JPS63206741A - 感光性の重合体組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体やプリント配線板プリント配線板製造
用材料として充分な高感度を有し、微細なパターン形成
を可能ならしめ、且つ、加熱処理によりイミド化して優
れた耐熱性を得られる、層間絶ａ膜や表面保護膜等に用
いることのできる感光性組成物を提供するものである。

〔従来の技術〕

従来公知のポリイミド系感光性樹脂としては、ポリアミ
ド酸側鎖に感光基を有する組成物と、ポリイミド又はポ
リアミド酸主鎖に感光基を有する組成物とに大別される
。

前者はポリアミド酸側鎖に感光基を有するモノマー成分
を共有結合又は塩結合で付与したもので、例えば特公昭
５５−４１４２２号公報、特開昭５４−１４５７９４号
公報に提案されているが、光感度が低く実用に供するに
は不充分である。

その改良として、特開昭６１−７３７４０号公報では感
光基を有するモノマー成分を共有結合したポリアミド酸
に多価のメルカプタン化合物と光重合開始剤を添加物と
した組成物が、特開昭５８−５８５４０号公。

報、同５９−１６０１４０号公報、同６０−４２４２４
号公報、同６０−１３５４５７号公報では感光基を有す
るモノマー成分を混合したポリアミド酸に芳香族アジド
又はビスアジドを添加物とした組成物が、また上記同５
９−１６０１４０号公報では感光基を有するモノマー成
分を混合したポリアミド酸に芳香族にケトン基が結合し
ていない芳香族アミノ化合物を添加物とした組成物が提
案されている。

しかし、これらの組成物の場合、実際の使用に際して、
（１）添加物の含量が多くしかもその揮発性が低いため
に加熱処理によるイミド化工程に長時間を要する、（２
）メルカプタンの悪臭がある、（３）ア　・シト化合物
が露光あるいは加熱処理時に分解し窒素を発生するため
に膜質を損ねる、など解決し難い欠点がある。

後者のポリイミド又はポリアミド酸主鎖に感光基を有す
るポリマーとしてはカルコン骨格を持ったポリイミドの
例が特開昭５７−１３１２２７号公報、同５９−１４５
２１６号公報に提案されている。しかし、光感度が低い
ため実用に供するには不充分である。

〔発明が解決しようとしている問題点〕本発明は、上記
従来技術の欠点に鑑み、揮発性の低い添加物含量が少な
くて済み、悪臭が無い上に、従来品以上の光感度とｍ質
性能を持ち、しかも、製造方法が極めて容易である実用
的感光性ポリアミド酸の組成物を目的としたものである
。

本発明組成物の特徴は有機過酸化物を必須成分とすると
ころにある。

有機過酸化物が熱で分解することを利用して有用な重合
体を製造する方法は広く知られている。

一方、有機過酸化物が光で分解することも古くから知ら
れるところである０例えば、″有機過酸化物の化学“小
力編著　南江堂昭和４６年刊　３６〜３８頁にその記載
が有る。

しかしながら、有機過酸化物は光の吸収波長域が低波長
過ぎるため光感度が低く感光性材料にはほとんど使用さ
れなかった。

例えば、感光性材料に間する代表的な出版物として　“
Ｕ■・ＥＢ硬化技術“総合技術センター出版昭和５７年
刊、′感光性高分子“氷枕・乾著ｔｉ談社昭和５２年刊
、あるいは“新・感光性高分子“角田著印刷学会出版昭
和５６年刊を挙げられるが、有機過酸化物に関する記載
は僅かにジ−ｔ−ブチルペルオキシドの光分解やベンゾ
イルペルオキシドの光分解を用いた数例が紹介されてい
るに過ぎない。

更に、感光性ポリアミドｒｔＩ組成物に過酸化物を適用
しようとすると、ポリアミド酸には低波長域に特有の大
きな光吸収があるため過酸化物の光分解が阻害され光感
度は大幅に低下する。

