JPS63317553A

JPS63317553A - ポリアミド酸系感光性組成物

Info

Publication number: JPS63317553A
Application number: JP15343387A
Authority: JP
Inventors: Takao Kawaki; 川木　隆雄; Makoto Kobayashi; 真小林; Katsushige Hayashi; 勝茂林; Noriaki Honda; 本田　典昭
Original assignee: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Current assignee: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority date: 1987-06-22
Filing date: 1987-06-22
Publication date: 1988-12-26

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、半導体や高密度プリント配線板、プリント配
線板製造用材料として充分な高感度を有し、＋２２ａｌ
ｌなパターン形成を可能ならしめ、且つ、加熱処理によ
りイミド化して優れた耐熱性を得られる、層間絶＠ＩＩ
Ｋや表面保護膜等に用いろことのできる感光性組成物を
提供するものである。

〔従来の技術〕

従来公知のポリアミド酸系感光性樹脂として、例えば特
公昭５５−４１４２２号公報、特開昭５４−１４５７９
４号公報に提案されているように、ポリアミド酸側鎖に
感光基を有する七ツマー成分を共有結合又は塩結合で付
与したものがあるが、光感度が低く実用に供するには不
充分であった。

その改良として、特開昭６１−７３７４０号公報では感
光基を有するモノマー成分を共有結合したポリアミド酸
に多価のメルカプタン化合物と光重合開始剤を添加物と
した組成物が、特開昭５８−５８５４０号公報、同５９
−１６０１４０号公報、同６０−４２４２４号公報、同
６０−１３５４５７号公報では感光基を有する七ツマー
成分を混合したポリアミド酸に芳香族アジド又はビスア
ジドを添加物とした組成物が、また上記同５９−１６０
１４０号公報では感光基を有するモノマー成分を混合し
たポリアミド酸に芳香族にケトン基が結合していない芳
香族アミノ化合物を添加物とした組成物が提案された。

しかし、これらの組成物の場合、実際の使用に際して、
（１）添加物の含量が多くしかもその揮発性が低いため
に加熱処理によるイミド化工程に長時間を要す）、（２
）メルカプタンの悪臭がある、（３）アジド化合物が露
光あるいは加熱処理時に分解し窒素を発生するために膜
質を損ねる。

など清決し難い欠点があった。

ＬＬ発明が解決しようとしている問題点〕本発明は、上
記従来技術の欠点に鑑み、揮発性の低い添加物含量が少
なくて済み、悪臭が無い上に１従来品以上の光感度と膜
質性能を持ち、しかも、製造方法が極めて容易なポリア
ミド酸系感光性組成物を目的としたものである。

本発明組成物の特徴は芳香族有機過酸化物を必須成分と
するところにある。

有機過酸化物が熱で分解することを利用して有用な重合
体を製造する方法は広く知られている。一方、有機過酸
化物が光で分解することも古くから知られるところであ
り、例えば、“有機過酸化物の化学“生方編著、南江堂
昭和４６年刊、３６〜３８頁にその記載がある。

しかしながら、有機過酸化物は光の吸収波長域が低波長
過ぎるため光感度が低く感光性材料にはほとんど使用さ
れなかった。

例えば、感光性材料に関する代表的な出版物として“Ｕ
Ｖ、ＢＢ硬化技術″総合技術センター出版、昭和５７年
刊、′感光性高分子“米松・乾著講談社昭和５２年刊、
あるいは“新・感光性高分子“角田著印刷学会出版昭和
５６年刊を挙げられるが、有機過酸化物に関する記載は
僅かにジ−ｔ−ブチルペルオキシドの光分解やベンゾイ
ルペルオキシドの光分解を用いた数例が紹介されている
に過ぎない。

更に、ポリアミド酸系感光性組成物に有機過酸化物を適
用しようとすると、ポリアミド酸あるいはその誘導体に
は低波長域に特有の大きな光吸収があるため過酸化物の
光分解が阻害され光感度は大幅に低下すると考えられた
。

