果、少なくともスイッチ
ング素子Q3.Q、のノードN。
l+ gvaz + gsi (第2図参照)を選択し
得、他方、基準セルトランジスタQRのg、はglであ
る。セルトランジスタQの出力はセルレベル発生回路3
により電圧■に変換され、他方、基準セルトランジスタ
Q、の出力は基準セルレベル発生回路4により基準電圧
Vえに変換される。負荷Q1とセルレベル発生回路3と
の間にはスイッチング素子Q、が接続され、負荷Q、と
基本セルレベル発生回路4との間にはスイッチング素子
Q4が接続されている。スイッチング素子Q、は基本セ
ルレベル発生回路4の出力V、によって制御され、他方
、スイッチング素子Q4はセルレベル発生回路3の出力
■によって制御される。この結果、少なくともスイッチ
ング素子Q3.Q、のノードN。
N2の電位の論理組合せによりセルトランジスタQの状
態すなわちgイが判別される。
態すなわちgイが判別される。
上述の構成において、ノードN、、N、の電位とノード
N+、Nzの電位の関係は次のごとくなる。
N+、Nzの電位の関係は次のごとくなる。
従って、ノードN + 、 N Zの電位の論理組合せ
により状B[、n、IIIを判別できる。動作マージン
を考慮すれば、ノードN、、N、の電位にノードN3+
N4の電位を加えた論理組合せによりさらに確実に状!
c、t、II、I[[を判別できる。
により状B[、n、IIIを判別できる。動作マージン
を考慮すれば、ノードN、、N、の電位にノードN3+
N4の電位を加えた論理組合せによりさらに確実に状!
c、t、II、I[[を判別できる。
以下、図面により本発明の詳細な説明する。
第3図は本発明に係る3値レベルROMの一実施例を示
す回路図である。第3図において、1はローアドレスデ
コーダであって、ローアドレスバッファ(図示せず)か
らのローアドレス信号に応じてワード線WLO,WL+
、、、、、WL□1の1つを選択するものであり、2は
コラムアドレスデコーダであって、コラムアドレスバッ
ファ(図示せず)からのコラムアドレス信号に応じてビ
ット線B Lo、 B Ll、、、、、B L−tの1
つを選択するものである。各ワード線W L o、 W
L 1. 、、、、 W L 、、−+ と各ビット
線B LO,B Ll、、、、、B L−t との交差
する点には、セルトランジスタQ(1+l l QOI
11.、IQ、、−1−+(Nチャネル形エンハンス
メントトランジスタ)が設けられている。これらのセル
トランジスタには、前述のごと(,3種のg、が与えら
れる。このようなg、の調整、すなわちROMの書込み
は、各セルトランジスタのゲート直下の不純物(たとえ
ばB、As、P)のドープ量を変化させることにより、
具体的にはゲート実効幅Wを変化させることにより行わ
れる。
す回路図である。第3図において、1はローアドレスデ
コーダであって、ローアドレスバッファ(図示せず)か
らのローアドレス信号に応じてワード線WLO,WL+
、、、、、WL□1の1つを選択するものであり、2は
コラムアドレスデコーダであって、コラムアドレスバッ
ファ(図示せず)からのコラムアドレス信号に応じてビ
ット線B Lo、 B Ll、、、、、B L−tの1
つを選択するものである。各ワード線W L o、 W
L 1. 、、、、 W L 、、−+ と各ビット
線B LO,B Ll、、、、、B L−t との交差
する点には、セルトランジスタQ(1+l l QOI
11.、IQ、、−1−+(Nチャネル形エンハンス
メントトランジスタ)が設けられている。これらのセル
トランジスタには、前述のごと(,3種のg、が与えら
れる。このようなg、の調整、すなわちROMの書込み
は、各セルトランジスタのゲート直下の不純物(たとえ
ばB、As、P)のドープ量を変化させることにより、
具体的にはゲート実効幅Wを変化させることにより行わ
れる。
ローアドレスデコーダ1によって1つのワード線たとえ
ばWLoが選択され、またコラムアドレスデコーダ2に
よって1つのビット線たとえばBL、が選択されると、
セルトランジスタQ0゜が選択され、セルレベル発生回
路3を介してセルトランジスタQ0゜に流れる。この結
果、ビット線BLOの電位は、セルトランジスタQ。。
ばWLoが選択され、またコラムアドレスデコーダ2に
よって1つのビット線たとえばBL、が選択されると、
セルトランジスタQ0゜が選択され、セルレベル発生回
路3を介してセルトランジスタQ0゜に流れる。この結
果、ビット線BLOの電位は、セルトランジスタQ。。
のg、hに応じた値がセンスアンプ5に供給される。他
方、QRは基準セルであって、そのg、は中間レベルg
、!(第2図参照)に調整されているものである。
方、QRは基準セルであって、そのg、は中間レベルg
、!(第2図参照)に調整されているものである。
基準セルレベル発生回路4を介して発生された基準セル
QRの電位■えもまたセンスアンプ5に供給される。な
お、セルレベル発生回路3および基準セルレベル発生回
路4は具体的には負荷回路である。
QRの電位■えもまたセンスアンプ5に供給される。な
