JPS633958B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はコイル状メツキ物のメツキ方法及びそ
の装置に関する。

コイル状のメツキ物を縦置き状態でメツキ処理
槽内を通過搬送せしめその間にメツキ物に電解又
は無電解でメツキ処理する方法及び装置としては
従来より種々のものが提案されているが、ほとん
どのものはメツキ処理槽内のメツキ液の液面制御
を行なうことによりメツキ物の所望の部分にメツ
キを施すようにしているので、メツキ物の長手方
向に亘り上方にメツキを厚くそして下方に薄く施
すことが不可能であつた。しかも縦置き状態のメ
ツキ物の上下方向に於ける部分メツキ、全面メツ
キを１つの装置で選択的に行なうことも不可能で
あつた。

本発明はこのような従来のコイル状メツキ物の
メツキ方法及びその装置に着目してなされたもの
で、メツキ処理槽内に左右一対のマスク板をいわ
ば水平に配置し且つこれらマスク板の上下方向の
位置をメツキ物に対し可変とすることにより、左
右一対のマスク板で各々所望の位置で上下両部に
区分けされたメツキ物をその上部はメツキを厚く
そしてその下部はメツキを薄く施すことができる
ようにし、しかも前記マスク板をメツキ物のパス
ライン近辺に配置した場合はメツキ物の全面メツ
キが、そしてパスラインより上方に配置した場合
は部分メツキが施せるようにして従来の不具合を
解消し且つ汎用性大なるコイル状メツキ物のメツ
キ方法及びその装置を提供せんとするものであ
る。

本発明に係るコイル状メツキ物のメツキ方法
（以下第１発明）をより具体的に示せば次の通り
である。即ちコイル状メツキ物を縦置き状態でメ
ツキ処理槽内を通過搬送せしめ、メツキ処理槽内
でメツキ物のパスラインより上方に位置決めした
左右マスク板にてメツキ物の左右両側面を各々上
下両部に分けてマスクし、アノードが存在し且つ
メツキ液を充満させた左右マスク板の上方部位で
メツキ物の上部を厚くそしてアノードが存在せず
メツキ液を左右両マスク板とメツキ物の両側面間
との間隙より流出させる左右マスク板の下方部位
でメツキ物の下部を薄くそれぞれ同時にメツキ処
理することを特徴とするコイル状メツキ物のメツ
キ方法である。そしてさらに本発明に係るコイル
状メツキ物のメツキ装置（以下第２発明）はより
具体的に示せば次の通りである。即ちメツキ処理
槽内にメツキ液の供給充満用のメツキ処理部を設
け、このメツキ処理部内に縦置き状態で通過搬送
させるコイル状メツキ物の左右両側面を各々上下
に分けてマスクする左右一対のマスク板を設け、
このマスク板の上方部位に左右一対のアノードを
配し、マスク板をアノードとともにメツキ物のパ
スラインに対して上下方向に位置可変としたこと
を特徴とするコイル状メツキ物のメツキ装置であ
る。

以下に図面を参照して本発明を詳述する。尚以
下ではコイル状メツキ物のメツキ装置（第２発
明）につき主に図面を参照した説明しコイル状メ
ツキ物のメツキ方法（第１発明）については第２
発明の作用の説明とともに述べる。

第１図〜第４図は本発明（第２発明）の一実施
例を示す。

１は処理槽で、その内部にメツキ処理部２とメ
ツキ液回収部３が形成されている。メツキ処理部
２とメツキ液回収部３の間には前後壁４ａ，４ｂ
が設けてあるが、メツキ処理部２の形成の仕方は
この例に限らずいわゆる内外２重槽の構造を採用
し内側槽をメツキ処理部としてもよい。前後壁４
ａ，４ｂ及び処理槽１の入側及び出側両壁５ａ，
５ｂにはそれぞれコイル状メツキ物６〔以下メツ
キ物〕を縦置き状態で通過搬送させるためのスリ
ツト７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄが形成される。これ
らスリツト７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄの間隔はメツ
キ物６の厚さより若干大サイズとしスリツト７
ｂ，７ｃよりメツキ液が流出し且つメツキ液回収
部３内に流入しやすくすることができる。８ａは
第１メツキ液供給パイプで、メツキ処理部２の上
方に２本の第２メツキ液供給パイプ８ｂを配置し
ており、そのノズル９よりメツキ液をメツキ処理
部２内に供給しそこへ充満させるようにしてあ
る。メツキ処理部２はメツキ物６の通過搬送方向
（矢示Ａ方向）における前後両壁４ａ，４ｂとそ
の交差方向（矢示Ｂ方向）における左右両壁１０
ａ，１０ｂにて周囲が区画形成される。そして上
面は開口とされ下面には後述する左右一対のマス
ク板１１ａ，１１ｂが設けてあり、このマスク板
１１ａ，１１ｂと横板１２ａ，１２ｂにていわば
底面が区画形成される。