それゆえポリアミド酸系感光性組成物に有機過酸化物を
必須成分とした事例は、本発明者の知る範囲で見当たら
ない。

本発明者等は有機過酸化物をポリアミド酸系感光性組成
物へ適用するべく鋭意検討の結果、特定の有機過酸化物
を用いることにより有機過酸化物の最大欠点である光感
度の低さが解決され、しかも本発明の目的とした、添加
物含量が少ない、メルカプタン臭が無い、光感度が良い
、膜質が良い、製造が容易であるなどの実用的な特性を
も持たせることができることを見出し、本発明に到達し
たものである。

〔問題点を解決するための手段〕

而して本発明は、ｆａｌ　　下記一般式（ｒ〕で表される構造単位から成
るポリアミド酸誘導体　　　　　１００部（−〇〇−Ｂ
”−ＣＯＮＨ−几２−ＮＨ−）（ＣＯ几）ｍ　　　　　
　　　　（Ｉ）（ただし、ポリアミド酸誘導体はＮ−メ
チルピロリドン中１５重量％濃度としたとき２５℃の溶
液粘度が１０七ンチポ工ズ以上となる分子量を有し、式
中、几１　は三価又は四価の炭化水素残基を、几２は二
価の炭化水素残基な、几　は炭素−炭素二重結合を有す
る置換基を、ｍは１又は２の整数を示す）ｆｂｌ　　芳
香族有機過酸化物　　　０．２〜２０部（ｃｌ　　増感
剤　　　　　　　　　０　〜２０ｇ５から成る感光性組
成物である（ただし、部は重量部を示す）。

本発明に於いて、一般式（Ｉ）で表される構造単位から
成るポリアミド酸誘導体成分は、加熱あるいは脱水剤に
よりイミド化して、耐熱性、電気的特性、力学的特性に
優れたポリイミド皮膜やフィルムを形成する。

上記ポリアミド酸誘導体はＮ−メチルピロリドン中、１
５重量％濃度の溶液の、２５℃における粘度が１０セン
チポ工ズ以上であることが必要である。粘度がそれ以下
のときは、イミド化によって得られる被膜の力学的９強
度が低く実用的で無い。

一般式〔Ｉ〕中のＲ１および几２の種類によるイミド化
物の諸物性については罠にＫう大な数の特許公報や研究
文献があり広く知られているところであるが、それらの
基本的な化学的及び物理的性質は類似と見なして良い。

それゆえ本発明は特に几１　およびｆＬ２　の構造を規
定するものでは無いが原料の入手性、耐熱性、電気的特
性、力学特性、接着性などの優位性により、几　が下記
構造の四価の炭化水素残基の何れかであり、几２　が下記構造の二価の炭化水素残基の何れかである
ことが好ましい。

舎０舎Ｏ（Ｘ＋ｏ　舎Ｃ（Ｃ）Ｔ３）２　（）ｏ　（ト＋Ｃ（ＣＨ３
）←ンｃ（ＣＨ３）２＋ −（ＣＨ２）　ａ−８ｉ　（ＣＨ３）　２−０３　Ｎ（
ＣＨ３）　２−（ＣＨ２）　ｎ−１−（□　ｓ　ｔ　（
ＣＨ３）ｚ０８　ｉ　（Ｃ）１３　＞　２＋（式中、ｎ
は０又は４以下の整数を示す）。

一般式〔工〕中のＲ３は炭素−炭素二重結合を有する置
換基を示す。炭素、−炭素二重結合としては例えばアク
リル、メタクリル、アリル、ビニル、マレオイル、スチ
リル等を挙げることができる。

几　は好ましくはアクリル、メタクリルおよびアリル基
を有する置換基であり、例えば、アクリロイルオキジア
ルコキシ、メタクリロイルオキシアルコキシ、アクリロ
イルオキシヒドロキシアルコキシ、メタクリロイルオキ
シヒドロキシアルコキシ、アリルオキシ、了りルアミノ
、アリルオキジアルコキシ等である。

几３を更に具体的に例示すると以下に示す炭素−炭素二
重結合化合物から水酸基あるいはアミノ基の水素を一原
子除いた基である。２−ヒドロキシエチルアクリレート
、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート、１．２−ジヒドロキシプロピルアクリレー
ト、１．２−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、ア
リルアルフール、アリルアミン、ジアリルアミン、２−
アリロキシエタノール、トリメチロールプロパンジアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等。

