JPS633992A - 色素形成性の電気的に活性化可能な記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 以下余白 ３、発明の詳細な説明 ［産業上の利用分野〕 本発明は、少なくとも２種の色素像を形成する〔従来の
技術〕 像形成性で電気的に活性化可能な記録（ＥＡＲ）方法お
よび材料は像形成技術において公知である。

これらの方法および材料は、色素形成性ｒＥ　Ａ　Ｒ要
素を電流に像様暴露して現像可能像を形成し、続いて代
表的には熱現像手段によって色素像を形成することを含
んでいる。このような方法および材料は、例えば、米国
特許箱４，３４３，８８０号明細書に記載されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

色素形成性で電気的に活性化可能な記録方法および材料
は、例えば室内光で操作可能である等の利点をもつが、
発生する問題は、前記の材料および方法が多色の色素像
を形成する能力にある。前記の色素形成性ＥＡＲ材料は
多色の像を形成することができるが、これらの材料にお
いては、各側面への適当な像様電気暴露を伴い、導電性
支持体の反対側側面上に色素形成性ＥＡＲ層を塗布する
か、または暴露および処理後に層を重ねることが必要で
あった。これには、高価で複雑な電気暴露工程が含まれ
る。

複雑な電気暴露工程を必要としないか、あるいは導電性
支持体の反対側側面上へのＥＡＲ層の塗布を必要としな
い、多層で多色の色素像形成を可能にする色素形成性Ｅ
ＡＲ方法の必要性が依然として存在している。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、 電気的に活性化可能で多層の色素形成性記録要素を電荷
に多工程暴露で像様暴露して現像可能像を形成し、続い
て処理して色素像を形成する、色素形成性で電気的に活
性化可能な記録方法であって、 （Ｉ）多層で色素形成性のＥＡＲ要素を、或る極性の電
荷に像様暴露して、少なくとも１層中に現像可能潜像を
形成する工程、続いて、 （ＩＩ）その多層で色素形成性のＥＡＲ要素を、前記工
程（Ｉ）の極性とは反対の極性の電荷に像様暴露して、
その要素の別の層中に現像可能潜像を形成する工程、そ
して （ＩＩ［）得られた暴露後の要素中で色素像を現像する
工程 を含んでなる前記の記録方法を提供することによって前
記の問題を解決するものである。

本発明方法は多色像の形成に特に有用である。

色素像を形成することのできる少なくとも３層の電気的
に活性化可能な記録層（ＡＬ　（Ｂ）および（Ｃ）を含
む色素形成性ＥＡＲ要素において、色素像を形成する本
発明による１Ｇ様の方法は、（Ｉ）層（Ｂ）および層（
Ｃ）に悪影響を与えないで層（Ａ）中に現像可能像を形
成するのに充分な時間に亘り、層（Ａ）を電荷の正極性
に像様暴露する工程、 （ＩＩ）層（Ａ）および層（Ｂ）に悪影響を与えないで
層（Ｃ）中に現像可能像を形成するのに充分な時間に亘
り、層（Ｃ）を電荷の負極性に像様暴露する工程、そし
て （Ｉ［ｌ）少な（とも層（Ａ）および層（Ｃ）中に色素
像を形成するのに充分な時間に亘り、前記要素を処理す
る工程 を含んでなる。

前記の方法は、多色像、例えば層中の少なくとも１層が
シアン色素像を含み、層中の１層がマゼンタ色素像を含
み、そして層中の他の層がイエロー色素像を含む像を形
成するのに有用である。

前記の方法に有用な前記の多層色素形成性ＥＡＲ要素は
、代表的には、 （Ａ）第１色素像特にはイエロー色素像を形成すること
のできる色素形成性ＥＡＲ層であって、（ｉ）ルイス塩
基によって活性化することのできる還元剤または還元剤
前駆体、 （Ｉ１）コバルト（Ｉｌｌ）ルイス塩基錯体、および（
ｉｉｉ　）共役色素の酸化状態よりも高い酸化状態をも
つ還元性色素、またはルイス塩基との反応によって吸収
波長を変化させ、色素特にイエロー色素を形成すること
のできる色素、または酸化形の還元剤との反応の際に色
素特にイエロー色素を形成することのできる色素形成性
カプラー を含む層、 （Ｂ）第２色素像特にはマゼンタ色素像を形成すること
のできる色素形成性ＥＡＲ層であって、（ｉ）ルイス塩
基によって活性化することのできる還元剤または還元剤
前駆体、 （ｉｉ　）コバル）　（Ｉ［［）ルイス塩基錯体、およ
び（ｉｉｉ　）共役色素の酸化状態よりも高い酸化状態
をもつ還元性色素、またはルイス塩基との反応によって
吸収波長を変化させ、色素特にマゼンタ色素を形成する
ことのできる色素、または酸化形の還元剤との反応の際
に色素特にマゼンタ色素を形成することのできる色素形
成性カプラー を含む層、並びに （Ｃ）第３色素像特にはシアン色素像を形成することの
できる色素形成性ＥＡＲ層であって、（ｉ）ルイス塩基
によって活性化することのできる還元剤または還元剤前
駆体、 （ｉｉ　）コバル）　（ＩＩＩ）ルイス塩基錯体、およ
び（ｉｉｉ　）共役色素の酸化状態よりも高い酸化状態
をもつ還元性色素、またはルイス塩基との反応によって
吸収波長を変化させ、色素特にシアン色素を形成するこ
とのできる色素、または酸化形の還元剤との反応の際に
色素特にシアン色素を形成することのできる色素形成性
カプラー を含む層 を担持する導電性支持体からなる。

前記の方法に使用する特に有用な色素形成性ＥＡＲ要素
は、支持体の第１側面上に、（Ａ）バインダー中に （ｉ）コバルト（ＩＩＩ）アミン錯体、（ｉｉ　）酸化
形の発色現像主薬と酸化カップリングしてシアン色素を
形成することのできる色素形成性カプラー（Ｘ）、およ
び （ｉｉｉ　）酸化形でカプラー（ｘ）と反応することの
できる発色現像主薬 を含む第１色素形成性ＢＡＲ層、 （Ｂ）第１障壁層、特に高分子酸障壁層、（Ｃ）（＋）
コバルト（Ｉ１１）アミン錯体、（ｉｉ　）酸化形の発
色現像主薬と酸化力・ノブリングしてマゼンタ色素を形
成することのできる色素形成性カプラー（ｙ）、および （ｉｉｉ　）酸化形でカプラー（ｙ）と反応してマゼン
タ色素を形成することのできる発色現像主薬を含む第２
色素形成性ＥＡＲ層、 （Ｄ）第２障壁層、特に第２高分子酸障壁層、（Ｅ）バ
インダー中に （ｉ）コバルト（Ｉ）アミン錯体、 （ｉｉ　）酸化形の発色現像主薬と酸化力・ノブリング
してイエロー色素を形成することのできる色素形成性カ
プラー（２）、および （ｉｉｉ　）酸化形でカプラー（Ｚ）と反応することの
できる発色現像主薬 を含む第３色素形成性ＥＡＲ層、 （Ｆ）場合により、オーバーコート層 を、この順序で、そして場合により、前記第１側面の反
対側の側面上に、 （Ｇ）バインダー中に （ｉ）コバルト（ＩＩＩ）アミン錯体、（ｉｔ　）酸化
形の発色現像主薬と酸化カップリングして黒色色素を形
成することのできる色素形成性カプラー（ｑ）、および （ｉｉｉ　）酸化形でカプラー（ｑ＞と反応することの
できる発色現像主薬 を含む第４色素形成性ＥＡＲ層、および（Ｈ）層（Ｇ）
上のオーバーコート層 を担持する導電性支持体からなる。前記の要素において
色素像を形成する方法は、例えば、（Ｉ）前記支持体の
第１側面上の層を、或る極性の電荷の電流に像様暴露し
て、層（Ａ）、層（Ｃ）および層（Ｅ）の少なくとも１
層中に現像可能潜像を形成し、 （ｎ）前記支持体の第１側面上の層を、工程（Ｉ）の極
性と反対の極性の電荷の電流に像様暴露して、層（Ａ）
、層（Ｃ）および層（Ｅ）の少なくとも１層中に、工程
（Ｉ）からの現像可能潜像を食まない現像可能潜像を形
成し、 （ＩＩＩ）層（Ｇ）を電流に像様露光して層（Ｇ）中に
現像可能潜像を形成し、ここで工程（ＩＩＩ）は工程（
Ｉ）および工程（ＩＩ）の前、間または後で実施するも
のとし、そして （ＩＶ）得られた要素中に色素像を現像する各工程から
なる。

望ましい場合には、処理後の要素から色素像の少なくと
も１部分を、ＥＡＲ要素と一体のまたは別々の色素像受
容体に移すことができる。この転写は、熱転写または他
の手段によって行うことができる。

ＥＡＲ要素は、電気暴露後に、暴露要素を単に加熱する
ことによって処理することのできる色素形成性エレクト
ロサーモグラフインク記ｕ（ＥＴＲ：ｅｌｅｃｔｒｏｔ
ｈｅｒｍｏｇｒａｐｈｉｃ　ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ）要素
であることが好ましい。暴露後のＥＴＲ要素は、前記の
層の少なくとも１層中に色素像を形成するのに充分な温
度および時間に亘って加熱する。

ＥＡＲ要素中のコバル）　（Ｉｌｌ）ルイス塩基錯体は
、ＥＡＲ要素の電気的暴露の際に潜像を形成することが
でき、そしてその要素の処理の際にルイス塩基を放出す
ることのできる機能をもつ。

色素形成性ＥＴＲ要素の場合には、前記の各方法の態様
における加熱工程は、コバルト（ＩＩＩ）ルイス塩基錯
体からルイス塩基を放出しそして望ましい色素像を形成
することのできる温度、例えば約り０℃〜約２００℃の
範囲内、代表的には約り００℃〜約１８０℃の範囲の温
度で、望ましい色素像が形成されるまで実施する。

前記の方法において、暴露の正または負の極性のいずれ
かの電荷密度レベルは変化することができる。電荷レベ
ルを変えることは、異なる暴露時間および／または暴露
の異なる電圧レベルを意味する。

色素形成性ＥＡＲ要素中の成分の組合せ中に電場による
電荷キャリアーの注入が、ＥＡＲ層の少なくとも１層中
に現像可能な潜像の形成をもたらすごとが要求される。

潜像の現像は、前記の像形成用の組合せの反応を潜像が
開始する反応によって達成されるものと考えられる。

前記の成分を含有する各種の像記録用の組合せを使用す
ることができるが、前記の方法の最適のＥＡＲ組合せお
よびＦ、　Ａ　Ｒ要素は、望ましい像、具体的な像形成
用組合せ、暴露エネルギー源、処理条件範囲等に依存す
る。

本明細書において「エレクトロサーモグラフィック」記
録（ＥＴＲ）材料とは、電流に露した場合に、化学的お
よび／または電気的変化を受け、これが熱処理によって
現像することのできる現像可能な潜像を提供する材料を
意味する。

本明細書において「潜像」とは、肉眼では見ることがで
きないかまたは肉眼ではわずかじか見えず、しかも後に
行なう加熱現像工程において増大することのできる像を
意味する。

本明細書において「導電性」例えば「導電性支持体」と
は、抵抗率約１０′２オーム／　ｃｍ未滴の支持体また
は層を意味する。

本発明方法のＩＢ様においては、第１色素像特にはシア
ン色素像を形成することのできる電気的に活性化可能な
記録層、第２色素像特にはマゼンタ色素像を形成するこ
とのできるＥＡＲ層、そして第３色素像特にはイエロー
色素像を形成することのできるＥＡＲ層をこの順で含む
色素形成性要素中で多色像を形成する。前記の方法にお
ける電気的暴露は、第１色素形成性層および／または第
３色素形成性層中に現像可能な潜像の形成を可能にする
レベルおよび極性である。第２色素形成性層中に形成さ
れる色素像は、第１色素形成性層または第３色素形成性
層の少なくとも１層を高レベルの電荷例えば１０ミリク
ーロン／ｃｄ〜１０クーロン／ｉに電気的に暴露した後
で、これらのいずれの層からの伝染現像によって形成す
る。この方法の電気的暴露工程における極性の反転は、
他の層中での色素像の形成を起こさずに色素形成性層の
１層中での色素像の形成を可能にする。

ここで「伝染現像」とは、ＥＡＲ要素の他の層の電気的
暴露の水準および時間に応答性ではないが、ＥＡＲ要素
の層（Ｘ）に対して、層（Ｚ）中に色素像を形成させる
ことができる程度に充分に近接した位置にあるかまたは
連続している層（ｚ）における色素像の形成を意味する
。若干の形の種は、層（Ｚ）中での色素像の形成を可能
にする電気的暴露の際または処理の際に層（２）に転写
されることを要求される。この若干の形の種の転写が伝
染現像を可能にする。

前記の方法に有用な色素形成性ＥＡＲ要素好ましくは色
素形成性ＥＴＲ要素および本発明方法について説明する
添付図面に示すとおり、色素形成性層は、電気的暴露お
よび処理の際に色素像を形成することのできる任意の色
素形成性ＥＡＲ組成物を含むことができる。前記の色素
形成性ＥＡＲ層は、代表的には、反応性の関連で、 （ａ）ルイス塩基によって活性化することのできる還元
剤または還元剤前駆体、 （ｂ）コバルト（ＩＩＩ）ルイス塩基錯体、および（ｃ
）（ｉ）共役色素の酸化状態よりも高い酸化状態をもつ
還元性色素形成性化合物と（ｉｉ）ルイス塩基との反応
によって吸収波長を変化させることのできる色素と（ｉ
ｉｉ　）酸化形還元剤と酸化カップリングすることので
きる色素形成性カプラーとからの少なくとも１個 を含む。