お、セルレベル発生回路3および基準セルレベル発生回
路4は具体的には負荷回路である。
セルレベル発生回路3の出力電圧■および基準セルレベ
ル発生回路4の基準電圧VIIはセンスアンプ5に供給
されると共にデコーダ6に供給される。デコーダ6はセ
ンスアンプ5からの出力および回路3.4の出力■、■
えに応じて選択されたセルトランジスタQ0゜のg、す
なわち状E1.I[。
ル発生回路4の基準電圧VIIはセンスアンプ5に供給
されると共にデコーダ6に供給される。デコーダ6はセ
ンスアンプ5からの出力および回路3.4の出力■、■
えに応じて選択されたセルトランジスタQ0゜のg、す
なわち状E1.I[。
■を判別して3出力(0゜、0..0□)を発生する。
なお、これらの出力は、(1、0、O)のときに状態1
(g−+)を示し、(0、1、0)のときに状態U
(g@z)を示し、(0,0,1)のときに状態11
1(g−x)を示す。
(g−+)を示し、(0、1、0)のときに状態U
(g@z)を示し、(0,0,1)のときに状態11
1(g−x)を示す。
次に、センスアンプ5およびデコーダ6について第4図
を参照して詳しく説明する。センスアンプ5は、負荷と
してのPチャネル形トランジスタQ+、Qz、およびス
イッチング素子としてのNチャネル形トランジスタQ3
.Qaを具備している。なお、トランジスタQ、、Q、
は、ドレイン−ゲート接続されたNチャネル形エンハン
スメントトランジスタあるいはソース−ゲート接続され
たNチャネル形デプレフショントランジスタでもよい。
を参照して詳しく説明する。センスアンプ5は、負荷と
してのPチャネル形トランジスタQ+、Qz、およびス
イッチング素子としてのNチャネル形トランジスタQ3
.Qaを具備している。なお、トランジスタQ、、Q、
は、ドレイン−ゲート接続されたNチャネル形エンハン
スメントトランジスタあるいはソース−ゲート接続され
たNチャネル形デプレフショントランジスタでもよい。
トランジスタQ、は負荷トランジスタQ、とセルレベル
発生回路3との間に接続され、基準セルレベル発生回路
4の出力■えによって制御され、他方、トランジスタQ
4は負荷トランジスタQ2と基準セルレベル発生回路4
との間に接続され、セルレベル発生回路3の出力Vによ
って制御される。たとえば、選択されたセルトランジス
タのglが小さい場合(g、”g□)、セルレベル発生
回路3の出力■はハイレベル電位■工(>Vえ)となり
、従って、トランジスタQ3はオフ、トランジスタQ4
はオンとなる。この結果、ノードNlの電位はハイレベ
ル(VCC) 、ノードN2の電位はローレベル(=v
q4)となる。また、選択されたセルトランジスタのg
、が中間レベルの場合(g、=g、り、セルレベル発生
回路3の出力■は基準セルレベル発生回路4の出力v8
と同電位となり、従って、トランジスタQ3.Q、は共
にオフとなる。
発生回路3との間に接続され、基準セルレベル発生回路
4の出力■えによって制御され、他方、トランジスタQ
4は負荷トランジスタQ2と基準セルレベル発生回路4
との間に接続され、セルレベル発生回路3の出力Vによ
って制御される。たとえば、選択されたセルトランジス
タのglが小さい場合(g、”g□)、セルレベル発生
回路3の出力■はハイレベル電位■工(>Vえ)となり
、従って、トランジスタQ3はオフ、トランジスタQ4
はオンとなる。この結果、ノードNlの電位はハイレベ
ル(VCC) 、ノードN2の電位はローレベル(=v
q4)となる。また、選択されたセルトランジスタのg
、が中間レベルの場合(g、=g、り、セルレベル発生
回路3の出力■は基準セルレベル発生回路4の出力v8
と同電位となり、従って、トランジスタQ3.Q、は共
にオフとなる。
この結果、ノードN、、N、の電位は共にハイレベル(
Vcc)となる。さらに、選択されたセルトランジスタ
のg、が大きい場合(g a ”” g 1113)
、セルレベル発生回路3の出力■はローレベル電位■。
Vcc)となる。さらに、選択されたセルトランジスタ
のg、が大きい場合(g a ”” g 1113)
、セルレベル発生回路3の出力■はローレベル電位■。
(く■え)となり、従って、トランジスタQ3はオン、
トランジスタQ、はオフとなる。この結果、ノードN
、の電位はローレベル(=■N3)、ノードN2の電位
はハイレベル(V cc)となる。
トランジスタQ、はオフとなる。この結果、ノードN
、の電位はローレベル(=■N3)、ノードN2の電位
はハイレベル(V cc)となる。
デコーダ6は、出力O0を発生するための差動アンプ6
1およびインバータ62 、63 、64と、出力0□
を発生するための差動アンプ65およびインバータ66
、67 、68と、出力O2を発生するためのノア回
路69およびインバータ70 、71とを具備している
。
1およびインバータ62 、63 、64と、出力0□
を発生するための差動アンプ65およびインバータ66
、67 、68と、出力O2を発生するためのノア回
路69およびインバータ70 、71とを具備している