特に好ましくは２−ヒドロキシエチルアクリレートもし
くは２−ヒドロキシエチルメタクリレートの水酸基の水
素を除いた基である。

ポリアミド酸誘導体〔■〕の製造法は例えば次の様な公
知の一般的方法を採用できる。

（１）酸クロリドとジアミンの反応（例えば特公昭５５
−３０２０７号公報）ＣＩＣＯ−Ｒ１−ＣＯＣＩ　　＋　　ＮＨ２−几２−Ｎ
Ｈ２（ＣＯＦＬ　　）ｍ（式中、ＦＬｌ　、Ｂ２　、Ｂ３　　は特許請求の範囲
（１）に示した基を示す。）。

（２）　　ジカルボン酸とジアミンの反応（例えば特開
昭６１−２９５２０４号公報）ＨＯＣＯ−Ｍ−ＣＯＯＨ＋　ＮＨｚ−Ｒ”−ＮＨ２（Ｃ
ＯＯ１２ｍ（式中、Ｒ１、Ｒ２、几３は特許請求の範囲（１）に示
した基を示す。）。

（３）　　ポリアミド酸と炭素−炭素二重結合を有する
モノエポキシドとの反応（例えば特開昭５８−１２０６
５６号公報）。

次に本発明に於いて、芳香族有機過酸化物とは、分子中
に芳香核及び−ｏ−ｏ−結合を各々−以上有する有機化
合物を意味し、芳香族ペルオキシエステル、　芳香族ヒ
ドロペルオキシド、芳香族アシルペルオキシド等を示す
。

具体例としては、ベンゾイルペルオキシド、ｔ−ブチル
ペルオキシベンゾエート、ジ−ｔ−ブチルジペルオキシ
フタレート、ジー重−プチルジペルオキシイソフタレー
ト、ジー・ｔ−ブチルジペルオキシテレフタレート、１
，２．４−）’Ｊ　−（ｔ−ブチルペルオキシカルボニ
ル）ベンゼン、１．２，４．５−テトラ−（ｔ−ブチル
ペルオキシカルボニル）ベンゼン％３１３Ｚ４．４′−
テトラ−（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフ
ェノン、２．５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルペ
ルオキシ）ヘキサン、２゜５−ジメチル−２，５−ジ（
３−メチルベンゾイルペルオキシ）ヘキサン、ジクミル
ペルオキシド、α、α１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ
−ｍ−イソプロピル）ベンゼン、ｔ−ブチルクミルペル
オキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロベルオキシド
、クメンヒドロペルオキシド、などを挙げることができ
る。これらの芳香族有機過酸化物は、通常−〜四価の低
分子化合物であるが、ポリマー中に含まれる側鎖を過酸
化した高分子化合物でも良く、例えば芳香族ポリアミド
酸の側鎖あるいは末端にあるカルボン酸基な過酸エステ
ルとした高分子過酸化物を挙げることができる。好まし
くはｔ−アルキルペルオキシベンゾエート、ｔ−アルキ
ルペルオキシナフテート、ジ−ｔ−アルキルジペルオキ
シフタレート、）ＩＪ−（ｔ−アルキルペルオキシカル
ボニル）ベンゼン、テトラ−（２−アルキルペルオキシ
カルボニル）ベンゼン、ジー（１−アルキルペルオキシ
カルボニル）ベンゼンカルボン酸、ジー（１−アルキル
ペルオキシカルボニル）ベンゼンジカルボン酸、テトラ
−（１−アルキルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、ジー（ｔ−アルキルペルオキシカルボニル）ベンゾ
フェノンジカルボン酸、テトラ−（ｔ−アルキルペルオ
キシカルボニル）ビフェニル、テトラ−（ｔ−アルキル
ペルオキシカルボニル）ビフェニルジカルボン酸、ジメ
チルジ（ベンゾイルペルオキシ）ヘキサン、等の芳香族
過酸エステルであり、さらに好ましくは、ジ−ｔ−ブチ
ルジペルオキシフタレート、ジ−ｔ−ブチルジペルオキ
シインフタレート、ジー１−ブチルジペルオキシテレフ
タレート、１，２゜４−１−リ−（ｔ−ブチルペルオキ
シカルボニル）ベンゼン、１．２，４．５−テトラ−（
ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゼン、３．３′
。