色素形成性ＥＡＲ要素中、代表的にはＥＴＲ要素中の還
元剤または還元剤前駆体は、ルイス塩基により、特には
コバルト（ＩＩＩ）ルイス塩基錯体からのルイス塩基に
より活性化することができる。

還元剤または還元剤前駆体は、成分（ｃ）の組成に依存
して、電気的暴露および処理の際にＥＡＲ要素において
３つの機能のうちの少なくとも１つを果すことができる
。第１に、成分（ｃ）が共役色素の酸化状態よりも高い
酸化状態をもつ還元性色素形成性化合物である場合には
、還元剤または還元剤前駆体から形成される還元剤は、
還元性色素形成性化合物を還元される原因となって色素
像を形成することができる。この反応の例は以下のとお
りである。第２に、前記成分（Ｃ）が吸収波長を変化さ
せることのできる色素である場合には、（Ｉ５）　　　
” 還元剤の機能は、Ｃｏ（ＩＩＩ）錯体を還元し、そして
続いてルイス塩基を放出することである。第３に、成分
＜ｃ＞がカプラーである場合には、酸化形の還元剤がカ
プラーと反応して色素を形成する。

前記の色素形成性ＥＡＲ要素中のコバル）　（ＩＩＩ）
ルイス塩基錯体は、その色素形成性Ｆ、　Ａ　Ｒ要素の
電気的暴露の際に潜像を形成することのできる機能およ
びその要素の処理の際にルイス塩基を放出することので
きる機能をもっている。

前記の熱処理の各側における加熱工程は、コバルト（ｌ
ｉｔ）ルイス塩基錯体からルイス塩基を放出しそして望
ましい色素像を形成することのできる温度、例えば約り
０℃〜約２００℃の範囲内、代表的には約り００℃〜約
１８０℃の範囲の温度で、望ましい色素像が形成される
まで実施する。

電荷暴露後の処理工程は、場合により、処理用溶液また
は浴によって実施することができる。その処理工程は、
代表的には、温度および圧力の雰囲気条件下で実施する
。前記の処理は、写真技術において公知の処理用溶液お
よび浴によって実施することができ、それらの溶液およ
び浴は、例えば、Ｇｒａｎｔ　Ｈａｉｓｔ＋　”　Ｍｏ
ｄｅｒｎ　ＰｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃＰｒｏｃｅｓｓ　
ｉｎｇ″Ｖｏ１．２．第９および１０章、ＪｏｈｎＷｉ
ｌｅｙ　ａｎｄ　５ｏｎｓ社、ニューヨーク１９７９、
Ｒｅ５ｅａｒｃｈＤｉｓｃｌ＋ｏｓｕｒｅ＋　１９７９
＋　１１月、Ｉｔｅｍ　　ｆｆ１１８７１６　ａｎｄＲ
ｅｓｅａｒｃｈ　　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ、１９７８．
１２月、Ｉｔｅｍ　　？ｈ１７６４３゜Ｐａｒａｇｒａ
ｐｈ■（英ｕｌｌハンプシャーエムスワースのＫｅｎｎ
ｅｔｈ　Ｍａｓｏｎ　Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ社）　
、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆｔｈｅ　５ｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ
　Ｍｏｔｉｏｎ　Ｐｉｃｔｕｒｅ　ａｎｄ　Ｔｅｌｅｖ
ｉｓｉｏｎＥｎｇｉｎｅｅｒｓ、Ｖｏｌ、６１（Ｉ９５
３）第６６７−７０１頁におけるＷ、Ｔ、）ｌａｎｓｏ
ｎおよびＬ　Ｉ　、　Ｋｅｓｅｎｅｒの論文、並びに米
国特許第４，４７７．５６３号明細書に記載のものであ
る。

成分（ｃ）（ｉ）においては任意の色素形成性化合物が
、それらが成分（ｂ）から放出されるルイス塩基の存在
下で還元剤によって還元可能である限り、有用である。

有用な還元性色素形成性化合物としては、例えば、還元
形でホルマザン色素またはアゾアミン色素を形成するテ
トラゾリウムまたはトリアゾリウム化合物が含まれる。

２位または５位で２価の中間基を介してまたは直接に結
合したビステトラゾリウム塩を含めて、前記のテトラゾ
リウム塩は像形成技術界において広範囲のものが知られ
ている。公知のテトラゾリウム塩の例を表１、表■およ
び表■に示す。その他のテトラゾリウム塩の例は米国特
許第４．２８４，７０４号明細書の表■、表■および表
■に記載されているので参照されたい。

表−１ 色素形成性テトラゾリウム塩の例 Ｔ−１２，３，５−）リフユニルー２Ｈ−テトラゾリウ
ムテトラフルオロポレート Ｔ−２２−（２−ブロモフェニル）−３，５−ジフェニ
ル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−３２−（２−トリフルオロメチルフェニル）−３，
５−ジフェニル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロ
ボレート Ｔ−４２−（４−シアノフェニル）−３，５−ジフェニ
ル−２Ｈ−テトラゾリウム塩トラフルオロボレート Ｔ−５２−（３−ニトロフェニル）−３，５−ジフェニ
ル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロポレート Ｔ−６２−（２，６−シメチルフエニル）−３゜５−ジ
フェニル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレー
ト Ｔ−７２−（２，４−ジクロロフェニル）−３゜５−ジ
フェニル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレー
ト Ｔ−８２，３−ジ（２−クロロフェニル）−５−フェニ
ル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−９２−（４−ニトロフェニル）　−３−（４−メト
キシフェニル）−５−フェニル−２Ｈ−テトラゾリウム
テトラフルオロボレート Ｔ−１０２−（４−ニトロフェニル）−３−フェニル−
５−（３，４−ジメトキシフェニル）−２Ｈ−テトラゾ
リウムテトラフルオロポレート Ｔ−１１２−（２−メトキシフェニル）−３−フェニル
−５−（４−ニトロフェニル）−２Ｈ−テトラゾリウム
テトラフルオロボレート Ｔ−１２２−（２−メチル−４−ニトロフェニル）−３
，５−ジフェニル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオ
ロボレート Ｔ−１３２−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−３
，５−ジフェニル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオ
ロボレート Ｔ−１４２−（４−ニトロフェニル）−３−（２゜６−
シメチルフエニル）−５−フェニル−２Ｈ−テトラゾリ
ウムテトラフルオロボレート Ｔ−１５２−（４−ニトロフェニル）−３−（４−ヨー
ドフェニル）−５−フェニル− ２Ｈ−テトラゾリウムへキサフルオロホスフェート Ｔ−１６２−（４−シアノフェニル）−３−（２゜５−
ジクロロフェニル）−５−（４−メトキシフェニル）−
２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−１７２，３−ジフェニル−５−ｎ−ヘキシル−２Ｈ
−テトラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−１８２，３−ジフェニル−２Ｈ−テトラゾリウムテ
トラフルオロボレート Ｔ−１９２−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−３
−フェニル−５−メチル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラ
フルオロボレート Ｔ−２０２，３−ジフェニル−５−（３，４−ジメトキ
シフェニル）−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボ
レート Ｔｌｌ　　２−（２−フェノキシ−５−クロロフェニル
）−３，５−ジフェニル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラ
フルオロボレート Ｔ−２２２−（２−メトキシフェニル）−３−フェニル
−５−ｎ−ヘキシル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフル
オロボレート Ｔ−２３２−（４−ニトロフェニル）　　−３−（２゜
４−ジクロロフェニル）−５−（４−メトキシフェニル
）−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−２４２−（２−ブロモー４−ニトロフェニル）−３
，５−ジフェニル−２Ｈ−テトラゾリウムへキサフルオ
ロポレート Ｔ−２５２−（２−ブロモ−４−ニトロフェニル）−３
−フェニル−５−メチル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラ
フルオロボレート Ｔ−２６２−（２−メチル−４−二トロフェニル）−３
−フェニル−５−メチル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラ
フルオロボレート Ｔ−２７２−（２−ピリジル）−３，５−ジ（４−クロ
ロフェニル）２Ｈ−テトラゾリウムへキサフルオロホス
フェート Ｔ−２８２−（２−ピリジル）−３−（２，６−シメチ
ルフエニル）−５−フェニル− ２Ｈ−テトラゾリウムへキサフルオロホスフェート Ｔ−２９２−（２−ヨードフェニル）−３，５−ジフェ
ニル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−３０１−（４−）リフルオロメチルフェニル）＝３
．５−ジフェニル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオ
ロボレート 特に有用なテトラゾリウムおよびトリアゾリウム化合物
は、フヱニル基２個または３個をもつ。

特に有用なテトラゾリウム塩としては、２位、３位およ
び場合により５位の芳香族環または芳香族様複素環式環
例えばフェニル、ナフチル、アンスリル、キノリニル、
ピリジル、アゾリル等の任意所望の組合せが含まれる。

アゾリル環には、オキサシリル、チアゾリル、ベンゾキ
サゾリル、ベンゾチアゾリル等が含まれる。これらの環
は場合により置換されている。特に有用な環置換基は、
例えば、アルキル例えば炭素原子１〜６個のアルキル；
アルケニル例えば炭素原子２〜６個のアルケニル；アル
キニル例えば炭素原子２〜６個のアルキニル；ベンジル
：スチリル：フェニル；ビフェニリル；ナフチル；アル
コキシ例えばメトキシおよびエトキシ；アリールオキシ
例えばフェノキシ；カルボアルコキシ例えばカルボメト
キシおよびカルボエトキシ；カルボアリールオキシ例え
ばカルボフェノキシおよびカルボナフトキシ；アシルオ
キシ例えばアセトキシおよびベンゾイルオキシ；アシル
例えばアセチルおよびベンゾイル；ハロゲン例えばフッ
素、塩素、臭素および沃素；シアニド；アジド；ニトロ
；ハロアルキル例えばトリフルオロメチルおよびトリフ
ルオロエチル；アミド例えばアセトアミドおよびベンゾ
アミド；アンモニア例えばトリメチルアンモニア：アゾ
例えばフェニルアゾ；スルホニル例えばメチルスルホニ
ル；スルホニウム例えばジメチルスルホニウム；シリル
例えばトリメチルシリルおよびチオエーテル例えばメチ
ル千オである。

有用な色素安定性を提供する電気陰性テトラゾール核置
換基を主にもつ有用なテトラゾリウム塩の例を表■に示
す。

表−エ Ｔ−４３２−（２−クロロフェニル）−３−フェニル−
５−（３−ニトロフェニル）− ２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−４４２−（４−ニトロフェニル）　−３−（４−ヨ
ードフェニル）−５−フェニル− ２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−４５２−（４−ニトロフェニル）−３−（３゜６−
ジクロロフェニル）−５−フェニル−２Ｈ−テトラゾリ
ウムテトラフルオロボレート Ｔ−４６２−（４−ニトロフェニル）−３−（２゜４．
６−）ジクロロフェニル）−５−フェニル−２Ｈ−テト
ラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−４７２−（２−二トロフェニル）　−３−（２−フ
ロモフェニル＞−Ｓ−フェニル− ２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロポレート Ｔ−４８２−（２−ニトロフェニル）−３−フェニル−
５−（４−クロロフェニル）− ２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−４９２−（４−ニトロフェニル）−３−フェニル−
５−（４−クロロフェニル）− ２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−５０２−（２、４−ジクロロフェニル）−３−フェ
ニル−５−（３−ニトロフェニル）−２Ｈ−テトラゾリ
ウムテトラフルオロボレート Ｔ−５１２−（２，４，５−）ジクロロフェニル）−３
−フェニル−５−（４−ニトロフェニル）　−２Ｈ−テ
トラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−５２２，５−ジ（４−ニトロフェニル）−３−フェ
ニル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレート Ｔ−５３２，５−ジ（４−ニトロフェニル）−３−フェ
ニル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロポレート Ｔ−５４２，３−ジ（４−ニトロフェニル）−５−フェ
ニル−２Ｈ−テトラゾリウムへキサフルオロホスフェー
ト Ｔ−５５２，３−ジ（２，５−ジクロロフェニル）−５
−（４−メトキシフェニル）−２Ｈ−テトラゾリウムテ
トラフルオロボレート Ｔ−５６２−（２−クロロ−５−ニトロフェニル）−３
−（２，５−ジクロロフェニル）−５−（４−メトキシ
フェニル）　−２Ｈ−テトラゾリウムへキサフルオロホ
スフェート Ｔ−５７２−（４−ニトロフェニル）−３−（４−クロ
ロフェニル）−５−フェニ７１ｚ　−２Ｈ−テトラゾリ
ウムテトラフルオロボレート Ｔ−５８２−（４−メチルチオフェニル）−３−（３，
５−ジクロロフェニル）−５− （３−ニトロフェニル）−２Ｈ−テトラゾリウムヘキサ
フルオロホスフェート Ｔ−５９２−（４−ブロモ−１−ナフチル）−３−（４
−シアノフェニル）　−５−（３。

４−ジクロロフェニル）−２Ｈ−テトラゾリウムクロリ
ド Ｔ−６０２−（２−）リフルオロメチル−５−クロロフ
ェニル）−３−（４−シアノフェニル）−５−フェニル
−２Ｈ−テトラゾリウムプロミド Ｔ−６１２−（２−クロロ−５−ニトロフェニル）−３
−（４−アセチルフェニル）−５−（３−ニトロフェニ
ル）−２Ｈ−テトラゾリウムクロリド Ｔ−６２２−（４−（４−ニトロフェニルチオ）フェニ
ル）−３−（２−クロロ−５−フルオロメチルフェニル
）−５−（３−ニトロフェニル）−２Ｈ−テトラゾリウ
ムプロミド Ｔ−６３２−（４−フェニルスルホニルフェニル）−３
−（２−クロロ−４−シアノフェニル）−５−（３，４
−ジクロロフェニル）−２Ｈ−テトラゾリウムクロリド Ｔ−６４２−（２−ビフェニリル）　−３−（３。