。
たとえば、選択されたセルトランジスタのglが小さい
場合(g、=g□)、セルレベル発生回路3の出力■(
ノードN3)はハイレベル電位■。
場合(g、=g□)、セルレベル発生回路3の出力■(
ノードN3)はハイレベル電位■。
であり、他方、ノードN2の電位はローレベルであるの
で、差動アンプ61の出力はローレベル、従って、イン
バータ64の出力はハイレベル(0゜=“11)となる
。他方、基準セルレベル発生回路4の出力Vl (ノ
ードN、)に比べてノードN。
で、差動アンプ61の出力はローレベル、従って、イン
バータ64の出力はハイレベル(0゜=“11)となる
。他方、基準セルレベル発生回路4の出力Vl (ノ
ードN、)に比べてノードN。
の電位はローレベルとなるので、差動アンプ65の出力
はハイレベル、従って、インバータ68の出力はローレ
ベル(Oz=″0”)となり、また、インバータ62の
出力はハイレベルであるので、ノア回路69の出力はロ
ーレベルとなり、従って、インバータ71の出力はロー
レベル(0,=“0”)となる。つまり、出力(0゜、
0□02)は(1、0、0)となる。
はハイレベル、従って、インバータ68の出力はローレ
ベル(Oz=″0”)となり、また、インバータ62の
出力はハイレベルであるので、ノア回路69の出力はロ
ーレベルとなり、従って、インバータ71の出力はロー
レベル(0,=“0”)となる。つまり、出力(0゜、
0□02)は(1、0、0)となる。
また、選択されたセルトランジスタのg、が中間レベル
の場合(gm = gmt”) 、セルレベル発生回路
3の出力■(ノードN3)は基準電位■えであり、他方
、ノードN2の電位はハイレベル(Vcc)となるので
、差動アンプ61の出力はハイレベル、従って、インバ
ータ64の出力はローレベル(0゜=“0゛)となる。
の場合(gm = gmt”) 、セルレベル発生回路
3の出力■(ノードN3)は基準電位■えであり、他方
、ノードN2の電位はハイレベル(Vcc)となるので
、差動アンプ61の出力はハイレベル、従って、インバ
ータ64の出力はローレベル(0゜=“0゛)となる。
同様に、差動アンプ65の出力はハイレベル、従って、
インバータ68の出力はローレベル(02=“0”)と
なる。従って、インバータ62 、66の出力は共にロ
ーレベルであるので、ノア回路69の出力はハイレベル
となり、従って、インバータ71の出力はハイレベル(
0゜−“1”)となる、つまり、出力(Oo、 O+
、 Oz)は(0、1、0)となる。
インバータ68の出力はローレベル(02=“0”)と
なる。従って、インバータ62 、66の出力は共にロ
ーレベルであるので、ノア回路69の出力はハイレベル
となり、従って、インバータ71の出力はハイレベル(
0゜−“1”)となる、つまり、出力(Oo、 O+
、 Oz)は(0、1、0)となる。
さらに、選択されたセルトランジスタのglが大きい場
合(gm =g、+) 、セルレベル発生回路3の出力
■(ノードNl)はローレベル電位■、であり、他方、
ノードN2の電位はハイレベル(Vcc)であるので、
差動アンプ61の出力はハイレベル、従って、インバー
タ64の出力はローレベル(○。=“0”)となる。他
方、基準セルレベル発生回路4の出力V*(ノードN4
)に比べてノードN1の電位はローレベルとなるので、
差動アンプ65の出力はローレベル、従って、インバー
タ68の出力はハイレベル(02=″1″)となる。ま
た、インバータ66の出力はハイレベルであるので、ノ
ア回路69の出力はローレベルとなり、従って、インバ
ータ71の出力はローレベル(o1=″0”)となる。
合(gm =g、+) 、セルレベル発生回路3の出力
■(ノードNl)はローレベル電位■、であり、他方、
ノードN2の電位はハイレベル(Vcc)であるので、
差動アンプ61の出力はハイレベル、従って、インバー
タ64の出力はローレベル(○。=“0”)となる。他
方、基準セルレベル発生回路4の出力V*(ノードN4
)に比べてノードN1の電位はローレベルとなるので、
差動アンプ65の出力はローレベル、従って、インバー
タ68の出力はハイレベル(02=″1″)となる。ま
た、インバータ66の出力はハイレベルであるので、ノ
ア回路69の出力はローレベルとなり、従って、インバ
ータ71の出力はローレベル(o1=″0”)となる。
つまり、出力(0゜、0.0□)は(0,0,1)とな
る。
る。
なお、デコーダ6は、第4図に図示するもの外、ノード
N、、N、のみの電位の論理組合せによっても達成でき
る。
N、、N、のみの電位の論理組合せによっても達成でき
る。
以上説明したように本発明によれば、基準セルの数を減
少でき、従って、回路構成を筒略化でき、集積度の向上
に役立つものである。
少でき、従って、回路構成を筒略化でき、集積度の向上
に役立つものである。
第1図は本発明の基本構成を示す回路図、第2図はセル
状態を示すグラフ、 第3図は本発明に係る3値レベルROMの一実施例を示