４．４１−テトラ−（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル
）ベンゾフェノン、２．５−ジメチル−２，５−ジ（ヘ
ンソイルペルオキシ）ヘキサン、２．５−ジメチル−２
，５−ジ（３−メチルベンゾイルペルオキシ）ヘキサン
、等の二乃至四価の芳香族過酸エステルである。なかで
も３゜５’、４．４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシ
カルボニル）ベンゾフェノンが特に好ましい。

芳香族有機過酸化物はポリアミド酸誘導体１００部に対
して０．２〜２０部の範囲で添加される。その量が０．
２部未満では光感度が不充分である。また２０部を超え
ても感度向上はされず、無駄となる他、組成物の保存安
定性やイミド化によって得られる被膜やフィルムの膜質
の点で不利である。

本組成物には光感度をさらに向上させるために増感剤を
添加することができる。

例えば、アミ７安息香！！！ａ、ベンズアルデヒド類、
アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン
頌、ペンザルアセトフエ７ノ類、アントラキノン類、ア
ニリン類、アミノケイ皮化合物類、アミノスチレン類、
アミノジフェニルメタン類、アミノトリフェニルメタン
類、キサンチン類、アミノケトクマリン類、ピリリウム
塩、あるいはチオピリリウム塩等である。

特に、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアニリン構造を含む化合物が
好ましく、例えば、４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）安
息香酸アミル、４−（Ｎ。

Ｎ−ジメチルアミノ）ベンズアルデヒド、４−（Ｎ、Ｎ
−ジメチルアミノ）アセトフェノン、４．４−ビス（Ｎ
、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４．４１−ビ
ス（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−（
Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンザルアセトフェノン、４
．４’−ビス（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンザルアセ
トフェノン、２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）アントラ
キノン、Ｎ−フェニルジエタノールアミン、４−（Ｎ、
Ｎ−ジメチルアミノ）ケイ皮酸、４−（Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアミノ）−α−シアノケイ皮酸、４，４′−ビス（Ｎ
、Ｎ−ジメチルアミノ）ジフェニルメタン、クリスタル
バイオレットラクトン、’　ａ−（Ｎ　ｅ　Ｎ−ジメチ
ルアミノ）スチレン、４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）
スチリルキノリン、等である。

なお上記増感剤を添加する場合、ポリアミド酸誘導体　
１００部に対して０．１〜２０部の添加量が望ましい。

本組成物は、通常、極性溶媒の溶液として使用される。

その例を挙げるとＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、
Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルアセトア
ミド、Ｎ−メチルカプロラクタム、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドン、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、ｒ−ブチロ
ラクトン、クロロフェノール、ジメチルスルホキシドな
ど極性溶媒の単独または混合、もしくは極性溶媒に沈殿
物を生じない範囲で、水、キシレン、メシチレン、ブチ
ルカルピトール、ジグライム、エチレングリコール、ブ
チルセロソルブ、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレンクリコール、クリセリン、
シクロヘキサノンなどの溶媒を混合したものである。

極性溶媒の使用量は通常ポリアミド酸誘導体１００部に
対して１００〜５０００部の範囲である。この量は、溶
液の必要粘度や必要濃度に応じて決定される。

なお、組成物には、感度向上を目的に公知の一〜四価の
アクリル、メタクリル、アリル、ビニルあるいはマレオ
イル基ヲ持つ七ツマ−や、貯蔵安定性向上を目的に公知
の重合禁止剤、例えばアルキルフェノール類、アルコキ
シフェノール類やヒドロキノン類を、また接着性の向上
を目的に公知のシランカップリング剤等を添加すること
ができる。

〔作用及び発明の効果〕

かくして得られた感光性組成物は実用的に充分な高感度
が得られ、特に、低露光量で高い感度が要求される半導
体、セラミック配線板及びフレキシブル配線板用途の数
＃ｍから数十μｍ厚の１間絶縫膜や表面保護膜用途に適
している。