４−ジクロロフェニル）−５−（４−シアノフェニル）
−２Ｈ−テトラゾリウムクロリド Ｔ−６５２−（４−ピリジル）−３−（２，３゜４．５
−テトラフルオロフェニル）−５−フェニル−２Ｈ−テ
トラゾリウムへキサフルオロホスフェート Ｔ−６６２−（３−フェニルホルムアミドフェニル）−
３−（２−ニトロ−４−クロロフェニル）−５−（３−
クロロフェニル）−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオ
ロボレート 前記のテトラゾリウム化合物においては、ホルマザン色
素形成性テトラゾリウム塩において有用であることが知
られている任意のアニオンを使用することができる。好
ましいアニオンは表１および表■に記載のものである。

これらのアニオンの任意のものを、表１および表Ｈに示
したテトラゾリウム塩のいずれかにおける任意の他のア
ニオンの代りに導入することができる。非塩基性で非求
核性のアニオン例えばテトラフルオロポレートおよびヘ
キサフルオロホスフェートが好ましい。これらのアニオ
ンは、得られたテトラゾリウム塩に対して、アニオン誘
発還元に対する向上した保護作用を提供し、このために
、これらを使用するのが好ましい。これらのアニオンは
成分（ａ）の還元剤または還元剤前駆体の前活性化に対
する保護作用も提供する。

形成されるホルマザン色素は各種の金属塩、例えば鉄、
ニッケル、コバルト、銅、亜鉛、カドミウム、クロム、
チタン、モリブデンまたはタングステンの塩とキレート
化することができる。これらのキレート化は、ホルマザ
ン色素の色相の変化またはそれらのツユ−ディングに対
する安定化に有用であることができる。

前記のコバル）　（Ｉ［［）錯体がコバル）　（Ｉ［）
に還元されてそのルイス塩基リガンドを放出するものと
考えられる。このコバルト（Ｉｔ）塩はホルマザン色素
とキレート化して、より安定な色素像を形成することが
できる。追加の金属塩を像形成用要素中に配合してホル
マザン色素をキレート化し、それを安定化することがで
きる。すべてのホルマザン色素は、少な（ともビデンテ
ートキレートを形成することができる。ビデンテートお
よびトリデンテートホルマザン色素キレートに関して明
瞭な安定化が観察されるが、トリデンテートキレートを
形成するテトラゾリウム塩を使用すると、より大きな安
定化が得られる。トリデンテートホルマザン色素キレー
トを形成することのできるテトラゾリウム塩は、例えば
、２位または３位に１以上のＮ−複素環式芳香族環例え
ば２−ピリジル、２−キノリニルおよび２−アゾリル例
えば２−チアゾリル、２−ベンゾトリアゾリル、２−オ
キサシリルおよび２−ベンゾキサゾリル環構造をもつも
のである。高安定性トリデンテートホルマザン色素キレ
ートを形成するテトラゾリウム塩の例を表■に示す。

表−見 トリデンテートホルマザン色素キレートを形成するテト
ラゾリウム塩の例 Ｔ−７３２−（２−ピリジル）−３−（２，６−シメチ
ルフエニル）−５−フェニル−１−２Ｈ−テトラゾリウ
ムへキサフルオロホスフェート Ｔ−１４２−（２−ピリジル）−３，５−ジフェニル−
２Ｈ−テトラゾリウムプロミド Ｔ−７５２−（２−ピリジル）−３−（４−クロロフェ
ニル）−５−フェニル−２Ｈ−テトラゾリウムニトレー
ト Ｔ−７６２，３−ジ（ベンゾチアゾール−２−イル）−
５−ドデシル−２Ｈ−テトラゾリウムクロリド Ｔ−７７２，３−ジ（ベンゾチアゾール−２−イル）−
５−シアノ−２Ｈ−テトラゾリウムクロリド Ｔ−７８３−（４，５−ジメチルチアゾール−２−イル
）−２，５−ジフェニル−２Ｈ−テトラゾリウムプロミ
ド Ｔ−７９２−（２−キノリニウム）−３−フェニル−５
−（３−ニトロフェニル）−２Ｈ−テトラゾリウムテト
ラフルオロボレート Ｔ−８０１，５−ナフタレン−ビス（３−（２−（２−
ピリジル）−５−（３，４−ジクロロフェニル）−２Ｈ
−テトラゾリウムフルオロボレート〕〕 Ｔ−８１３−（４、５−ジメチルチアゾール−２−イル
）−２，５−ジフェニル−２Ｈ−テトラゾリウムプロミ
ド Ｔ−８２２−（２−キノリニル）−３−フェニル−５−
（３−ニトロフェニル）　−２Ｈ−テトラゾリウムテト
ラフルオロボレートＴ−８３１，５−ナフチレンビス（
３−［２−（２−ピリジル）−５−（３，４−ジクロロ
フェニル）−２Ｈ−テトラゾリウムフルオロポレート〕
〕 Ｔ−８４２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−３，５
−ジ（４−クロロフェニル）− ２Ｈ−テトラゾリウムクロリド Ｔ−８５２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−３−（
２−フルオロフェニル）−５− （４−シアノフェニル）−２Ｈ−テトラゾリウムテトラ
フルオロボレート Ｔ−８６２−（ベンゾチアゾール−２−イル）−３−（
４−クロロフェニル）−５−フェニル−２Ｈ−テトラゾ
リウムクロリド キレート化ホルマザン色素は、相当する非キレート化ホ
ルマザン色素よりも、赤色領域スペクトルにおける吸収
が、−般に、より良好になる。従って、ホルマザン色素
は一般に赤色像へ向かう傾向があるのに対し、キレート
化ホルマザン色素はかなり青色化され、より暗色の像を
生成する。

生成されるホルマザン色素像は、望ましい場合には、テ
トラゾール核に電気陰性置換基を加えるか、またはテト
ラゾリウム塩との組合せに金属塩を導入することによっ
て安定化することができる。

望ましい場合には、これらの２つの安定化技術を組合せ
て使用することができる。例えば、テトラゾリウム塩Ｔ
−３７およびＴ−４１は、それらのテトラゾール核置換
基において充分に電気陰性であり、キレート化なしでも
、安定性に関して特に有用なテトラゾリウム塩を構成す
る。これらのテトラゾリウム塩は、トリデンテートキレ
ートを形成することにより、より一層安定なホルマザン
色素を生成するのに有用であることができる。

トリアゾリウム塩も、還元性色素形成性化合物（ｃ）（
ｉ）として有用である。

特に有用なトリアゾリウム塩は、トリアゾール核と縮合
した芳香族環をもつものである。多くのトリアゾリウム
塩が有用であるが、それらのトリアゾリウム塩は、縮合
芳香族環をもたないトリアゾリウム塩と比較して、密度
の増加したアゾアミン色素を生成する。更に、縮合芳香
族環をもたないトリアゾリウム塩は代表的には黄色色相
のアゾアミン色素を生成するのに対し、トリアゾール核
と縮合した芳香族環を含有するトリアゾリウム塩は、代
表的には、スペクトルの赤色部分に向かってシフトする
かまたは色相がより中性になる。

有用な環置換基およびそれらが形成するトリアゾリウム
塩の例は、前記米国特許第４，２８４，７０４号明細書
に記載があり、そして以下の表■に示す。

生成されるアゾアミン色素の安定性を向−ヒさせるため
には、トリアゾリウム塩中に、主に電気陰性置換基を導
入するのが好ましい。

アゾアミン色素形成性トリアゾリウム塩において有用で
あることが知られている任意のアニオンを使用すること
ができる。これらのアニオンの任意のものを、表■に示
したトリアゾリウム塩のいずれかにおける任意の他のア
ニオンの代りに導入することができる。非塩基性で非求
核性のアニオン例えばテトラフルオロボレートおよびヘ
キサフルオロホスフェートが好ましい。これらのア二オ
ンは、得られたトリアゾリウム塩に対して、アニオン誘
発還元に対する向上した保護作用を提供する。これらの
アニオンは成分（ａ）の還元剤または還元剤前駆体の前
活性化に対する保護作用も提供する。

トリアゾリウム塩の還元によって形成されるアゾアミン
色素は金属塩とのキレート化によって安定化することが
でき、そしてそれらの色に影響を与えることができる。

これらの色素は還元化コバルト錯体でキレート化可能で
あり、それらを安定性を増すことができる。ホルマザン
色素キレートに関連して示した金属塩を使用してアゾア
ミン色素のキレート化を提供することができる。すべて
のアゾアミン色素は、少なくともビデンテートキレート
を形成することができる。ビデンテートおよびトリデン
テートキレートによって明瞭な安定化を達成することが
できるが、トリデンテートキレートを形成するトリアゾ
リウム塩を使用するとより大きな安定化が得られる。ト
リデンテートアゾアミン色素キレートを形成することの
できるトリアゾリウム塩は、例えば、１位または２位に
１以上のＮ−複素環式芳香族環例えば２−ピリジルおよ
び２−アゾリル例えば２−チアゾリル、２−ベンゾチア
ゾリル、２−オキサシリルおよび２−ベンゾキサゾリル
環構造をもつものである。

特に有用なトリアゾリウム塩の例を以下の表■に示す。

表−ｙ アゾアミン色素形成用のトリアゾリウム塩Ｔｒ−１１−
メチル−２−フェニル−２Ｈ−１゜２．３−）リアゾリ
ウムテトラフルオロボレート Ｔｒ−２１−ネオペンチル−２−フェニル−２Ｈ−１，
２，３−）リアゾリウムヨーシトＴｒ−３１−（ｎ−ブ
チル）−２−フェニル−６−ニトロ−２Ｈ−ベンゾ−１
２，３− トリアゾリウムヨーシト Ｔｒ−４２−フェニル−３−（ピリド−２−イル）−２
Ｈ−ナフト（Ｉ，２−ｄ）−１，２゜３−トリアゾリウ
ムベルクロレート Ｔｒ−５２（４−カルボメトキシフェニル）−３−フェ
ニル−２Ｈ−ナフト（Ｉ、２−ｄ）−１，２，３−）リ
アゾリウムへキサフルオロホスフェート Ｔｒ　　６　２　　（４−シアノ−１−ナフチル）−３
−フェニル−２Ｈ−ナツト（Ｉ，２−ｄ）−１，２，３
−）リアゾリウムテトラフルオロボレート Ｔｒ−７２−（Ｉ−ニトロ−２−ナフチル）−３−フェ
ニル−２Ｈ−ナツト（Ｉ，２−ｄ）−１，２，３−トリ
アゾリウムテトラフルオロボレート Ｔｒ−８２，３−ジフェニル−５−フェノキシ−２Ｈ−
ナフト（Ｉ，２−ｄ）　−１，２゜３−トリアゾリウム
ニトレート Ｔｒ−９２，２’　　　（ｐ−フェニレン）ビス（３−
フェニル−２Ｈ−ナフト（Ｉ，２−ｄ）−１，２，３−
トリアゾリウムへキサフルオロホスフェート） Ｔｒ−１０２，２’−（２−クロロ−１，４−フェニレ
ン）ビス（３−フェニル−２Ｈ−ナフト（Ｉ，２−ｄ）
−１，２，３−トリアゾリウムへキサフルオロホスフェ
ート）Ｔｒ−１１２，２’　　　（Ｉ，５−ナフチレン
）ビス（３−フェニル−２Ｈ−ナフト〔１，２−ｄ）−
１，２，３−トリアゾリウムへキサフルオロホスフェー
ト） ↑ｒ−１２２，３−ジ（４−メトキシフェニル）−５−
二トロー２Ｈ−ナフト（Ｉ，２−ｄ）−１，２，３−）
リアゾリウムプロミド還元性色素形成性化合物（ｃ）（
ｉ）は、処理の際に所望の色素形成反応を可能にする任
意の濃度で、色素形成性ＥＡＲ要素において有用である
。

ＥＡＲ層は、−般に、還元性色素形成性化合物（ｅ）（
ｉ）またはその化合物の組合せを、記録層中のＣｏ（Ｉ
［）錯体１モル当り色素形成性化合物（ｃ）（ｉ）０．
１〜１０モルの範囲で含有する。還元性色素形成性化合
物（ｃ）（ｉ）の最適濃度の選択は、色素形成性ＥＡＲ
要素の具体的成分、望ましい像、処理条件および具体的
な還元性色素形成性化合物（ｃ）（ｉ）等の要因に依存
する。

前記の色素形成性ＥＡＲ要素においては、ルイス塩基と
の反応によって吸収波長を変化させることのできる任意
の色素が、成分（ｃ）（ｉｉ）として有用である。成分
（ｃ）（ｉｉ）は、要素の電気的暴露前の第１の波長か
ら、色素形成性ＥＡＲ要素の電気的暴露および処理後の
任意の第２の吸収波長へ、吸収波長を変化させる色素で
あることができる。このような有用な成分（ｃ　）　（
ｉｔ　）は、例えば、２．４−ジフェニル−６−（β−
メチル−３，４−ジ−エトキシスチリル）ピリリウムテ
トラフルオロボレートおよびエチルレッド色素である。

ルイス塩基との反応によって吸収波長を変化させること
のできる色素（Ｃ）　（ｉｉ　）は、処理の際に所望の
色素形成反応を可能にする任意の濃度で、色素形成性Ｅ
ＡＲ要素において有用である。ＥＡＲ層は、−般に、こ
の色素（ｃ　）　（ｉｉ　）またはその色素の組合せを
、ＥＡＲ層中のＣｏ（Ｉ［［）錯体１モル当り色素（ｃ
）（ｉｉ）　０．１〜１０モルの範囲で含有する。色素
（ｃ　）　（ｉｉ　）の最適濃度の選択は、色素形成性
ＥＡＲ要素の具体的成分、望ましい像、処理条件および
具体的な色素（ｃ）（ｉｉ）等の要因に依存する。