１３は上下方向の位置決め用の固定孔で、左右
両壁１０ａ，１０ｂにそれぞれ複数形成してあ
る。これら固定孔１３はメツキ液が外部へ流出せ
ぬようメツキ処理部２内における最高液面高さよ
りも上方に形成される。１４はピンチローラーで
メツキ物６を挾持し且つ回転してＡ方向に搬送せ
しめるものでありカソードローラー兼用とされ
る。１５ａ，１５ｂは一対のアノードバーで、後
述する一対のアノードにそれぞれアノード用の電
流を供給するものである。

メツキ処理部２に相当する部位には第２図で示
す如く全体が略Ｈ形状の断面を有する支持体１７
が設けてある。この支持体１７は左右一対の縦板
１８ａ，１８ｂ及びこの縦板１８ａ，１８ｂに
各々固定された左右一対の横板１２ａ，１２ｂよ
り主に構成される。左右一対の縦板１８ａ，１８
ｂは対応位置に長孔１９を有し、ボルト２０を介
して前記固定孔１３と選択的に結合される。左右
一対のマスク板１１ａ，１１ｂは他の長孔２１を
有し同じくボルト２２を介し前記左右一対の横板
１２ａ，１２ｂに取付けられており、その中央に
はメツキ物６の通過搬送を許す間隔ｌが設けてあ
る。２３ａ，２３ｂは左右一対のアノードで、左
右一対の縦板１８ａ，１８ｂの内側で且つその長
手方向に亘つて配置され前記アノードバー１５
ａ，１５ｂと接続されるものである。２４はメツ
キ物のパスラインで、メツキ物６の最下端に相応
する位置を表わす。尚、図示はしないが他のアノ
ードを左右一対のマスク板１１ａ，１１ｂの下方
部位へ別途備えて、前記アノード２３ａ，２３ｂ
より弱い電流密度で通電するか或はマスク板１１
ａ，１１ｂより下方部位に臨むメツキ物の側面と
前記別途設けるアノード間に多孔板、遮蔽板等を
介在させて、そのメツキ物の部位を積極的に薄く
メツキするようにしてもよい。

次に作用を説明する。メツキ物６はピンチロー
ラー１４にて縦置き状態のままメツキ処理槽１内
を通過搬送せしめられる。メツキ処理槽１内、具
体的にはメツキ処理部２内、においてメツキ物６
は矢示Ａ方向においてスリツト７ｃ，７ｂを通過
しその際左右一対のマスク板１１ａ，１１ｂの間
隔ｌ内をも併わせて通過する。このメツキ物６の
厚さに応じた間隔ｌを得るには長孔２１に係合さ
せたボルト２２を弛め横板１２ａ，１２ｂに対す
るマスク板１１ａ，１１ｂの位置を調整すればよ
い。そしてマスク板１１ａ，１１ｂをメツキ物６
の両側面６′に軽く接触させるか又は近接させて
両側面６′との間に微小な間隙２５を残すように
してもよい〔第４図イ〕。前者の場合、第１及び
第２メツキ液供給パイプ８ａ，８ｂ及びそのノズ
ル９よりメツキ処理部２内に供給されたメツキ液
２６はマスク板１１ａ，１１ｂより上方にあたる
メツキ物６の両側面６′ａをメツキするのに用い
られ、また後者の場合メツキ液２６は微小な間隙
２５より下方へ流出し、もしマスク板１１ａ，１
１ｂより下方にメツキ物６の一部が存在する場合
にはその側面に沿つて流出しその側面をもメツキ
するのに使われる。メツキ処理状態を更に第４図
を参照して詳述する。

第４図イで示す場合について説明する。縦板１
８ａ，１８ｂの長孔１９と固定孔１３との結合位
置を変えるかまたは長孔１９自体の固定位置を変
えることによりマスク板１１ａ，１１ｂの位置を
変え図示の如くにすると、マスク板１１ａ，１１
ｂはメツキ物のパスライン２４より上方に位置し
メツキ物６の左右両側面６′をそれぞれ上下両部
に分けてマスクしている。そしてマスク板１１
ａ，１１ｂと両側面６′との間に微小間隙２５が
形成してある。この状態でアノード２３ａ，２３
ｂに通電するとメツキ液２６に十分接触している
メツキ物６の上部側面はアノードの影響を十分に
受け厚いメツキ２７がそこに施される。一方間隙
２５よりメツキ液２６がメツキ物６の下部側面に
沿つて流出しこの下部側面に電解乃至は無電解で
薄いメツキ２８が施される。無論厚いメツキ２７
及び薄いメツキ２８はそれぞれ同時にメツキ処理
されることになる。

第４図ロで示す場合について説明する。マスク
板１１ａ，１１ｂはパスライン２４と相応する位
置にありメツキ物６の両側面６′の下端に軽く接
触している。メツキ液２６内にメツキ物６の全体
が露出されアノード２３ａ，２３ｂへの通電によ
りメツキ物６は全面メツキされることになる。こ
の時メツキ液２６はマスク板１１ａ，１１ｂの下
方へ流出しないか流出しても僅かである。

