JPS6340308A - 磁束平衡法用トランス - Google Patents

磁束平衡法用トランス

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JPS6340308A
JPS6340308A JP61184489A JP18448986A JPS6340308A JP S6340308 A JPS6340308 A JP S6340308A JP 61184489 A JP61184489 A JP 61184489A JP 18448986 A JP18448986 A JP 18448986A JP S6340308 A JPS6340308 A JP S6340308A
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JP
Japan
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transformer
magnetic flux
hall element
insulating substrate
magnetic
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JP61184489A
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Satoru Inagi
稲木 覚
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Tamura Corp
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Tamura Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明C才磁束平衡法を利用する装置に使用される磁束
平衡法用トランスに関する。
(従来技術およびその問題点) 磁束平衡法とは、コイルもしくはトランスの磁束を外部
回路からコイルへ励磁を行うことにより零となるように
制褌することを言い、その応用により絶縁アンプ、磁気
センサ等を構成することができる。
しかして、このような磁束平衡法に用いられるトランス
は、動作がバランスしている定常状態においては磁束が
零であり、また、過渡状態ではその極性が明確に検出で
きろ機能を有していることが必要である。
従来、このようなトランスを構成する場合、分割ボビン
等を使用し、1次コイルと2次コイルとを絶縁し、鉄芯
の磁路の途中にギャップを設け、そこにホール素子を挿
入するといった構成がとられていた。
そのため、形状が大型であり、ハイブリッドIC等に高
密度実装するといったことが困難であり、ひいては応用
範囲が限られてくるといった欠点があった。
(問題点を解決するための手段) 本発明は上記の点に鑑み提案されたものであり、その目
的とするところは、薄型、小型で、磁束の漏洩および外
部からの磁気の影響を極少に抑え、かつ他の回路への適
用性が高く、低価格に製造することのできる磁束平衡法
用トランスを提供することにある。
本発明は上記の目的を達成するため、セラミック等より
なる絶縁基板と、この絶縁基板に設けられた孔部に埋め
込まれたホール素子と、このホール素子のm囲であって
前記絶縁基板の両面に夫々印刷された第1.第2のコイ
ルと、これらのコイルの面上を被覆した磁性体とを備え
てなることを要旨としている。
(作用) 本発明では、薄型平板状の絶縁基板の適位置に形成され
た窓状の孔部を介し鉄芯として機能する集磁材を有する
ホール素子を面実装し、かっその周囲であって絶縁基板
の両面にうずまき状をなす第1.第2のコイルを印刷し
て構成し、更にその周囲を磁性体によりシールドするこ
とにより、トランスの厚みを極めて薄くシ、小型・軽量
とすると共に、量産化に適したものとし、更に磁束の漏
洩および外部からの磁気の影響を極少に抑えて安定な動
作を得るようにし、加えて他の回路を絶縁基板に多層化
可能として汎用性をもたせている。
(実施例) 以下、実施例を示す図面に沿って本発明を詳述する。
第1図は本発明にかかる磁束平衡法用トランスの第1の
実施例を示したものであり、(イ)は部分的に拡大した
平面図、(ロ)はそのA−A断面図である。
第1図において、1はセラミックの如き材料により形成
された、例えば略矩形を呈するrl型平板状の絶縁基板
であり、その略中央部に略矩形の孔部1aが形成され、
この孔部1a内にフラットパッケージ型のホール素子(
例えばInSb型ホール素子)2が埋め込まれろように
配置され面実装されている。また、2bは磁気を導きや
すくするためにホール素子本体2aの両面を被ったフィ
ライトの如き集磁材、2Cは絶縁基板1上のパターン(
図示せず)に半田付けされて結線および固定を行うため
のリード足である。
なお、上記において孔部1aは絶縁基板1上の中央部に
限られないことは言うまでもなく、また、孔部1aの形
状も図示の角形に限られろものではない。
三方、絶縁基板1の両面には孔部1a、ホール素子2を
中心として導体パターンによりうずまき状に第1.第2
のコイル3,4が形成されている。3aはコイル3の引
出線であり、クロスオーバー(既に形成された導体パタ
ーンの上に絶縁層を介して形成された導体パターン)に
よって中心部から外側部分に引き出されている。次いで
、コイル3,4の面上にはホール素子2の部分を除きガ
ラス保護体5を介して磁性体ペースト6が塗布され、コ
イル3,4のインダクタンスを高めると共に磁気の漏洩
および外部からの影響を少なくしている。第1図(イ)
において斜線部は磁性体ベー、ストロにより覆われてい
る部分を示している。
第2図は上記の磁束平衡法用トランスの製造手順を示し
たものであり、先ず(イ)の如く絶縁基板1に孔部1a
を形成し、次いで(ロ)の如く絶縁基板1の両面に導体
ペーストを印刷することによりコイル3,4を形成し、
次いで(ハ)の如くコイル3,4の面上にガラス保護体
5を被覆し、その上に(ニ)の如く磁性体ペースト6を
塗布し、最後に絶縁基板1の一方の側からホール素子2
を裏返しにして埋め込み、リード足2Cを半田付けして