色素形成性ＥＡＲ要素の電気的暴露および処理の際に、
成分（ａ）の還元剤または還元剤前駆体から形成される
還元剤と酸化的カンプリングにおいて色素を形成する限
り、任意の色素形成性カプラーが、前記の色素形成性Ｅ
ＡＲ要素および方法において成分（ｃ　）　（ｉｉｉ　
）として有用である。本明細書において色素形成性カプ
ラーとは、電気的暴露後に記録層を加熱した際に、前記
の他の成分と共に、酸化的カンプリングにおいて所望の
色素像を生成する化合物または化合物の組合せを意味す
る。これらは色素形成性カプラーと称される。なぜなら
、これら化合物は酸化された還元剤とカップリングして
所望の色素を生成するものと考えられるからである。本
明細書に示す色素形成性カプラーも、カラー形成性カプ
ラーとして写真技術において公知である。色素形成性カ
プラーの組合せが有用である。最適の色素形成性カプラ
ーまたはカプラーの組合せの選択は、望ましい色素像、
記録層中の他の成分、処理条件、記録層中の具体的な還
元剤等の要因によって影響を受ける。有用なマゼンタ色
素形成性カプラーは例えば１−（２゜４．６−ドリクロ
ロフエニル）−３−（３−（α−（３−ペンタデシルフ
ェノキシ）ブチルアミド〕ベンズアミド）−５−ピラゾ
ロンである。有用なシアン色素形成性カプラーは、２，
４−ジクロロ−１−ナフトールである。有用なイエロー
色素形成性カプラーは、α−（３−〔α−（２，４−ジ
ー１−アミルフェノキシ）アセトアミド〕ベンゾイル）
−２−フルオロアセトアニリドである。有用なシアン、
マゼンタおよびイエローの色素形成性カプラーは、写真
技術において公知のカプラー例えば、”Ｎｅｂｌｅｔｔ
ｅ’ｓ　Ｈａｎｄｂｏｏｋ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｇｒａｐ
ｈｙａｎｄ　Ｒｅｐｒｏｇｒａｐｈｙ”、Ｊｏｈｎ　Ｍ
、Ｓｔｕｒｇｅｌｉ、第７版、１９７７、第１２０．１
２１頁、およびＲｅ５ｅａｒｃｈ　　Ｄｉｓｃｌｏｓｕ
ｒｅ。

Ｖｏｌ　、　１７６、１９７８．１２月、Ｉｔｅｉ＋　
１７６４３．ｐａｒａｇｒａｐｈｓ■Ｃ−Ｇに記載のカ
プラーから選ぶ。

有用な色素形成性カプラーの他の例−以下のとおりであ
る。

酸化形の前記還元剤特には発色現像主薬との反応の際に
シアン色素を形成するカフプラー番よ、（ＩＩえば米国
特許第２．７７２．１６２号、第２，８９５，８２６号
、第３．００２．８３６号、第３，０３４，８９２号、
第２，４７４，２９３号、第２．４２３．７３０号、第
２．３６７．５３１号、第３，０４１，２３６号および
第４．２４８，９６２号各明細書等の（Ｉ表的な特許明
細書に記載されている。好ましく番よ、前言己のカプラ
ーは、処理の際に、色素形成性Ｆ、　Ａ　Ｒ暴露要素中
で、ルイス塩基の存在下で、酸イヒさね、た発色現像主
薬と反応してシアン色素を形成するフェノールおよびナ
フトールである。これらカプラーの例の構造を以下に示
す。

Ｒ２←−１１ 「 Ｈ ■ Ｈ ■ 前記の各式中において、Ｒ１はバラスト基であり、Ｒ２
は１以上のハロゲン例えば塩素または臭素；アルキル例
えば炭素原子１〜４個のアルキル例えばメチル、エチル
、プロピルおよびブチル；またはアルコキシ例えば炭素
原子１〜４個のアルコキシ例えばメトキシ、エトキシ、
プロポキシおよびブトキシであり、そしてＲ３は水素ま
たはカップリング脱ｍ基（すなわち、酸化形の還元剤と
カプラーとの反応の際に放出されることのできる基）で
ある。

酸化形の前記還元剤特には発色現像主薬との反応の際に
マゼンタ色素を形成するカプラーは、例えば米国特許第
２．６００．７８８号、第２，３６９，４８９号、第２
，３４３．７０３号、第２，３１１，０８２号、第３，
１５２．８９６号、第３．５１９，４２９号、第３．０
６２．６５３号、第２．９０８，５７３号および第４．
２４８，９６２号各明細書等の代表的な特許明細書に記
載されている。好ましくは、前記のカプラーは、酸化形
の前記の還元剤特に発色現像主薬と反応してマゼンタ色
素を形成するピラゾロン、ピラゾロトリアゾールおよび
ビラゾロイミダゾールである。マゼンタ色素形成性カプ
ラーの例の構造を以下に示す。

■ 前記の各式中で、Ｒ１とＲ３とは前記と同じ意味であり
、Ｒ２は前記と同じ意味であるかまたはフェニルもしく
は置換されたフェニル例えば２゜４．６−）リクロロフ
ェニルである。

酸化形の前記還元剤特には発色現像主薬との反応の際に
イエロー色素を形成するカプラーは、例えば米国特許第
２．８７５．０５７号、第２，４０７，２１０号、第３
．２６５．５０６号、第２，２９８．４４３号、第３，
０４８．１９４号、第３．４４７．９２８号および第４
．２４８，９６２号各明細書等の代表的な特許明細書に
記載されている。好ましくは、前記のイエロー色素形成
性カプラーは、アシルアセトアミド例えばベンゾイルア
セトアニリドおよびピバリルアセトアニリドである。こ
れらのイエロー色素形成性カプラーの例の構造を以下に
示す。

前記の各式中において、Ｒ１およびＲ３は前記と同じ意
味であり、Ｒ８は水素、１以上のハロゲン例えば塩素ま
たは臭素；アルキル例えば炭素原子１〜４個のアルキル
例えばメチル、エチル、プロピルおよびブチル；バラス
ト基例えば炭素原子１６〜２０個のアルコキシまたは炭
素原子１２〜３０個のアルキルである。

酸化形の前記還元剤特には発色現像主薬との反応の際に
黒色色素を形成するカプラーは、例えば米国特許第１．
９３９．２３１号、第２．１８Ｌ９４４号、第２．３３
３．１０６号、第４．１２６，４６１号、第４，４２９
．０３５号および第４．２００．４６６号各明細書等の
代表的な特許明細書に記載されている。好ましくは、前
記の黒色色素形成性カプラーは、レゾルシノール系カプ
ラーまたはｍ−アミノフェノール系カプラーである。こ
れらの黒色色素形成性カプラーの例の構造を以下に示す
。

以下余白 前記の各式中、Ｒ５は炭素原子３〜２０個のアルキルも
しくはフェニルであるか、またはヒドロキシ、ハロゲン
、アミノ、炭素原子１〜２０個のアルキルもしくは炭素
原子１〜２０個のアルコキシで置換されたフェニルであ
り、各Ｒ２は各々独立に水素、ハロゲン、アルキル例え
ば炭素原子１〜２０個のアルキル、アルケニル例えば炭
素原子１〜２０個のアルケニル、またはアリール例えば
炭素原子６〜２０個のアリールであり、Ｒ３は水素また
はカップリング脱離基であり、Ｒ４は１以上のハロゲン
、アルキル例えば炭素原子１〜２０個のアルキル、アル
コキシ例えば炭素原子１〜２０個のアルコキシ、または
前記のカプラーのカップリング活性に悪影響を与えない
、他の１個有機基である。

特に有用な具体的なカプラーは例えば２−アセトアミド
レゾルシノールである。

色素形成性ＥＡＲ要素、代表的には色素形成性ＥＴＲ要
素がカプラーを含む場合には、そのカプラーはタイミン
グ基（ＴＩＭＥ）を含むことができる。

タイミング基（ＴＩＭＥ）は、酸化形の還元剤特には酸
化形の発色現像主薬とカプラーとの反応の結果として、
カプラーから脱離され、その後で分子内観核置換反応の
ような反応を受けて有用基（ＲＵＧ）を放出する。前記
のカプラーはカプラー部分と有用基との間にタイミング
基を含むことができ、従って酸化形の還元剤特には酸化
形の発色現像主薬とカプラーとの反応がタイミング基と
カプラーとの間の結合を開裂し、そして続いて有用基と
タイミング基との間を開裂する。

タイミング基と放出性有用基とをもつカプラーは構造式 ％式％ （式中、ｃｏｕｐはカプラー部分であり、ＴＩＭＥはタ
イミング基であり、ＲＵＧは放出性有用基である）で表
される。ｃｏｕｐは、酸化形の還元剤特に酸化形の発色
現像主薬と反応してＴＩＭＥ−ＲＵＧを放出する任意の
カプラー部分であることができる。Ｃ０ＵＰとしては、
写真技術において有用であることが知られているカプラ
ー部分が含まれる。ＴＩＭＥ基は、酸化形の還元剤とｃ
ｏｕｐとの反応の際に放出されることのできる任意のタ
イミング基であることもできる。ＴＩＭＥ基は、写真技
術においてカプラーと共に有用であることが知られてい
るＴＩＭＥ基の任意のもの、例えば米国特許第４，２４
８，９６２号および第４．４０９．３２３号各明細書に
記載のものであることができる。放出性有用基（ＲＵＧ
）は、色素形成性ＥＡＲ要素の処理の際に放出されるこ
とができ、有用な色素像の提供を促進する任意の有用基
であることができる。

本明細書において「カプラー」および「カプラー化合物
」とは、カプラー部分と場合によりタイミング基と場合
により有用基（カプラー部分と直接にまたは間接的に結
合しているものとする）とを含む化合物全体を意味する
。本明細書において「カプラー部分」とは、タイミング
基（存在する場合）および他の有用基以外のカプラーの
部分を意味する。

カプラーの場合には、色素形成性ＥＡＲ要素中でのその
位置を維持するために、カプラー部分をバラスト化また
は非バラスト化することができる。

カプラーは、モノマー、オリゴマーまたはポリマーカプ
ラー、あるいはそれらカプラーの組合せであることがで
きる。カプラーの組合せが特に有用である。

色素形成性ＥＡＲ要素の熱処理の際に形成される生成物
は、（Ｉ）着色および非拡散性、（２）着色および拡散
性、または（３）無色および拡散性もしくは非拡散性（
この場合には、これは像密度に寄与がない）であること
ができる。前記の（２）および（３）の場合には、反応
生成物を最初は着色化および／または非拡散性にし、し
かし処理の間に無色および／または拡散性生成物に変換
することができる。前記（３）の場合には、色素形成性
ＥＡＲ要素中または場合により存在する隣接の像受容体
中の別の成分との反応によって、前記の反応生成物を、
着色および拡散性または非拡散性に変換することもでき
る。

ＲＵＧは、色素形成性要素において、好ましくは像様の
態様で、望ましいように利用可能にされる任意の基であ
ることができる。ＲＵＧは、放出の際に、要素中の成分
（例えば現像抑制剤、現像促進剤、カプラー例えば競合
的カプラー、色素形成性カプラー、ＤＩＲカプラー、現
像主薬例えば競合的現像主薬、トナー、硬化剤、タンニ
ング剤、カブリ剤、カブリ防止剤、化学増感剤、分光増
感剤および減感剤）と反応する色素または試薬であるこ
とができる。

色素を放置して一体型または分離型の受容層に拡散させ
て所望の像を形成する方法に、色素または色素前駆体を
放出するカプラーを使用することができる。あるいは、
色素を或る位置に保持することができる。その位置とは
、色素を放出すると、色素を放出するカプラーから形成
される色素の密度を増大するか、または、その色素また
は別の色素の色相を変性または修正する位置である。別
の態様においては、色素を要素から完全に除去すること
ができ、そしてカプラーから放出されなかった色素をカ
ラー修正用マスクとしてＥＡＲ要素中に維持することが
できる。

色素形成性カプラーまたはカプラーの組合せは、前記記
録層中の濃度範囲において有用である。記録層は一般に
、記録層中の還元剤または還元剤前駆体１モル当り色素
形成性カプラー約０．１〜約１０モルの範囲内である或
る濃度の色素形成性カプラーを含有する。色素形成性カ
プラーの特に有用な濃度は、記録層中の還元剤または還
元剤前駆体１モル当り色素形成性カプラー約０．５〜約
２．０モルの範囲内である。

色素形成性カプラーの最適濃度の選択は、具体的なカプ
ラー、所望の像、処理条件およびＥＡＲ層中の他の成分
等の要因に依存する。

任意のコバルＩ−（ＩＩＩ）ルイス塩基錯体が成分（ｂ
）として有用である。成分（ｂ）は、電気的暴露の際に
色素形成性ＥＡＲ要素中の潜像形成を可能にするかまた
は促進し、そして暴露後の色素形成性ＥＡＲ要素の処理
の際にルイス塩基を放出する。本明細書においてルイス
塩基は、通常の有機化学の教科書例えば（：ｊｌｌｏｌ
ｌｅｒ、”７ｈｅ　Ｃｈｅｅ＋１ｓｔｒｙｏｆ　Ｏｒｇ
ａｎｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ’第２版、Ｈ，Ｂ、　５
ａｕｎｄｅｒｓ社、フィラデルフィアおよびロンドン（
Ｉ９５８）第２３６頁においてそれらの用語について示
されているものと同じ意味で用いる。