第４図ハで示す場合について説明する。マスク
板１１ａ，１１ｂは第４図イの場合と同様パスラ
イン２４より上方に位置しメツキ物６のメツキ必
要部位２９のみをマスク板１１ａ，１１ｂの上方
に位置させメツキ不要部位３０はマスク板１１
ａ，１１ｂの下方に位置させている。そしてマス
ク板１１ａ，１１ｂはメツキ物６の両側面６′に
軽く接触している。このためメツキ液２６中に臨
ませられたメツキ物６の上部即ちメツキ必要部位
２９のみが部分的にメツキされる。メツキ液２６
はこの時マスク板１１ａ，１１ｂの下方へは流出
しないか、流出しても僅かである。尚図示のメツ
キ物６は第４図イ，ロで示したメツキ物６と異な
る形状を有するが、第４図ハの場合は無論メツキ
物６の形状を特定するものでなくただ曲折その他
異形部位に部分的にメツキを施す場合第４図ハは
最適であることを示すものである。

以上説明してきたように、本発明〔第１発明、
第２発明〕によればメツキ物の左右両側面にマス
ク板を臨ませメツキ物の左右両側面を各々上下両
部に分けてマスクし、左右マスク板の上方部位で
メツキ物の上部を厚くそして左右マスク板の下方
部位でメツキ物の下部を薄くそれぞれ同時にメツ
キ処理できるものであり、マスク板のパスライン
に対する位置決めはマスク板を支持する横板及び
縦板並びにアノードごと全体をメツキ処理部の左
右両壁に形成した固定孔と縦板の長孔との選択的
結合そしてこれに加えて長孔自体の固定位置変化
により大中小と任意の上下方向における高さ調整
ができ、そして横板に対する左右一対のマスク板
の固定位置を変えることにより、マスク板間の間
隔調整並びにメツキ物の両側面に対する間隙調整
を容易に行なうことができるので、前記の如く
厚・薄両メツキをメツキ物に施すことに加えて縦
置き状態のメツキ物の上下方向に於ける部分メツ
キ及び全面メツキをも極めて確実に行なうことが
でき汎用性の高いものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明（第２発明）に係るメツキ装置
の概略平面図、第２図は第１図−線に沿う拡
大断面図、第３図は第１図−線に沿う拡大断
面図、そして第４図イ，ロ，ハはメツキ処理状態
を各々示す説明図である。 １…処理槽、２…メツキ処理部、３…メツキ液
回収部、６…メツキ物、７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ
…スリツト、１１ａ，１１ｂ…マスク板、１２
ａ，１２ｂ…横板、１８ａ，１８ｂ…縦板、２３
ａ，２３ｂ…アノード、２４…パスライン、２６
…メツキ液。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ コイル状メツキ物を縦置き状態でメツキ処理
   槽内を通過搬送せしめ、メツキ処理槽内でメツキ
   物のパスラインより上方に位置決めした左右マス
   ク板にてメツキ物の左右両側面を各々上下両部に
   分けてマスクし、アノードが存在し且つメツキ液
   を充満させた左右マスク板の上方部位でメツキ物
   の上部を厚くそしてアノードが存在せずメツキ液
   を左右両マスク板とメツキ物の両側面間との間隙
   より流出させる左右マスク板の下方部位でメツキ
   物の下部を薄くそれぞれ同時にメツキ処理するこ
   とを特徴とするコイル状メツキ物のメツキ方法。 ２ メツキ処理槽内にメツキ液の供給充満用のメ
   ツキ処理部を設け、このメツキ処理部内に縦置き
   状態で通過搬送させるコイル状メツキ物の左右両
   側面を各々上下に分けてマスクする左右一対のマ
   スク板を設け、このマスク板の上方部位に左右一
   対のアノードを配し、マスク板をアノードととも
   にメツキ物のパスラインに対して上下方向に位置
   可変としたことを特徴とするコイル状メツキ物の
   メツキ装置。 ３ 左右一対のマスク板は、横板を介して各々左
   右一対の縦板で支持され、この縦板はメツキ処理
   部の左右両壁に形成した複数の固定孔と選択的に
   ボルト止めするための長孔を有する特許請求の範
   囲第２項記載のコイル状メツキ物のメツキ装置。 ４ 左右一対のマスク板は、コイル状メツキ物の
   通過搬送用の間隔を中央に形成しており且つこの
   間隔を調整自在としたものである特許請求の範囲
   第２項又は第３項に記載のコイル状メツキ物のメ
   ツキ装置。 ５ メツキ処理槽内に設けたメツキ処理部は、そ
   の前後にメツキ液回収部を備え、その前後両壁に
   はコイル状メツキ物を縦置き状態で通過搬送させ
   るためのスリツトが形成してある特許請求の範囲
   第２項乃至第４項のいずれかに記載のコイル状メ
   ツキ物のメツキ装置。