また揮発し畑い高沸点の添加物量が少なくて済み、加熱
処理によろイミド化時の膜質劣化が少ない。

更に添加物として、窒素を発生して膜質低下の原因にな
るアジド化合物や悪臭性の多価チオールを添加する必要
が無い。

而して、本発明の感光性組成物は通常、以下に述べるフ
ナトレジストの方法で使用される。

即ち、基体、例えば、シリコン、ガラス、アルミニウム
、銅、ニッケル、チタン、銀、鉄、ステンレス、ポリイ
ミド、セラミックス、エポキシ樹脂等に感光性組成物の
溶液を塗布する工程、続いて温風や真空下で乾燥し流れ
の無い塗膜やフィルムにする工程、次に光、例えば可視
、紫外、エックス線、電子線を照射して、−？ターニン
グする工程、続いて浸漬やスプレー、超音波法などで現
像液と接触させて未照射部分を除去する工程、更に１５
０〜４５０°Ｃに加熱処理してイミド化する工程、等を
含む一連の方法である。

イミド化により得られた被膜は、耐熱性、電気的特性及
び力学特性に優れ、半導体等の絶縁膜や表面保護膜、メ
ツキレシストや酸素プラズマレジスト、液晶配向膜等に
好適に使用できる。

また、限外濾過等に用いる多孔質ポリイミドパターン、
薄膜ヘッドやスピーカー用イミドパターン、あるいは、
導電性物質、例えば、金属微粉末、金属塩、金属酸化物
、炭素粉末等を混合した導電性パターンを形成する材料
、あるいは塗料や顔料と混合して着色／櫂ターン形成材
として用いることも可能である。

〔実施例〕

以下、参考例、実施例、比較例により、本発明を更に詳
細に説明する。

なお、実施例中、粘度とはＮ−メチルピロリドン中、１
５重量％濃度２５℃で測定したものである。また、感度
とは現像前の膜厚に対し、現像後の膜厚が５０％になる
光の照射量を示し、値が小さい程良好な光感度であるこ
とを示す。

参考例（ａｌ　　ポリアミド酸誘導体（１）の合成特開昭５９
−１１９４８号公報記載の方法に準じ次の様にポリアミ
ド酸誘導体（１）を合成した。

１．２，４．５−ピロメリット酸二無水物１８．５９．
２−ヒドロキシエチルメタクリレート　２２．１．ｊｉ
ｌおよびテトラヒドロフラン２００　ｍｌを攪拌し、ピ
リジン　２８ｍｊをゆっくりと加え室温で２日間攪拌し
た。次いで塩化チオニル　１２ｄを氷冷しながら滴下し
、さらに１日攪拌した。次いで４．４′−ジアミノジフ
ェニルエーテル　１６９とジメチルアセトアミド７０−
の混合液を氷冷しながら滴下し室温で１日４役拌した。

次に２−ヒドロキシエチルメタクリレート　２０ｇを混
合し、室温で１日攪拌した。更に、この混合物を水　５
ｇ中に攪拌しながら加え生成した淡黄色ポリアミド酸誘
導体を濾過し、水洗した後、真空乾燥した。得られたポ
リアミド酸誘導体（１）の粘度は１２０センチポエズで
あった。

（ｂ）　　ポリアミド酸誘導体（２）の合成特開昭５８
−１２０６３６号公報記載の方法に準じ次の様にポリア
ミド酸誘導体（２）を合成した。

４．４′−ジアミノジフェニルエーテル　１３゜６１９
をＮ−メチルピロリドン　１８８ｇに加えて溶解し、３
．３’、４．４’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水
物　１９．２ｇを加え、室温で１日攪拌した。次に２−
ヒドロキシエチルメタクリレート　２ｇを加え、室温で
１Ｂ攪拌した。次いで、グリシジルメタクリレート　５
０ｇ、ジメチルベンジルアミン　ｏ、５ｇ、ヒドロキノ
ン　０．０５．！ｉｌを加え、６０℃で２時間攪拌した
。更に、この混合物を水　５１中に攪拌しながら加え生
成した淡黄色ポリアミド酸誘導体を濾過し、水洗した後
、真空乾燥した。