前記のコバルト（Ｉ［［）錯体像形成性材料は像形成技
術において公知であり、例えば、Ｒｅ５ｅａｒｃｈＤｉ
ｓｃ１ｏｓｕｒｅ、Ｖｏｌ、１６８．Ｉｔｅｗ＋　Ｎｏ
、１６８４５；　Ｒｅ５ｅａｒｃｈＤｉｓｃ１ｏｓｕｒ
ｅ、Ｖｏｌ、１２６．Ｉｔｅｍ　Ｎｏ、１２６１７；　
Ｒｅ５ｅａｒｃｈＤｉｓｃ１ｏｓｕｒｅ、Ｖｏｌ、１８
５．Ｉｔｅｍ　　Ｎｏ、１８５３５；　　Ｒｅ５ｅａｒ
ｃｈＤｉｓｃ１ｏｓｕｒｅ、Ｖｏｌ、１５８．ＩｔｅＩ
ＩＮｏ、１５８７４；　Ｒｅ５ｅａｒｃｈＤｉｓｃ１ｏ
ｓｕｒｅ、Ｖｏｌ、１Ｂ４．Ｉｔｅｗ　Ｎｏ、１８４３
６；米国特許第４．２７３．８６０号、英国特許公開筒
２．０１２．４４５Ａ号、欧州特許第１２．８５５号お
よび国際特許公開−０第８０１０１３２２号各明細書に
記載されている。

好ましいコバルト（Ｉ）錯体は、総称的にリガンドと称
される原子、イオンまたは他の分子の群に取囲まれたコ
バルトの原子またはイオンをもつ分子であることを特徴
とする。これら錯体の中心のコバルト原子またはイオン
はルイス酸であり、−方、リガンドはルイス塩基である
。３価のコバルト錯体すなわちコバル）　（ＩＩ［）錯
体は、リガンドがそれら錯体中に比較的強く維持され、
しかもコバルトが、（ＩＩ）状態に還元されると放出さ
れるので、有用である。

必ずしも必要ではないが、銀塩は前記の色素形成性ＥＡ
Ｒ要素において有用である。多くの有機銀塩酸化剤が、
記録層中の前記像形成性組合せにおいて有用である。有
機銀塩酸化剤は代表的には照明の際の暗色化に抵抗性で
ある。有用な銀塩酸化剤の１つの群は、光に安定な長鎖
脂肪酸の銀塩によって示される。ここで「長鎖」とは、
炭素原子１０〜３０個の炭素原子の鎖を意味する。有用
なこの群に含まれる化合物は、例えば、ベヘン酸銀、ス
テアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリル酸銀、ヒドロキ
システアリン酸銀、カプル酸銀、ミリスチン酸銀および
パルミチン酸銀である。

ルイス塩基によって活性化することができ、Ｇｏ（Ｉ［
Ｉ）錯体を還元させそして所望の色素像を形成させるこ
とのできる任意の還元剤または還元剤前駆体が成分（ａ
）として有用である。最適の還元剤または還元剤前駆体
は、色素形成性ＥＡＲ要素中の具体的成分、特には成分
（ｂ）および成分（Ｃ）、および処理条件に依存して選
択する。

酸化形において前記の色素形成性カプラーと色素を形成
する任意の還元剤または還元剤前駆体が、本発明による
色素形成性ＥＡＲ要素において有用である。還元剤は代
表的には有機ハロゲン化銀発色現像主薬である。還元剤
の組合せが有用である。

処理条件下において前記色素形成性カプラーと反応して
所望の色素を生成することのできる酸化形を、還元剤が
生成することが重要である。特に有用な還元剤は第１芳
香族アミン例えばパラフェニレンジアミンである。第１
芳香族アミンである有用な還元剤の例は以下のとおりで
ある。

ｎ−アミノフェノール−２，６−ジクロロ−４−アミノ
フェノール； ４−アミノ−Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン；４−アミノ−
Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン：４−アミノ−３−メチル−
Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン（Ｎ、Ｎ−ジエチル−３−メ
チル−パラフェニレンジアミンとしても知られている）
：４−アミノ−Ｎ−エチル−Ｎ−Ｂ−ヒドロキシエチル
アニリン： ４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−Ｂ−ヒドロ
キシエチルアニリン； ４−アミノ−３−メトキシ−Ｎ−エチル−Ｎ−Ｂ−ヒド
ロキシエチルアニリン； ４−アミノ−Ｎ−ブチル−Ｎ−ガンマ−スルホブチルア
ニリン； ４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−Ｂ−スルホ
エチルアニリン； ４−アミノ−３−Ｂ−（メタンスルホンアミド）エチル
−Ｎ、Ｎ−ジエチルアリエン； ４−アミノ−３−Ｂ−（メタンスルホンアミド）エチル
アニリン； ４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−Ｂ−メトキ
シエチルアニリン等。

これらアミンの塩例えば塩酸塩またはヒドロテトラフル
オロボレートも有用である。

有用な還元剤または還元剤前駆体はスルホニルヒドラゾ
ンである。

前記の還元剤は、本発明の色素形成性ＥＡＲ要素におい
て或る濃度範囲で有用である。還元剤または還元剤の組
合せの最適濃度は、所望の像、色素形成性ＥＡＲ要素中
の他の成分、処理条件等の要因に依存して選択する。還
元剤または還元剤の組合せの有用な濃度は、前記の記録
層中のＣｏ（Ｉ［［）錯体１モル当り還元剤約０．１〜
約１０モルの範囲内である。還元剤の特に有用な濃度は
、色素形成性ＥＡＲ層中のＣｏ（ＩＩＩ）錯体１モル当
り還元剤約０．２〜約２モルの範囲内である。

前記の色素形成性ＥＡＲ要素は、バインダーを含むこと
は必要ではないが、代表的には含んでいる。前記の色素
形成性ＥＡＲ要素は代表的には、各種のコロイドおよび
ポリマーを単独または組合せで、ビヒクルおよび結合剤
として含んでいる。

これらのビヒクルおよび結合剤は前記要素の各種の層特
に色素形成性ＥＡＲ層中に存在する。有用な材料は、疎
水性または親水性である。しかしながら、要素中のビヒ
クルまたはバインダーは前記要素の電荷感受性またはオ
ーム抵抗率に悪影響を与えないことが必要である。従っ
て、最適のコロイドまたはポリマーあるいはコロイドま
たはポリマーの組合せの選択は、望ましい電荷感受性、
望ましいオーム抵抗率、具体的なポリマー、層中の具体
的成分、望ましい像および具体的な処理条件等の要因に
依存する。有用なコロイドおよびポリマーは透明または
半透明であり、天然物質例えばタンパク質例えばゼラチ
ン、ゼラチン誘導体、セルロース誘導体、多糖類例えば
デキストラン、アラビアゴム等が含まれる。しかしなが
ら、合成ポリマーは、望ましい電荷感受性およびオーム
抵抗率をもつので好ましい。この目的に有用なポリマー
材料としては、ポリビニル化合物例えばポリ（ビニルピ
ロリドン）、アクリルアミドポリマーおよび分散ビニル
化合物例えばラテックス形のものが含まれる。有効なポ
リマーとしては、アルキルアクリレートおよびメタクリ
レート、アクリル酸、スルホアルキルアクリレート、メ
タクリレートの水不溶性ポリマー、並びに硬化促進架橋
部位をもつそれらポリマーが含まれる。特に有用なポリ
マーは、色素形成性ＥＡＲ要素の前記成分と相溶性のあ
る高分子材料および樹脂である。これらとしては、例え
ば、ポリ　（ビニルブチラール）、セルロースアセテー
トブチレート、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ　
（ビニルピロリドン）、エチルセルロース、ポリスチレ
ン、ポリ（塩化ビニル）、ポリ　（イソブチレン）、ブ
タジェン−スチレンコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニ
ルコポリマー、酢酸ビニルと塩化ビニルとマレイン酸と
のコポリマー、およびポリ　（ビニルアルコール）が含
まれる。前記の要因によっては、コロイドとポリマーと
の組合せも有用である。好ましいバインダーとしζは、
セルロースエステル例えばセルロースアセテートブチレ
ートおよびアクリル酸エステル例えばポリ　（メチルメ
タクリレート）が含まれる。

前記の色素形成性ＥＡＲ要素特に前記の色素形成性ＥＴ
Ｒ要素において有用な高分子バインダーの例としては、
ポリ　（ビニルピロリドン）が代表である。この群のバ
インダーに含まれる特に有用な高分子バインダーは、ポ
リ　（酢酸ビニル−２−ビニルベンゾエート−ツーＮ−
ビニル−２−ピロリドン）である。

前記の色素形成性ＥＡＲ要素上においてはオーバーコー
ト層が有用である。オーバーコート層は前記要素の望ま
しい電荷感受性およびオーム抵抗率の特性に悪影響を与
えないことが重要である。

前記のオーバーコート層は、暴露および処理の前後の指
紋および摩耗マークを減少させる。このオーバーコート
層は、バインダーとして有用な１以上の前記のポリマー
である。これらの材料は前記要素の他の成分と相溶性で
なければならず、そして前記の像を現像するのに有用な
処理温度に耐えることができることが必要である。

前記の方法用の色素形成性ＥＡＲ要素においては、色素
像形成用層を分離するために、障壁層特に高分子障壁層
が有用である。ポリマーが色素形成性ＥＡＲ要素の望ま
しい電気的および像形成性の特性に悪影響を与えず、し
かも障壁層および要素中の他の層特に隣接層中の成分と
相溶性である限り、任意のポリマーが障壁層として有用
である。

障壁層として非常に有用なポリマーは、アミン掃去剤と
しての機能をもつポリマーすなわち暴露された色素形成
性ＥＡＲ要素の処理の際に色素形成用層によって放出さ
れるアミン例えばプロパンジアミンと反応することので
きる基を含むポリマーである。

高分子障壁層用の有用なポリマーの例を以下に示す。

ポリ　（アクリルアミドーコーＮ−（４−（２−クロロ
エチルスルホニルメチル）フェニルコアクリルアミド−
コーナトリウム−２−アクリルアミド−２−メチルプロ
パンスルホネート）　（重量比ポリ　（アクリルアミド
ーコーＮ−（３−（２−クロロエチルスルホニルプロピ
オニルアミノメチルコアクリルアミド）　（重量比８０
／２０）ポリ　（アクリルアミドーコーＮ−（３−（ク
ロロアセトアミド）−プロピル〕メ゛タクリルアミドー
コーナトリウム２−アクリルアミド−２−メチルプロパ
ンスルホネート）（重量比７５／２０／　５　）ポリ　
（アクリルアミドーコ−Ｎ−（３−（２−クロロエチル
スルホニル）−プロピオニルアミノメチルコアクリルア
ミド−コーナトリウム２−アクリルアミド−２−メチル
プロパンスルホネート（重量比７５／２０／　５　） ポリ　（ナトリウム２−アクリルアミド−２−メチルプ
ロパンスルホネートーコーＮ−（３−（２−クロロエチ
ルスルホニル）プロピオニルアミノメチルコアクリルア
ミド）　（モル比３／１；重量比６８／３２） ポリ　（ナトリウム２−アクリルアミド−２−メチルプ
ロパンスルホネートーコーＮ−（３−（クロロアセトア
ミド）プロピルツーメタクリルアミド）　（モル比３／
１；重量比７３／２７）ポリ　（ナトリウム２−アクリ
ルアミド−２−メチルプロパンスルホネートーコ−Ｎ−
（４−（２−クロロエチルスルホニルメチル）−フェニ
ルコアクリルアミド）　（モル比３／１；重量比６７／
３３）ポリ　（アクリルアミドーコ−Ｎ−（３−（クロ
ロアセトアミド）−プロピル〕メタクリルアミド）（重
量比８０　／　２０） ポリ　（アクリルアミドーコーＮ−（４−（２−クロロ
エチルスルホニルメチル）フェニルコアクリルアミド）
　（重量比９５１５） ポリ　（アクリルアミドーコーＮ−（４−（２−クロロ
エチルスルホニルメチル）フェニルコアクリルアミド）
　（重量比８０／２０） ポリ　（アクリルアミドーコーｍ−およびｐ−（２−ク
ロロエチルスルホニルメチル）スチレン−コーナトリウ
ム２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホネー
ト〕　（重量比７５／２０／　５　）ポリ　（アクリル
アミドーコーＮ−（３−（２−クロロエチルスルホニル
）プロピオニルアミノメチルコアクリルアミド）　（重
量比８０／２０）ポリ　（アクリルアミドーコーアクリ
ル酸〕（重量比７０／３０） スチレン−ブタジェンコポリマーは単独では障壁層とし
て有用ではない。なぜなら、そのコポリマーは、眉間の
成分の望ましくない程度の移動を制御または防止する充
分な障壁特性をもたないからである。

障壁層の厚さは、層間成分の移動の望ましい制御または
防止を可能とするのに充分なものである。

代表的には、障壁層の厚さは０．１〜２．０μｍの範囲
内である。

多くの場合、前記の色素形成性ＥＡＲ要素および方法に
おいては、感光性成分は不必要でありそして望ましいも
のではない。感光性成分とは、電荷暴露の際に現像可能
な核を生成する任意の感光性金属塩または錯体である。

感光性成分が記録層中に存在する場合には、特に有用な
感光性金属塩は、暴露の際の現像可能核を形成する望ま
しい性質により、感光性ハロゲン化銀である。好ましい
感光性ハロゲン化銀は、塩化銀、臭化銀、臭沃化銀また
はそれらの混合物である。沃化銀も感光性ハロゲン化銀
であるものと考えられる。

非常に微細な粒子状写真ハロゲン化銀が有用である。し
かしながら、微細粒子から粗粒子の範囲の写真ハロゲン
化銀が、所望により、記録材料中に含まれる。写真ハロ
ゲン化銀は、写真技術において公知の任意の方法によっ
て調製する。

前記の電気的に活性化された記録層中に感光性成分が存
在する場合には、前記の像形成用の組合せは、感光性成
分の濃度を、感光性要素において通常期待されているも
のよりも低くすることができる。このより低い濃度は、
現像可能な核の形成および前記の像形成用組合せの増大
効果によって可能になる。或る場合においては、感光性
金属塩の濃度が充分に低いので、感光性金属塩単独の像
様暴露および現像の後で、前記の像形成性成分の他のも
のの不在下では、現像化像が肉眼では見えない。