それゆえ感光性ポリアミド酸組成物に過酸化物を必須成
分とした事例は、本発明者の知る範囲で見当たらない。

本発明者は有機過酸化物の感光性ポリアミド酸組成物へ
の適用を鋭意検討の結果、増感剤を共存させることによ
り有機過酸化物の最大欠点である光感度の低さが解決さ
れ、しかも本発明の目的とした、添加物含量が少ない、
メルカプタン臭が無い、光感度が良い、膜質が良い、製
造が容易であるなどの実用的な特性を有していることを
見出し、本発明に到達したものである。

〔問題点を解決するための手段〕

而して本発明は、（ａ）下記一般式［Ｉ］で表される構
造単位から成るポリアミド酸　　　１００部＜−Ｃｏ−
Ｒ１−ＣＯＮＨ−Ｒ２−ＮＨ−＞（ＣＯＯＨ）　　ｍ ［Ｉコ （ただしポリアミド酸はＮ−メチルピロリドン中１５重
量％濃度としたとき２５℃の溶液粘度が１００センチボ
エズ以上となる分子量を有し、式中、Ｒ１は三価又は四
価の炭化水素残基を、Ｒ２は二価の炭化水素残基を、ｍ
は１又は２の整数を、部は重量部を示す） （ｂ）エチレン結合を有するモノマー　１０〜２０Ｏｆ
ＩＢ（ｃ）有機過酸化物　　　　　　　　　０．２〜２
０部（ｄ）増感剤　　　　　　　　　　　　０．２〜２
０部から成る感光性組成物である。

本発明に於いて、一般式ＣＩ］で表される構造単位から
成るポリアミド酸成分は、加熱あるいは脱水剤によりイ
ミド化して、耐熱性、電気的特性、力学的特性に優れた
ポリイミド被膜やフィルムを形成する。

上記ポリアミド酸はトメチルピロリドン中、１５重量％
濃度の溶液の、２５℃における粘度が１００センチボエ
ズ以上であることが必要である。粘度がそれ以下のとき
は、イミド化によって得られる被膜の力学的強度が低く
実用的で無い。

一般式［Ｉ］中のＲ１およびＲ２の種類によるポリアミ
ド酸やイミド化物の諸物性については既にぼう大な数の
特許出願公報や研究文献があり広く知られているところ
であるが、それらの基本的な化学的及び物理的性質は類
似と見なして良い。

それゆえ本発明は特にＲ７およびＲ２の構造を規定する
ものでは無いが原料の入手性、耐熱性、電気的特性、力
学特性、接着性などの優位性により、Ｒ１が下記構造の
四価の炭化水素残基の何れかであり、 １ロて　・　　真〕］；沃　　・　　′Ｅ５ＴＣ「１ロ
て　・Ｒ２が下記構造の二価の炭化水素残基の何れかで
あることが好ましい、 Ｒ革ヒ・　てン　　・Ｒ回ヒ０−＜革ヒ・−〇〉ＣＨｆ
（Ｄ−１−Ｃシω−６−１＋０＋０づ（ロ）ト、 −６−０−Ｑ−Ｃ（ＣＨａ）「（）−〇Ｒ革ト、Ｒ革ヒ
Ｃ（ＣＨ３）２−Ｅ◎ヒＣ（０１３）２＋、（ＣＨ２）
ｎ−５ｉ　（Ｃ１ｌａ）ｚ−Ｏ５ｉ（ＣＨａ）２−（Ｃ
Ｈ２）ｎ−１Ｒ革ヒＳ　ｉ（Ｃｌａ）２０Ｓｉ（ＣＨｇ
）２Ｒ革ヒ、（式中、ｎはＯ又は４以下の整数を示す）
。

ポリアミド酸の一般的製造法はＲ１構造を持つテトラカ
ルボン酸二無水物あるいはトリカルボン酸無水物誘導体
とＲ２構造を持つジアミンとをＮ−メチルピロリドン等
の有機極性溶媒中で重縮合させるもので、本発明も当該
の方法に従う。