得られたポリアミド酸誘導体（２）の粘度は１５０セン
チポエズであった。

実施例　１ポリアミド酸誘導体（１）１０部をＮ−メチルピロリド
ン　５６部に溶解した後、芳香族有機過酸化物として５
．３’、４．４’−テトラ（１−ブチルペルオキシカル
ボニル）ベンゾフェノン０．５部、増感剤として４．４
１−ビス（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾフェノン　
０．３部を加え感光性組成物を得た。

上記組成物をアミノプロピルトリエトキシシランで表面
をカップリング処理したガラス板上に回転塗布し、次い
でドライヤー乾燥して３゜２μｍ厚の被膜を得た。この
被膜上に、パターンマスクを置き、５００Ｗの超高圧水
銀灯の光を２０秒照射した後、Ｎ−メチルピロリドンと
シクロヘキサノンの１：１部合溶媒で現像したところ、
露光部が硬化した膜厚２．７μｍのネガ型レリーフパタ
ーンが得られた。該パターンを１００℃から３５０℃ま
で１時間かけて加熱し、接着力の強い１．５μｍ厚のポ
リイミドパターンを得た。また組成物の感度線５０ｄ／
４であった。

比較例　１３　、　ｓ′、　４　、４’　　−テトラ−（ｔ−ブチ
ルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンを加えない他
は実施例１と同様に行なったところ、現像によりレリー
フパターンは残らなかった。また、感度はｚｏｏｏｄ／
ｃｄであった。

実施例２〜１２および比較例２〜５表１に示した各成分の組合せで、表１に示したポリアミ
ド酸誘導体　１０部、芳香族有機過酸化物　０．５部、
および増感剤　０．３部を用いた他はいずれも実施例１
と同様の操作を行なった。結果を表１に示した。

なお表中の略号は次の化合物を意味する。

ｐｌ　　　：ｔ−ブチルペルオキシベンゾエートＰ２　
　ニジ−ｔ−ブチルペルオキシイソフタレートＰ３　　　：１，２．４−）リ−（ｔ−ブチルペルオキ
シカルボニル）ベンゼンＰ　４　　　：　Ｓ　、　３’、　４　、４’−テトラ
−（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンＢＤＡＢ　：　４　、４１−ビス（Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミノ）ベンゾフェノンＤＡＡ　　：４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）アセトフ
ェノンＤＡＢＡ：４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンザルア
セトフェノンＢＤＢＡ：４．４’−ビス（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）
ベンザルアセトフェノンＤＡＣＮ：４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）−α−シア
ノケイ皮酸ＰＤＥＡ：Ｎ−フェニルジエタノールアミン表１

Claims

【特許請求の範囲】

（１）（ａ）下記一般式〔 I 〕で表される構造単位か
ら成るポリアミド酸誘導体１００部 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕（ただし、ポリアミド酸誘導体はＮ−メチルピロリドン
中１５重量％濃度としたとき２５℃の溶液粘度が１０セ
ンチポエズ以上となる分子量を有し、式中、Ｒ＾１は三
価又は四価の炭化水素残基を、Ｒ＾２は二価の炭化水素
残基を、Ｒ＾３は炭素一炭素二重結合を有する置換基を
、ｍは１又は２の整数を示す）（ｂ）芳香族有機過酸化物０．２〜２０部（ｃ）増感剤０〜２０部から成る感光性組成物（ただし、部は重量部を示す）。
（２）芳香族有機過酸化物が二価ないし四価の芳香族過
酸エステルである特許請求の範囲第（１）項記載の感光
性組成物。
（３）Ｒ＾３がアクリル基又はメタクリル基を含むアル
コキシル置換基である特許請求の範囲第（１）項記載の
感光性組成物。
（４）増感剤がＮ，Ｎ−ジアルキルアニリン構造を含む
化合物０．１〜２０部である特許請求の範囲第（１）項
記載の感光性組成物。
（５）Ｒ＾１が下記構造の何れかであり、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼、Ｒ＾２が下記構造の何れかであり、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 −（ＣＨ＿２）＿ｎ−Ｓｉ（ＣＨ＿３）＿２−ＯＳｉ（
ＣＨ＿３）＿２−（ＣＨ＿２）＿ｎ−、▲数式、化学式
、表等があります▼、（式中、ｎは０又は４以下の整数を示す）ｍが２である特許請求の範囲第（１）項記載の感光性組
成物。