色素形成性ＥＴＲ材料として有用な成分の組合せの例は
、高分子バインダー中のコバルト（ｎ［）アミン錯体と
、酸化性色素形成剤例えば４−ニトロカテコール、スル
ホンアミドジフェニルアミン例えば４−ｎ−へキシルオ
キシ−２′−ピバルアミド−４’−（２，４，６−ドリ
イソプロビルフエニル）−Ｎ−スルホンアミドジフェニ
ルアミンまたはメチレンビス（４−ヒドロキシ−３−（
２゜４．６−）リイソプロピルフェニル）スルホンアミ
ドベンゼン〕またはスルホンアミドフェノール例ｔば２
，６−ジクロロ−４−フェニルスルホンアミドフェノー
ルとの組合せである。前記の色素形成性カプラーは成分
の前記組合せ中に存在することもできる。

前記の要素は、所望により、望ましい像の生成を促進す
る添加剤を含有する。これらの添加剤としては、例えば
、感度増加化合物としての機能をもつ現像修正剤、硬化
剤、可塑剤および潤滑剤、塗布助剤、増白剤、増感色素
、吸収剤並びにフィルター色素が含まれる。これらの添
加剤は例えば、Ｒｅ５ｅａｒｃｈ　　Ｄｉｓｃｌｏｓｕ
ｒｅ、Ｖｏｌ、１７６．１９７８．１２月、ｉｔｅｍ１
７６４３に記載されている。

前記の要素は導電性支持体を含む。本明細書において「
導電性支持体」とは、（ａ）望ましい程度の導電率を生
成するために支持体中にまたは支持体上に別の添加剤を
加える必要なしに導電性である支持体、および（ｂ）望
ましい程度の導電率を可能にする添加剤または別の導電
性層を含む支持体を含むものである。有用な支持体とし
ては、導電性のセルロースエステル、ポリ（ビニルアセ
クール）、ポリ　（エチレンテレフタレート）、ポリカ
ーボネートおよびポリエステルのフィルム支持体並びに
関連するフィルムおよび樹脂状材料が含まれる。他の支
持体例えば前記の処理温度に耐えることができ、望まし
い電荷感受性およびオーム抵抗率に悪影響を与えないガ
ラス、紙、金属等が有用である。可撓性支持体が最も有
用である。

各種の層が支持体に接着することが必要である。

この目的には下塗層が有用である。前記の下塗層は例え
ばポリ　（メチルアクリレートーコー塩化ビニリデンー
コーイタコン酸）下塗層である。

好ましいコバルト＜ｍ＞ｔｉ体は、配位数６をもつもの
である。コバルト（ＩＩＩ）錯体を生成するには、広範
なリガンドが有用である。好ましいコバルト（Ｉ）錯体
は、アミン発生を促進するものである。コバルト（■）
のキレート化に依存して添加色素密度を形成するコバル
）　（Ｉ［［）錯体も、本発明による材料において有用
である。本発明によるコバルト（ＩＩＩ）錯体中の有用
なアミンリガンドとしては、例えば、メチルアミン、エ
チルアミン、エチレンジアミン、プロパンジアミン、ア
ンミン、およびアミノ酸例えばグリシナトが含まれる。

ここで「アンミン」とはリガンドとして機能する場合に
はアンモニアを意味し、「アミン」は前記の広い意味で
使用する。ジアミンおよびアンミンは色素像の生成に非
常に有用である。

コバルト（ＩＩ）錯体は、アニオンまたはカチオンのい
ずれかを完全に含まない中性化合物を含む。

コバル）　（Ｉｌｌ）錯体は電荷中和側で測定した場合
に、１以上のカチオンおよびアニオンを含む。ここで、
「アニオン」および「カチオン」とは、特に断らない限
り、非リガンドアニオンおよび非リガンドカチオンを意
味する。有用なカチオンは、易溶性コバルト（Ｉｌｌ）
　８体を生成するもの例えばアルカリ金属および４級ア
ンモニウムカチオンである。

広範なアニオン例えばＲｅ５ｅａｒｃｈ　　Ｄｉｓｃｌ
ｏｓｕｒｅ。

Ｖｏｌ、１８４．　Ｉｔｅｍ　ｔ１ｍ１８４３６に記載
のものが有用である。最適アニオンの選択は、アニオン
に感受性であるかまたは反応性の添加化合物が存在する
か否かに部分的に依存する。

コバルト（ＩＩＩ）錯体の例を表■に示す。コバルト（
■）錯体の更に別の例は米国特許第４．３３４．００５
号明細書の表■に示されている。

表−ヱ コバルト（ＩＩＩ）錯体の例 Ｃ−ｔ　　ヘキサンミンコバルト（■）トリフルオロア
セテート Ｃ−２クロロペンタアンミンコバルト（ＩＩＩ）　フロ
マイト Ｃ−３ビス（エチレンジアミン）ジ−アンミンコバルト
（Ｉ）ベルクロレート Ｃ−４ビス（メチルアミン）テトラアンミンコバルト（
Ｉ）へキサフルオロホスフェート Ｃ−５トリニトロトリスアンミンコバルト　（ＩＩ）Ｃ
−６トリス（Ｉ，３−プロパンジアミン）コバルト（■
）トリフルオロアセテート Ｃ−７ビス（ジメチルグリオキシム）エチルアクオコバ
ルト（Ｉ［Ｉ） Ｃ−８ペンタアンミンカルボナトコバルト（Ｉ［［）ニ
トレート Ｃ−９）ランス（ビス（エチレンジアミン）ジアジドコ
バルト（■）〕クロライド Ｃ−１０ビス（エチレンジアミン）ジチオシアナトコバ
ルト（ＩＩＩ）フルオライド Ｃ−１１）リエチレンテトラミンジニトロコバルト（■
） Ｃ−１２トリス（Ｉ，３−プロパンジアミン）コバルト
（■）トリフルオロメタンスルホネート 或るコバルト（Ｉ）錯体はそれ自体アミン応答性であり
、アミンへの暴露の際に、それらのルイス塩基を放出す
ることができる。これらの錯体は好ましくはアンモニア
開裂性結合例えばジカルコゲニド結合を含んでいる。こ
れらの錯体は、還元剤の存在下で還元を行なうことので
きる塩基放出性錯体として、および像増大剤としての機
能をもつという別の利点をもつ。

有用なルイス塩基の例としては、アンモニア、アミン、
ヒドロキシルイオン、カルボキシレート、メルカプチド
、チオシアネート、アルキルまたはアリールスルフィネ
ート、シアニドまたはスルフイツトが含まれる。

本発明方法の目的においては、還元剤前駆体は、ルイス
塩基への暴露の際に還元剤を形成する任意の化合物であ
る。還元剤は、元々組成物中に含有されていてもまたは
還元剤前駆体から形成されるにしても、前記塩基への暴
露の際に還元活性の増加を受ける。

ルイス塩基への暴露の際に還元剤を形成する有用な還元
剤前駆体〔その還元剤が還元性色素前駆体およびルイス
塩基リガンド放出性コバルト（Ｉ［Ｉ）錯体を還元する
ことができるものとする〕としては、キノン、フタルア
ルデヒド、チオアミド例えばチオ尿素、チオアセトアミ
ド、およびチオセミカルバジド例えば１，４−ジフェニ
ル−３−チオセミカルバジドが含まれる。前記のルイス
塩基例えばアンモニアおよび第１または第２アミンは前
記の還元剤前駆体と還元的付加を受けて相当する還元剤
を形成することができる。

特に有用な還元剤前駆体の例はキノンである。

好ましいキノンは、カルボニル基に隣接するキノイド環
位（例えば、１．４−ベンゾキノンおよび１．４−ナフ
トキノンの場合には、２または３−還付）の少なくとも
１つで非置換のものである。

キノイド環上の置換基の少なくとも１個は電気陰性のも
の、例えばケト、カルボン酸、カルボキシレート、カル
ボン酸アミド、カルボン酸エステル、スルホン酸エステ
ル、スルホン酸アミド、シアノ、ニトロ、ハロまたはア
リールである。キノンの例としては以下のものが含まれ
る。

２−アセチル−５−メチル−１，４−ベンゾキノン ２−フェニル−１，４−ベンゾキノン ２−フェニルスルホニル−１，４−ベンゾキノン ２−メトキシ−１，４−ベンゾキノン ２−フェニル−１，４−ナフトキノン ２−アセチル−１，４−ナフトキノン ２−ｎ−ブトキシカルボニル−１，４−ベンゾキノン ２−フェニルスルホンアミド−１，４−ベンゾキノン ２−ｔ−ブチル−１，４−ベンゾキノン２−フェニルス
ルホニル−５，６−シメチルー１．４−ベンゾキノン 成分（Ｃ）がテトラゾリウムまたはトリアゾリウム塩で
ある場合に特に有用な還元剤は、ルイス塩基（これは酸
化形の還元剤に対する還元的付加を行なうことができる
ものとする）への暴露の際にイオン化されることができ
るものであるか、あるいは加熱の際に還元活性の増加を
受けるものである。但し、ここで前記の増加の後で、そ
の還元剤は色素形成性化合物およびルイス塩基リガンド
放出性コバルト（ＩＩＩ）錯体を還元することができる
ものとする。還元剤の活性は、還元性色素形成性化合物
およびコバル）　（ＩＩＩ）錯体に対して安定であるの
に充分に低く、そしてルイス塩基に応答して反応列を開
始するのに充分に高い必要がある。

反応列の間に、コバルト（ＩＩＩ）錯体によって放出さ
れたルイス塩基リガンドは還元剤の活性を増加し、そし
て酸化された還元剤による還元付加を受けることができ
る。

成分（Ｃ）がテトラゾリウムまたはトリアゾリウム塩で
ある場合には、ヒドロキノンは還元剤として特に有用で
ある。

本発明の実施に有用なヒドロキノンの例としては以下の
ものが含まれる。

２−アセチル−５−メチルヒドロキノン２−フェニルス
ルホニルヒドロキノン ２−ｎ−ブチルスルホニルヒドロキノン２−α−ベンジ
ルスルホニルヒドロキノン２−メチルスルホニルヒドロ
キノン ２−メチルスルホニル−３，５−ジクロロヒトロキノン ２．６−ジクロロヒドロキノン ２−スルホフェニル−５，６−シメチルヒドロキノン ２−β−ナフチルスルホフェニルヒドロキノン２−カル
ボキシ−１，４−ヒドロキノンコバル）　（ＩＩＩ）ル
イス塩基錯体を含む、色素形成性ＥＡＲ層の安定性は、
部分的に、錯体用アニオンの選択に依存している。アニ
オンの好ましさの順序は、具体的コバルト（ＩＩＩ）ル
イス塩基、具体的カプラー、現像主薬、および色素形成
性ＥＡＲ要素の他の成分によって変化する。トリス（ト
リメチレンジアミン）コバルト（ＩＩ）錯体について、
貯蔵中の貯蔵安定剤に基づくアニオンの好ましさの順序
は以下のとおりである。

（Ｉ）ＣｈＳ（ｈｅｌ（２）Ｃ３ＦｖＣＯｔｅ−（３）
ＣＦ３ＣＯ□ｅ、　　（４）Ｂｐ４ｅ。

色素形成性ＥＡＲ要素の像形成性層中の少なくとも１層
は、コバルト（ＩＩＩ）アミン錯体および色素形成性カ
プラーと共に、場合によりヒドラゾン還元剤例えばスル
ホニルヒドラゾン還元剤を含むことができる。前記の像
形成性層は、像形成を促進する［１えば１）−）ルエン
スルホン酸も含んでいることができる。有用なヒドラゾ
ン還元剤の例は以下のとおりである。

Ｈ３ Ｈｓ 写真技術において公知の任意の色素形成性カプラーまた
は色素形成性カプラーの組合せは、ヒドラゾン還元剤に
対して有用である。スルホニルヒドラゾン還元剤と共に
イエロー色素を形成する色素形成性カプラーまたは色素
形成性カプラーの組合せが特に有用である。

前記の方法で有用な色素形成性ＥＡＲ要素の他の例は、
（ａ）酸化形で酸化カップリングを行なうことのできる
スルホニルヒドラゾン還元剤特には塩基活性化スルホニ
ルヒドラゾン還元剤、（ｂ）コバルト（Ｉ）アミン錯体
、（ｃ）場合により、配合された酸例えばＩ）−）ルエ
ンスルホン酸または安息香酸、および（ｄ）酸化形の還
元剤と反応して色素を形成することのできる色素形成性
カプラーの組合せからなる。前記の組合せは、暴露およ
び処理の際に、望ましい色素形成反応を可能にする、高
分子バインダー内にあることが好ましい。

前記の成分の組合せは、有用なサーモグラフィック像形
成用材料も提供する。代表的には望ましいものではない
が、ホトサーモグラフィック材料波術において公知のホ
トリダクタントまたはホトイニシエーターを配合すると
像形成用材料をホトサーモグラフィック像形成用材料と
することもできる。

ここで添付図面を参照すると、第１図、第２図および第
３図に本発明方法に有用な要素の例を示す。第１図に示
す要素は、導電性支持体（５）代表的には透明の導電性
支持体上に、障壁層（７）代表的には高分子酸障壁層に
よって隔離された第１の色素形成性ＥＡＲ記録層（Ｉ）
と第２の色素形成性ＥＡＲ層（３）とを含む。層（Ｉ）
および層（３）は、電気的暴露の極性に応じて色相の異
なる色素像を形成することができるか、または例えば密
度の異なる同じ色相の色素像を形成することができる。

例えば、層（Ｉ）は、正電荷暴露および処理の際にシア
ン、マゼンタ、イエロー、赤色、緑色、青色または黒色
の色素像を提供することができ、そして層（３）は負電
荷暴露および処理の際に層（Ｉ）の色相とは異なる色相
の色素像を提供することができる。