得られたポリアミド酸溶液はそのままで本発明の組成物
に使用できるが、水、メタノール、アセトン等のポリア
ミド酸を不溶化する溶媒で沈澱化して精製分離した後に
使用しても良い。

本発明に於いて、エチレン結合を有するモノマーとは一
分子中に炭素−炭素二重結合を一以上持ち、極性溶剤に
溶解可能な化合物を意味する。

具体的にはアクリル、メタクリル、アリル、ビニル、あ
るいはマレオイル基を持つ化合物でありアクリル酸及び
そのエステルやアミド、メタクリル酸及びそのエステル
やアミド、アリルアルコール及びそのエステルやエーテ
ル、アリルアミン及びそのアミド、ビニルシラン、ビニ
ルピロリドン、マレイン酸などの公知化合物が挙げられ
る。

より好ましくは一〜四価のアクリルもしくはメタクリル
化合物である。その具体例は以下に示すアクリル酸もし
くはメタクリル酸、そのアルコールエステルもしくはア
ミド、その塩等である。即ち、−価の化合物ニアクリル
酸、メタクリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート
、２−ヒドロキシエチルメタクリレートアクリルアミド
、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、
アクロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、２−（Ｎ、　Ｎ−ジメチルアミノ）エチルアク
リレート、　２−（Ｎ、　Ｎ−ジメチルアミノ）エチル
メタクリレ−）　、２−（Ｎ、　Ｎ−ジエチルアミノ）
エチルアクリレ−）　、２−（Ｎ、　Ｎ−ジエチルアミ
ノ）エチルメタクリレート、３・（Ｎ、トジメチルアミ
ノ）プロピルメタクリレート、３−（Ｎ、　Ｎ−ジエチ
ルアミノ）プロピルメタクリレート、メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、 二価の化合物：エチレングリコールジアクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリ
コールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタ
クリレート、メチレンビスアクリルアミド、２−ヒドロ
キシエチルアクリレートのリン酸ジエステル、２−ヒド
ロキシエチルメタクリレートのリン酸ジエステル、ペン
タエリスリトールジアクリレート、アクリル酸もしくは
メタクリル酸と上記Ｎ％Ｎ−ジアルキルアミノアルキル
アクリレートとの塩、 三価の化合物：ペンタエリスリトールジアクリレート、
２−ヒドロキシエチルアクリレートのリン酸トリエステ
ル、上記リン酸ジエステルと上記Ｎ、Ｎ−ジアルキルア
ミノアルキルアクリレートとの塩、四価以上の化合物：
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ノボラック
エポキシアクリレート、ポリビニルアルコールの部分ア
クリレート、ポリビニルアルコールの部分メタクリレー
ト、等であり、特に好ましくは、エチレン結合を有する
モノマーがＮ、　Ｎ−ジアルキルアミノアルキルアクリ
レート、Ｎ、　Ｎ−ジアルキルアミノアルキルメタクリ
レート、アクリルアミド、アクロイルモルホリン、ポリ
エチレングリコールジアクリレート又はポリエチレング
リコールジメタクリレートから選択された一種又は混合
である。

なかでも　２−（Ｎ、　Ｎ−ジメチルアミノ）エチルメ
タクリレート又は２−（Ｎ、　Ｎ−ジエチルアミノ）エ
チルメタクリテートが良い。

上記エチレン結合を有するモノマーは、単独あるいは混
合で、ポリアミドｌ！１１００部に対して１０〜２００
部の範囲で混合される。

１０部未満では、本発明の目的の−である良好な光感度
と膜質を得るには不充分である。　一方、２００部を超
えるモノマー量を混合することは、組成物の実際使用の
際に、無駄に蒸発飛散する分が増え、人体への悪影響や
火災の危険性があり、また、加熱処理によるイミド化に
於いて膜質を低下させる原因となるので避けなければな
らない。