す回路図、 第4図は第3図のセンスアンプおよびデコーダの詳細な
回路図である。 1:ローアドレスデコーダ、 2:コラムアドレスデコーダ、 3:セルレベル発生回路、 4:基準セルレベル発生回路、 5:センスアンプ、 6:デコーダ、WLO,W
L+、、、、 :ワード線、B L、、 B L、、
、、、 :ビット線、Qo。、Qo、、090.セル
トランジスタ、Qpo 、 Qp、 、 、、、:負荷
トランジスタ。
状態を示すグラフ、 第3図は本発明に係る3値レベルROMの一実施例を示
す回路図、 第4図は第3図のセンスアンプおよびデコーダの詳細な
回路図である。 1:ローアドレスデコーダ、 2:コラムアドレスデコーダ、 3:セルレベル発生回路、 4:基準セルレベル発生回路、 5:センスアンプ、 6:デコーダ、WLO,W
L+、、、、 :ワード線、B L、、 B L、、
、、、 :ビット線、Qo。、Qo、、090.セル
トランジスタ、Qpo 、 Qp、 、 、、、:負荷
トランジスタ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、電源端子手段(Vcc)と、 3値レベルセル(Q_0_0、...)に選択的に接続
されるセルレベル発生回路(3)と、 前記3値レベルセルの中間レベルを発生する基準セルレ
ベル発生回路(4)と、 前記電源端子手段(Vcc)に接続された第1、第2の
負荷(Q_1、Q_2)と、 該第1の負荷と前記セルレベル発生回路の出力との間に
接続され、前記基準セルレベル発生回路の出力によって
制御される第1のスイッチング素子(Q_3)と、 前記第2の負荷と前記基準セルレベル発生回路の出力と
の間に接続され、前記セルレベル発生回路の出力によっ
て制御される第2のスイッチング素子(Q_4)と、 を具備し、少なくとも前記各第1、第2のスイッチング
素子の電位(N_1、N_2)の論理組合せにより前記
3値レベルセルの状態を判別するようにした3値レベル
ROM。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61185246A JPS6342100A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 3値レベルrom |
EP87307026A EP0257891B1 (en) | 1986-08-08 | 1987-08-07 | Read only memory device |
US07/082,696 US4809224A (en) | 1986-08-08 | 1987-08-07 | Read only memory device with memory cells each storing one of three states |
DE8787307026T DE3783100T2 (de) | 1986-08-08 | 1987-08-07 | Festwertspeicheranordnung. |
KR1019870008694A KR900008636B1 (ko) | 1986-08-08 | 1987-08-08 | 각각이 3상태중 하나를 기억하는 메모리셀을 갖춘 판독전용기억(rom)장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61185246A JPS6342100A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 3値レベルrom |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6342100A true JPS6342100A (ja) | 1988-02-23 |
JPH053080B2 JPH053080B2 (ja) | 1993-01-13 |
Family
ID=16167446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61185246A Granted JPS6342100A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 3値レベルrom |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4809224A (ja) |
EP (1) | EP0257891B1 (ja) |
JP (1) | JPS6342100A (ja) |
KR (1) | KR900008636B1 (ja) |
DE (1) | DE3783100T2 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPH02260298A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | 不揮発性多値メモリ装置 |
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