第２図に示す要素は、導電性支持体（Ｉ５）の第１の側
面上に、障壁層（Ｉ１）によって隔離された第１の色素
形成性ＥＡＲ記録層（９）と第２の色素形成性ＥＡＲ層
（Ｉ３）とを含む。導電性支持体（Ｉ５）は、第１側面
の反対側の面上に、障壁層（Ｉ９）によって隔離された
第３の色素形成性ＥＡＲ層（Ｉ７）と第４の色素形成性
ＥＡＲ層（２１）とを担持する。色素形成性層（９）、
　（Ｉ３）、　（Ｉ７）および（２１）の各層は、他の
色素形成性層の各々の色相とは異なる色相の色素像を提
供することができる。例えば、層（９）はシアン色素像
を、層（Ｉ３）はマゼンタ色素像を、層（Ｉ７）はイエ
ロー色素像を、そして層（２１）は黒色色素像を提供す
ることができる。

本発明方法で有用な要素の別の例を第３図に示す。第３
図の要素において、導電性支持体（３１）は、第１の側
面上に、オーバーコート層（２３）例えばポリ　（ビニ
ルブチラール）または透明シリコーンゴムオーバーコー
ト、イエロー色素像を形成することのできる色素形成用
層（２５）　、障壁層（２７）およびマゼンタ色素像を
形成することのできる色素形成用層（２９）を担持する
。導電性支持体（３１）は、第１の側面の反対側の面上
に、オーバーコート層（３９）例えばポリ　（ビニルブ
チラール）または透明シリコーンゴムオーバーコート、
黒色色素像を形成することのできる色素形成用層（３７
）　、障壁層（３５）例えば高分子酸障壁層およびシア
ン色素像を形成することのできる色素形成用層（３３）
を担持する。

前記の各図面に示す導電性支持体は、例えば、下塗層（
図示せず）例えばポリ　（アクリル酸アルキルーコー塩
化ビニリデンーコーイタコン酸）層からなる下塗層を順
に担持したポリ（エチレンテレフタレート）フィルムか
らなることができる。

下塗層上には、導電性層（図示せず）例えばサーメツト
層があることができる。前記の導電層（図示せず）はそ
の上に、色素形成性ＥＡＲ要素の感受性を増加すること
のできるポリマー層（図示せず）例えば米国特許第４．
３４３．８８０号明細書に記載の電気活性導電層ＣＥＡ
Ｃ層：　ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙａｃｔｉｖｅ　ｃｏ
ｎｄｕｃｔｉｖｅ）をもつことができる。その様な電気
活性導電層（ＥＡＣ層）は、例えば、ポリ（アクリル酸
アルキルーコー塩化ビニリデンーコーイタコン酸）層で
あることができる。下塗層（図示せず）および／または
ＥＡＣ層用の有用なポリマーは、例えば米国特許第３．
２７Ｌ３４５号明細書に記載されている。

以下の表■および第４図の色素形成性ＥＡＲ要素に示す
とおり、正極性電荷暴露は、前記要素の他層中に潜像を
形成せずに、層（４９）内に現像可能な潜像を形成する
。負極性電荷暴露は、前記層の他の層中に像を形成せず
に、層（４１）内に現像可能な潜像を形成する。

以下余白 高い負の、または高い正の極性電荷暴露は、処理の際に
、層（４１）および／または層（４９）からの伝染現像
によって層（４５）中に色素像の現像を起こす。

第４図の色素形成性ＥＴＲ要素を高い負極電荷暴露例え
ば１０ミリクーロン／−〜１０クーロン／−の電荷暴露
に露すと、処理の際に、層（４１）および層（４５）の
両方に色素像が形成される。層（４５）中の色素像は層
（４１）からの伝染現像によって形成される。

第４図の色素形成性ＥＴＲ要素を高い正極電荷暴露例え
ば１０ミリクーロン／ｉ〜１０クーロン／ｃｄの電荷暴
露に露すと、処理の際に、層（４９）および層（４５）
の両方に色素像が形成される。層（４５）中の色素像は
層（４９）からの伝染現像によって形成される。

第４図の色素形成性ＥＴＲ要素を高い負極電荷暴露およ
び続いて高い正極電荷暴露に露すと、処理の際に、層（
４１）　、層（４５）および層（４９）の各々に色素像
が形成される。層（４５）中の色素像は層（４１）およ
び層（４９）からの伝染現像によって形成される。

第４図の色素形成性ＥＴＲ要素を最初に低い負極電荷暴
露例えば１０ミリクーロン／ｃｌｉ〜１クーロン／ｉに
露し、続いて低い正極電荷暴露例えば１０ミリクーロン
／ｉ〜１クーロン／ｉに露すか、あるいは最初に低い正
極電荷暴露例えば１０ミリクーロン／ｉ〜１クーロン／
ｉに露し、続いて低い負極電荷暴露例えば１０ミリクー
ロン／ｅｌｌ〜１クーロン／ｉに露すと、層（４１）内
の潜像形成および層（４９）内の潜像形成がもたらされ
る。処理の際に、要素内の他の層に色素像を形成するこ
となしに、層（４９）および層（４１）内に色素像が形
成される。

第４図の色素形成性ＥＴＲ要素を低い負極電荷暴露例え
ば１０ミリクーロン／ｉ〜１クーロン／ｉの電荷暴露に
露すと、処理の際に、層（４１）に色素像が形成される
。この要素の他の層中には色素像が形成されない。

第４図の色素形成性ＥＴＲ要素を低い正極電荷暴露例え
ば１０ミリクーロン／−〜１クーロン／−の電荷暴露に
露すと、処理の際に、層（４９）に色素像が形成される
。この要素の他の層中には色素像は形成されない。

第４図の色素形成性ＥＴＲ要素を高い正極電荷暴露およ
び続いて低い負極電荷暴露に、あるいは高い負極電荷暴
露および続いて低い正極電荷暴露に露すと、処理の際に
、層（４１）　、層（４５）および層（４９）の各々に
色素像が形成される。層（４５）中の色素像は伝染現像
によって形成される。

第４図において、スイッチ（５５）は、像様の電気的暴
露の前には開放条件にしておく。電気接続手段（５７）
は、支持体（５３）上の導電層（５１）を、電源（５９
）および制御手段（６１）を介して、電極（６３）に接
続し、こうして適当な時に、像様の電気的暴露が可能に
なる。障壁層（４３）および（４７）は、場合により存
在する。

第５図は、第４図に示す色素形成性ＥＴＲ要素の最初の
電気的暴露を説明するものである。第５図において、ス
イッチ（６５）が閉鎖状態にあって、電流が電気接続手
段（６７）　、電源（６９）　、制御手段（７１）を介
して、電極（７３）へ流れることを可能にしている。制
御手段（７１）は、負極性を電極（７３）に与えること
ができるが、電極（７５）には与えない。電極（７３）
に与えた負極性による電荷暴露は、シアン色素形成性層
（７９）内に潜像（７７）を形成させることができる。

支持体（９１）上の他の層（８１）　、　（８３）　、
　（８５）　、　（８７）、および（８９）は、この暴
露工程で像を形成させない。第５図からの暴露工程を、
負極暴露性工程１と称する。

第６図は、第４図に示す色素形成性Ｅ’ＴＲ要素の第２
の電気的暴露を説明するものである。第６図において、
スイッチ（９３）が閉鎖状態にあって、電流が電気接続
手段（９５）　、電源（９７）　、制御手段（９９）を
介して、電極（Ｉ０１）へ流れることを可能にしている
。制御手段（９９）は、電流を選択的に電極へ流すこと
ができる。これは、電極（Ｉ０３）への電流を伴わない
、電極（Ｉ０１）への正極性電流によって示される。こ
の電気的暴露は、第５図の暴露工程１から層（Ｉ０９）
内に形成される像に悪影響を与えることなしに、層（Ｉ
０７）内に像（Ｉ０５）を形成させることができる。他
の層（Ｉ１１）　、（Ｉ１３）（Ｉ１３）および（Ｉ１
５）内には潜像は形成されない。第５図および第６図に
示す電気的暴露は弱い電気的暴露であり、マゼンタ色素
形成性層（Ｉ１３）内の色素像の現像を可能にしない。

場合により、第５図および第６図に示した電気的暴露は
、処理の際に伝染現像によって層（Ｉ１３）内に像を形
成することのできる強い電気的暴露であることができる
。

第５図および第６図の電気的暴露工程は、色素形成性Ｅ
ＴＲ要素が感光性成分を含まない場合には、室内光で実
施することができる。

暴露工程２の後で、暴露後のＥＴＲ要素を第７図に示す
ように処理して、暴露領域内に色素像を形成する。第７
図によれば、色素像（Ｉ１５）は、暴露工程１に基づき
、シアン色素形成性層（Ｉ１７）内に形成される。色素
像（Ｉ１９）は、暴露工程２に基づいて、イエロー色素
形成性層（Ｉ２１）内にも形成される。支持体（Ｉ３１
）上の酸障壁層（Ｉ２３）　、マゼンタ色素形成性層（
Ｉ２５）　、酸障壁層（Ｉ２７）あるいは導電層（Ｉ２
９）内には像は形成されない。第７図における色素像の
現像は、例えば、層（Ｉ１７）および（Ｉ２１）内での
色素像の現像を可能にするのに充分な時間および温度例
えば約り０℃〜約２００℃の範囲内の温度で、要素の支
持体（Ｉ３１）と加熱圧胴とを接触させることによって
実施する。場合により、第７図の処理は、処理溶液また
は浴によって実施することができる。

前記の層は、写真技術において公知の塗布方法、例えば
写真技術において公知のホッパを使う押出コーチング、
カーテンコーチング、エアナイフコーチングまたはデイ
ツプコーチングによって塗布する。所望により、２以上
の層を同時に塗布する。

前記材料の各種の成分は、具体的な電荷感受性材料およ
び成分に依存して、有機溶媒を含めて溶液または混合物
と成分とを混合することによって皮膜用に調製する。前
記の成分は、写真技術に公知の方法によって混合し添加
する。

１つの態様においては、コバルト（Ｉ［［）配位錯体、
還元剤または還元剤前駆体、色素形成性カブラー、およ
び有機酸または無機酸を高分子バインダー溶液中に溶解
し、色素形成用層の少なくとも１層として塗布する。

有用な色素形成性ＥＡＲ要素は、厚さ約１〜約３０μｍ
代表的には２〜１５μｍの範囲の色素形成性ＥＡＲ層少
なくとも２層を担持する導電性支持体を含む。要素の各
層の最適の層厚さは、望ましい具体的なオーム抵抗率、
電荷感受性、層の具体的成分および望ましい像等の要因
に依存する。

改良された現像化像を生成するためには、「溶融体形成
性化合物」が記録層中において有用である。本明細書に
おいて「溶融体形成性化合物」とは、前記の処理温度へ
の加熱の際に、改良された反応媒質代表的には溶融媒質
（ここで、前記の像形成性の組合せは現像の際に望まし
い像を生成することができるものとする）を生成する化
合物を意味する。有用な溶融体形成性化合物の例として
は、スクシンイミド、ジメチル尿素、スルホアミドおよ
びアセトアミドが含まれる。

、以下余白 〔実施例〕 以下、実施例によって本発明を具体的に説明する。

立上 本例は、多色像を形成することのできる色素形成性ＥＡ
Ｒ要素の正極性電荷露光による色素像の形成を説明する
ものである。

以下の層配列をもつ色素形成性ＥＡＲ要素を調製した。

前記の配列は、ポリ　（アクリル酸メチルーコー塩化ビ
ニリデン）層を加えれば、第１図に示したものと類似の
ものである。

本例の導電性支持体は、サーメツト層（導電性層）およ
びその上のポリ　（アクリル酸メチルーコー塩化ビニリ
デン）層（重量比８０　：　２０）をもつポリ　（エチ
レンテレフタレート）フィルムからなる。

赤色色素形成性層である層（ａ）を、ウェット皮膜厚１
００μｍで導電性支持体上に塗布した。本例の層（ａ）
の皮膜組成は以下のとおりであった。

セルロースアセテートブチレート（バインダー）（アセ
トン中の６．２５重量％溶液）１〇−水　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　０．５ｍｌ界面活性剤
（ＳＦ−１０６６；米国Ｇｅｎｅｒａｌ　Ｅｌｅｃｔｒ
ｉｃＣｏｍｐａｎｙから市販のシリコーン界面活性剤の
商品名）　　　　　　　　　　　　　　　　０．０６ｇ
２．５−ジヒドロキシ−４−メチルアセトフェノン（還
元剤）　　　　　　　　　　　０．０６６８トリス（ト
リメチレンジアミン）コバ′ルト（ＩＩＩ）トリフルオ
ロアセテート（コバルト（ＩＩＩ）アミン錯体）　　　
　　　　　　　　　　　０．５１０　ｇ２−（ｐ−ヨー
ドフェニル）−３−（ｐ−ニトロフェニル）−５−フェ
ニル−２Ｈ−テトラゾリウムテトラフルオロボレート（
色素形成性化金物）　　　　　　　　　　　　　　　０
．１１５ｇ得られた層（ａ）を４５℃で５分間乾燥させ
た。

障壁層である層（ｂ）を層（ａ）上に塗布した。

ＪＷ　（ｂ）は、ブタジェン−スチレンコポリマー（Ｋ
Ｒ−０３：米国のＰｈ１ｌｉｐｓ　Ｃｏｍｐａｎｙから
市販の商品名）１００ｇ／ｆｆとｐ−）ルエンスルホン
酸１０ｇ／ｌと界面活性剤（ＳＦ−１０６６ｉ米国Ｇｅ
ｎｅｒａｌＥｌｅｃｔｒｉｃ　Ｃｏｍｐａｎｙから市販
のシリコーン界面活性剤の商品名）を含むトルエン−エ
タノール（９０：１０体積部）溶液を、ウェット皮膜被
覆量２ａｆ／ｆｔ”（０，１９ａｆ／ｎｒ）で層（ａ）
上に塗布することによって調製した。溶媒を乾燥除去し
て、スチレン−ブタジェンコポリマーラテックス２００
■／ｆｔ”（２１５２■／Ｍ）およびｐ−トルエンスル
ホン酸２０■／ｆｔ”　（２１５，２■／ｒｒｒ）をも
つ厚さ１〜１．５μｍの層を堤供した。