固定する。なお、ハイブリッドIC等に実装する際には
コイル3,4の導体パターンの形成は他の配線用の導体
パターンと同時に形成することができ、また、ホール素
子2の取付も他の部品のマウントと同時に行うことがで
きる。
次に第3図は本発明の第2の実施例を示したものであり
、第1図に示した第1の実施例がコイル3,4の面上に
ガラス保護体5を介して磁性体ペースト6を塗布するよ
うにしていたのに対して、この第2の実施例ではコイル
3,4の面上に接着剤7を塗布した後、外面に予め蒸着
スパッタ等により磁性体膜9が形成されたフィルム8を
貼り付けるようにして製造工程を単純化するようにして
いる。
第4図はその製造手順を示したものであり、先ず(イ)
の如く絶縁基板1に孔部1aを形成し、次いで(ロ)の
如く絶縁基板1の両面にコイル3゜4を形成し、次いで
(ハ)の如く絶縁基板1の一方の側からホール素子2を
裏返しにして埋め込んでリード足2Cを半田付けして固
定し、最後に(ニ)の如くコイル3,4の面上に接着剤
7を塗布した後に外面に磁性体1!A9が形成されたフ
ィルム8を貼り付ける。
次に第5図は本発明の磁束平衡法用トランスを絶縁アン
プに適用した例である。第5図におぃて、11.13は
入力端子、12.14は出力端子であり、入力端子13
は入力側のグランドG1に、出力端子14は出力側のグ
ランドG2に夫々接続されている。また、入力端子11
は抵抗R1を介してオペアンプIC,の反転入力端子に
接続され、オペアンプIC,の非反転入力端子は抵抗R
0を介してグランドG1に接続され、オペアンプIC,
の出力端子は抵抗R4を介してトランスT1の1次コイ
ルn、(第1図ないし第4図におけるコイル3,4の何
れか一方に相当する。)の一端に接続されると共に抵抗
R2を介して自己の反転入力端子に接続され、1次コイ
ルn、の他端はグランドG1に接続されている。
一方、磁気検出手段としてのホール素子H(第1図ない
し第4図におけろホール素子2に対応する。)がトラン
スT、の磁束と結合するように設けられ、ホール素子H
の一対の電極には直流電圧+V、−Vが印加され、他の
一対の電極は抵抗R5,R7を介してオペアンプ■C2
の反転入力端子、非反転入力端子に夫々接続されている
また、オペアンプIC2の出力端子は出力端子12に接
続されろと共に抵抗R8を介してトランスT。
の2次コイルn (第1図ないし第4図におけるコイル
3,4の何れか一方に相当する。)の一端に接続され、
更にコンデンサCIおよび抵抗R6の直列回路を介して
自己の反転入力端子に接続されている。なお、2次コイ
ルn2の他端はグランドG2に接続されている。
動作にあっては、入力端子11.13間に印加された信
号がオペアンプIC,により増幅され、抵抗R4を介し
てトランスT□の1次コイルn、に電流が供給されて磁
束が発生しようとする。この磁束はホール素子Hにより
検出され、ホール素子H(よその磁束の向き、量に応じ
た信号を出力し、この信号はオペアンプIC2により増
幅され、抵抗R8を介してトランスT1の2次コイルn
2に供給されろ。ここで、ホール素子Hの出力の極性と
オペアンプIC2の入出力端子の極性と1次コイルn1
,2次コイルn2の極性とはオペアンプIC2からの電
流によりトランスT1の磁束が打ち消される方向に設定
されているため、ホール素子Hの感度が充分高(、かつ
オペアンプIC2の利得が充分大きければ、トランスT
、の磁束が零となった状態で回路がバランスすることに
なる。
しかして、トランスT、の1次コイルn1による磁束(
1次コイルn、に流れる電流に比例)は入力信号に比例
し、また、2次コイルn2による磁束(2次コイルn2
に流れる電流に比例)はオペアンプIC2の出力信号に
比例し、かつ両者の磁束は大きさが等しく向きが逆とな
ることから、入力信号と出力信号とは比例することにな
り、更に入力側と出力側とは直流的に絶縁されているこ
とから絶縁アンプとして機能することになる。
(発明の効果) 以上のように本発明の磁束平衡法用トランスにあっては
、セラミック等よりなる絶縁基板と、この絶縁基板に設
けられた孔部に埋め込まれたホール素子と、このホール
素子の周囲であって前記絶縁基板の両面に夫々印刷され
た第1.第2のコイルと、これらのコイルの面上を被覆
した磁性体とにて構成したから、 (イ)トランスに作用する磁束が零であり、また磁性体
およびホール素子に設けられた集磁材が鉄芯として機能
するため、製造技術が許す限りi度に薄くすることがで
キ、カつ小型、軽量のトランスとすることができる。
(ロ)フィルを被覆した磁性体がシールドとしての働き
を行うため、磁束の漏洩および外部の磁気による影響を
少くすることができる。
(ハ)フィルが導体パターンと同じであることから、他
の回路を多層化することが可能である。
(ニ)ホール素子としては零付近の磁束を検出するのみ
であるため、特性のりニアリティは必要なく、高感度で
あればよいので、安価な素子を使用することができる。
(ホ)コイルの作成およびホール素子の取付がハイブリ
ッドIC等の製造工程と同時に行えるため、ハイブリッ
ドICへの実装が容易であり、生産コストの低下および
高密度実装により小型#Ti!i型化を図ることができ
る。
等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明にかかる磁束平衡法用トランスの第1の
実施例を示したものであり、(イ)は部分的に拡大した
平面図、(ロ)はそのA−A断面、図、第2図はその製
造手順を示す図、第3図は本発明の第2の実施例を示し
たものであり、(イ)は部分的に拡大した平面図、(ロ
)はそのA−A断面図、第4図はその製造手順を示す図
、第5図は本発明の磁束平衡法用トランスを用いた絶縁
アンプの例である。 1・・・・・・絶縁基板、1a・・・・・・孔部、2・
・・・ホール素子、2a・・・・・・ホール素子本体、
2b・・・・・集磁材、2c・・・・・・リード足、3
,4・・・・コイル、3a・・・引出線、5・・・・・
・ガラス保護体、6・・・・磁性体ペースト、7・・・
・・・接着剤、8・・・・・・フィルム、9・・・・・
・磁性体膜