青色色素形成性層である層（Ｃ）を、障壁層（ｂ）上に
塗布した。層（Ｃ）は、ウェット皮膜厚１００μｍで塗
布した。組成は以下のとおりであった。

セルロースアセテートブチレート（バインダー）（アセ
トン中の６．２５重量％溶液）１０ｍｌ水　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　０．５−界面活性剤
（ＳＦ−１０６６；シリコーン界面活性剤）０．０６ｇ ２．５−ジヒドロキシ−４−メチルアセトフェノン（還
元剤）　　　　　　　　　　　０．０６６ｇトリス（ト
リメチレンジアミン）コバルト（Ｔ［［）トリフルオロ
アセテート１水和物（コバルト（Ｉｌｌ）アミン錯体）
０．５１０　ｇニトロブルーテトラゾリウムクロライド
０．０８０ｇを含有するエタノール／水（４：１体積部
）溶液　　　　　　　　　　　　　　　　２−得られた
層（Ｃ）を５分間４５℃で乾かした。

得られた色素形成性ＥＡＲ要素を水銀接触電極によって
像様に電気暴露した。像様の電気暴露は５００■の電圧
であった。正極性を水銀電極に与えた。最小密度０．１
０で、電荷暴露８．８ｍクーロン／−において青色透過
密度０．３８のプリントアウト色素像が形成された。

可視像を含む前記要素の断面顕微鏡検査によれば、ポリ
　（アクリル酸メチルーコー塩化ビニリデン）を含有す
る層の界面に最も近い層中に、多くの像が集中している
ことが分かった。

炎１ 本例は、例１に記載した、多色像を形成することのでき
る色素形成性ＥＡＲ要素の負極電荷暴露による、色素像
の形成を説明するものである。

色素形成性ＥＡＲ要素を例１のようにして調製した。水
銀電極に負極性を与えることにより、前記要素を像様に
電気的に暴露した。最小密度０．１０で、電荷暴露８．
８ｍクーロン／ｄにおいて青色透過密度０．４３の可視
色素プリントアウト像が形成された。

可視像を含む、前記の暴露後の色素形成性ＥＡＲ要素の
断面顕微鏡検査によれば、障壁層（ｂ）から最も遠い層
（ｃ）の領域内に多くの色素像が集中していることが分
かった。

貫主 、本例は、多色像を形成することのできる色素形成性Ｅ
ＡＲ要素を最初に正極電荷暴露し、そして第２に負極電
荷暴露することによる、色素像の形成を説明するもので
ある。

色素形成性ＥＡＲ要素を例１のようにして調製した。例
１に示すとおり、水銀電極により、正極性で電気的暴露
８．８ｍクーロン／−で前記の色素形成性ＥＡＲ要素を
像様に電気的に暴露した。続いて、負極性で、水銀接触
電極により、電気暴露８．８ｍクーロン／ｉで、前記の
色素形成性ＥＡＲ要素を像様暴露した。最小密度０．１
０で、青色最大透過密度０．４１のプリントアウト像が
形成された。

可視像を含む前記の色素形成性ＥＡＲ要素の断面顕微鏡
検査によれば、正極性暴露により、ポリ（アクリル酸メ
チルーコー塩化ビニリデン）を含有する層（ａ）の界面
において層（ａ）に多（の像密度形成が起きていること
が分かった。また、顕微鏡検査によれば、負極性暴露に
より、層（ｂ）から最も遠い層（Ｃ）の部分に、層（Ｃ
）の多くの像密度形成が起きていることが分かった。

以下余白 ■互 本例は、色素形成性ＥＡＲ要素を熱処理することによる
、色素像の形成を説明するものである。

色素形成性ＥＡＲ要素を例１のようにして調製し、そし
て像様に電気的に暴露したが、但し、電荷暴露を０．８
８ｍクーロン／−に減少させた。

像形成性層を含む要素の側面を加熱手段（加熱圧胴を使
用した）に対面させながら、前記の暴露後の色素形成性
エレクトロサーモグラフィック要素を均一に加熱した。

暴露後のＥＴＲ要素を８秒間１０５℃に加熱して、最小
密度０．１９で、青色最大透過密度１．１７の色素像を
形成した。

処理後の要素の断面の顕微鏡検査によれば、主に層（ａ
）中に像色素の形成があることが分かった。

■工 本例は、暴露後の色素形成性ＥＴＲ要素を熱処理するこ
とによる、色素像の形成を説明するものである。

色素形成性ＥＴＲ要素を例１のようにして調製し、そし
て像様に電気的に暴露したが、但し、電荷暴露を負極性
で行なった。

像形成性層を含む要素の側面を加熱手段（加熱圧胴を使
用した）に対面させながら、前記の暴露後の色素形成性
ＥＴＲ要素を均一に加熱した。暴露後のＥＴＲ要素を８
秒間１０５℃に加熱して、最小密度０．１９で、青色最
大透過密度１．４２の色素像を形成した。

処理後の要素の断面の顕微鏡検査によれば、主に層＜ｃ
＞中に像色素の形成があることが分かった。

倒」− 本例は、熱処理により、色素形成性ＥＴＲ要素の２層の
各々において色素像を形成することを説明するものであ
る。

色素形成性ＥＴＲ要素を例３のようにして調製し、そし
て像様に電気的に暴露したが、但し、電荷暴露を０．８
８　ｍクーロン／ｉに減少させた。暴露後の要素を８秒
間１０５℃で熱処理して、最小密度０．１９で、最大透
過密度１．８５の色素像を形成した。

処理後の要素の断面の顕微鏡検査によれば、層（ａ）お
よび層（Ｃ）中に像色素の形成があることが分かった。

勇１ 本例は、色素形成性ＥＴＲ要素の正極性電荷露光による
色素の像の形成を説明するものである。

以下の層配列をもつ要素を調製した。

（ｅ）　　　　　シアン色素形成性層 （ｄ）　　　　　高分子障壁層 （ｃ）　　　マゼンタ色素形成性層 （ｂ）　　　　　高分子下塗層 （ａ）　　　　　サーメツト層 支持体 導電性サーメット皮膜（ａ）とポリ　（アクリル酸メチ
ルーコー塩化ビニリデン）皮膜（ｂ）とを担持するポリ
　（エチレンテレフタレート）フィルムからなる導電性
支持体上に、以下の層を各々塗布することによって色素
形成性ＥＴＲ要素を調製した。

層（Ｃ）： 以上のマゼンタ色素形成性組成物を、ポリ　（アクリル
酸メチルーコー塩化ビニリデン）　Ｊｉ　（ｂ）上に２
５Ｏｒｐｍ＋でスピンコーチングした。

メタノール：アセトン（８０：　２０体積部）中のポリ
（酢酸ビニルーコービニルピロリドンーコー安息香酸ビ
ニル）　（５０／３０／２０）　１４．２重量％溶液１
５．８５−；メタノール：アセトン（７：３体積部）１
４．１５−；シロキサン界面活性剤（ＳＦ−１０６６ｉ
米国Ｇｅｎｅｒａｌ　Ｅｌｅｃｔｒｉｃ　Ｃｏｍｐａｎ
ｙから市販の商品名）０．０９０ｇ　；　）リス（トリ
メチレンジアミン）コバルト（■）トリフルオロメタン
スルホネート１．１７９ｇ；式 ％式％ のカプラー０．３３３ｇ　；　２　、６−ジプロモー３
−メチル−ｐ−アミノフェノール（現像剤）０．１０２
ｇ　；１）−トルエンスルホン酸０．０３６ｇ　；エチ
レンオキシド−プロピレングリコール界面活性剤（Ｐｌ
ｕｒｏｎｉｃ−Ｆ−９８；米国ＢＡＳＦ−Ｗｇａｎｄｏ
ｔｔｅ　　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販の商品名）
０．４８０ｇ　；　）リフルオロ酢酸リチウム０．２４
０　ｇ。

層（ｄ）： 以上の障壁層（ｂ）を前記のマゼンタ色素形成性層（ｂ
）上に２５Ｏｒｐｍ＋でスピンコーチングした。

ポリ　（アクリルアミドーコーＮ−（３−（クロロアセ
トアミド）プロピル〕メタクリルアミド）（８０／２０
重量比）６０ｇ／Ｎとエチレングリコ−ｎｔ２５ｇ／ｌ
とＦＣ−４３０弗化炭素界面活性剤（ＦＣ−４３０；米
国３　Ｍ　Ｃｏｍｐａｎｙから市販の弗化炭素界面活性
剤）５ｇ／Ｉｌとを含む層（ｄ）用水性皮膜組成物。

層（ｅ）： 以下のシアン色素形成性組成物を層（ｄ）上に２０Ｏｒ
ｐｍでスピンコーチングした。

メタノール：アセトン（８０７２０体積部）中のポリ（
酢酸ビニルーコーＮ−ビニルーコービロリドンーコー安
息香酸ビニル）　（５０／３０／２０）　１４．２重量
％溶液１５．８５＋ａｆ　、メタノール：アセトン（７
：３体積部）１４．１５ｓｊ　；シロキサン界面活性剤
（ＳＦ−１０６６）０．０９０ｇ　；　トリス（トリメ
チレンジアミン）コバルト（■）トリフルオロメタンス
ルホネート１．６６２ｇ　：式 ％式％ チル−ｐ−アミノフェノール（現像剤）０．１５３ｇ　
；ｐ−トルエンスルホン酸０．１０８ｇ　；エチレンオ
キシド−プロピレングリコール界面活性剤（Ｐｌｕｒｏ
ｎｉｃ−Ｆ　−９８）０．４８０ｇ　；　）リフルオロ
酢酸リチウム０．２４０　ｇ。

得られた色素形成性ＥＴＲ要素を水銀接触電極装置によ
って像様に電気暴露した。暴露の際に、色素形成性ＥＴ
Ｒ要素には１５０ｖの電圧を与えた。

正極性を水銀電極に与えた。

暴露後の色素形成性ＥＴＲ要素を５秒間１２５℃で均一
に加熱してマゼンタ色素像を形成した。このマゼンタ色
素像は、電荷暴露２．３ｍクーロン／ｄに関して緑色最
大透過密度１．７７を示した。このマゼンタ色素像は最
小密度０．１８を示した。

貫主 本例は、例７に記載した色素形成性ＥＴＲ要素の負極電
荷暴露による、色素像の形成を説明するものである。

色素形成性ＥＴＲ要素を例７のようにして調製した。水
銀接触電極に負極性を与えることにより、前記の得られ
た色素形成性ＥＴＲ要素を像様に電気的に暴露した。次
に、暴露後の色素形成性ＥＴＲ要素を、例７に示すよう
に均一に加熱して、要素中にシアン色素像を形成した。

得られたシアン色素像は、電荷暴露２．０ｍクーロン／
ｃｌａにおいて赤色最大透過密度１．６６および最小密
度０．１８を示した。

本例は、例７の色素形成性ＥＴＲ要素が、電気的暴露の
極性に応じてマゼンタ色素像またはシアン色素像を形成
することを示すものである。

〔発明の効果〕

電気的に活性化可能で多層の色素形成性記録要素を、前
記の工程（Ｉ）および（Ｉ［）で像様暴露し、そして得
られた要素中に工程（ＩＩＩ）で色素像を形成すること
からなる、色素形成性で電気的に活性化可能な記録方法
により、複雑な電気暴露工程の必要なしに、あるいは導
電性支持体の反対側面上へのＥＡＲ層の塗布の必要なし
に、多色色素像を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法において有用な色素形成性ＥＡＲ要
素の態様を示す説明図である。 第２図は本発明方法において有用な色素形成性Ｆ、ＡＲ
要素の別の態様を示す説明図である。 第３図は本発明方法において有用な色素形成性ＥＴＲ要
素の態様を示す説明図である。 第４図は本発明方法において有用な色素形成性ＥＡＲ要
素の別の態様を示す説明図である。 第５図は負極性像様暴露を含む本発明方法の暴露工程を
示す説明図である。 第６図は正極性像様暴露を含む本発明方法の暴露工程を
示す説明図である。 第７図は本発明の別の工程において色素像を生成する熱
現像工程を示す説明図である。 １．３．９．１３．１？、２１．２５．２９．３３．３
７．４Ｌ　４５．４９，７９．８３．８７゜１０７．１
０９，１１３．１１７，１２１，１２５・・・色素形成
性層；５．１５．３１．５３．９１，１１８．１３１・
・・支持体；？、　１１．１９．２７，３３．４３．４
７，８１，８５．１１１，１１５．１２３．１２７・・
・障壁層； ２３　、３９・・・オーバーコート層；６１．７１．９
９・・・コントローラ。 以下余白 ＦＩＧ、　４ ＦＩＧ、　５　　　　　　　　負極性暴露工程１現像工
程３ ＦＩＧ、　７

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、電気的に活性化可能で多層の色素形成性記録要素を
   電荷に像様暴露して現像可能像を形成し、続いて処理し
   て色素像を形成する、色素形成性で電気的に活性化可能
   な記録方法であって、 （ I ）多層で、色素形成性で、電気的に活性化可能な
   記録要素を、或る極性の電荷に像様暴露して、少なくと
   も１層中に現像可能潜像を形成する工程、続いて、 （II）その多層で、色素形成性で、電気的に活性化可能
   な記録要素を、前記工程（ I ）の極性とは反対の極性
   の電荷に像様暴露して、その要素の別の層中に現像可能
   潜像を形成する工程、そして（III）得られた要素中で
   色素像を現像する工程を含んでなる、前記の記録方法。