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)セラミック等よりなる絶縁基板と、この絶縁基板
    に設けられた孔部に埋め込まれたホール素子と、このホ
    ール素子の周囲であって前記絶縁基板の両面に夫々印刷
    された第1、第2のコイルと、これらのコイルの面上を
    被覆した磁性体とを備えてなる磁束平衡法用トランス。
  2. (2)磁性体は、コイルの面上にガラス保護体を介して
    磁性体ペーストを塗布することにより形成されてなる特
    許請求の範囲第1項記載の磁束平衡法用トランス。
  3. (3)磁性体は、コイルの面上に接着剤を塗布した後、
    外面に磁性体膜が形成されたフィルムを貼り付けること
    により形成されてなろ特許請求の範囲第1項記載の磁束
    平衡法用トランス。
JP61184489A 1986-08-05 1986-08-05 磁束平衡法用トランス Granted JPS6340308A (ja)

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JP61184489A JPS6340308A (ja) 1986-08-05 1986-08-05 磁束平衡法用トランス

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JP61184489A JPS6340308A (ja) 1986-08-05 1986-08-05 磁束平衡法用トランス

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Publication Number Publication Date
JPS6340308A true JPS6340308A (ja) 1988-02-20
JPH0366808B2 JPH0366808B2 (ja) 1991-10-18

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ID=16154069

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JP61184489A Granted JPS6340308A (ja) 1986-08-05 1986-08-05 磁束平衡法用トランス

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JP (1) JPS6340308A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100481948B1 (ko) * 2002-07-13 2005-04-13 디피씨(주) 트랜스포머의 코일유닛 제조방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100481948B1 (ko) * 2002-07-13 2005-04-13 디피씨(주) 트랜스포머의 코일유닛 제조방법

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JPH0366808B2 (ja) 1991-10-18

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