より好ましいモノマーの混合量は１５〜１００ｔＩＢで
ある。

上記モノマーのうち、アミノ基やアミド基等を持つモノ
マーは一般にポリアミド酸との相溶性が良く、使用時の
乾燥によって透明な被膜が得られるが、他のモノマー類
は通常ポリアミド酸との相溶性が悪く、乾燥の際に白化
し易いので、乾燥の度合を抑制するか、相溶性の良いモ
ノマーを混合して使用するのが良い。

本発明に於いて、有機過酸化物とは、分子中に一〇−〇
−結合を一以上有する有機化合物を意味し、ペルオキシ
エステル、ジアルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシ
ド、ペルオキシケタール、ペルオキシカーボネート、ア
シルペルオキシド等の化合物を示す。

これらの有機過酸化物は、通常−〜四価の低分子化合物
であるが、ポリマー中に含まれる側鎖を過酸化した高分
子化合物でも良い０例えば、ポリアミド酸の側鎖あるい
は末端にあるカルボン酸基を過酸エステルとした高分子
過酸化物等である。

有機過酸化物として好ましいものは、分子内に芳香核を
有する過酸化物である。

さらに好ましくは、半減期１０時間を得るための分解温
度が９０℃以上である芳香核を有する有機過酸化物であ
る。

ここで半減ｌＪ］ｌＯ時間を得るための分解温度とは、
ベンゼン等の不活性溶媒中で測定した有機過酸化物の半
減期が１０時間となる温度を示し、その値は例えば、′
有機過酸化物の化学″小方著（前出）や“有機過酸化物
・第１２版“日本油脂発行カタログ等に詳しく記載され
ている。

それらの有機過酸化物を半減期１０時間を得るための分
解温度とともに示すと、例えば、２．５−ジメチル−２
，５−ジ（ベンゾイルペルオキシ）ヘキサン（１００℃
）、ｔ−プチルベルオキシベンゾエ−）　（１０４℃）
、ジ−ｔ−ブチルジペルオキシフタレート（１０５℃）
、ジーｔ−プチルジペルオキシイソフタレー）（１０７
℃）、ジクミルペルオキシド（１１７℃）、３．３’、
４．４’−テトラ−（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル
）ベンゾフェノン（１１４℃）、α、α２−ビス（ｔ−
ブチルペルオキシ−贈−イソプロピル）ベンゼン（１１
９℃）、ｔ−ブチルクミルペルオキシド（１２０℃）、
ジイソブロビルベンゼンヒドａペルオキシド（１２２℃
）、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド（１２４℃）、クメン
ハイドロペルオキシド（１５８℃）、ｔ−ブチルハイド
ロペルオキシド（１６７℃）、などを挙げることができ
る。

なかでも特に好ましいものは、半減期１０ＷＩ間を得る
ための分解温度が９０℃以上である芳香族過酸エステル
である。

上記有機過酸化物はポリアミド酸１００部に対して０．
２〜２０部の範囲で添加される。その量が０．２部未満
では光感度が不充分である。また２０部を超えても感度
向上はされず、無駄となる他、組成物の安定性や膜質の
点で不利である。より好ましくは０．５〜１０部の添加
である。

本発明に於ける、増感剤とは、有機過酸化物の光分解を
容易に誘起させる化合物を示し、例えばベンゾフェノン
類、ベンザルアセトフェノン類、アントラキノン類、ア
ニリン類、アジド類、ケイ皮化合物類などを挙げること
ができる。

好ましくはベンゾフェノン類、ペンプルアセトフェノン
類、Ｎ−フルキルアニリン類あるいはアミノケイ皮化合
物類である。

その例としては、ベンゾフェノン、メトキシベンゾフェ
ノン、ジメトキシベンゾフェノン、クロロベンゾフェノ
ン、ジクａロペンゾフエノン、ヒドロキシベンゾフェノ
ン、ニトロベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェ
ノン、ビス（ジメチルアミノ〉ベンゾフェノン、ジエチ
ルアミノベンゾフェノン、ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン、チオキサントン、メチルチオキサントン、
クロロチオキサントン、ジメチルアミノアントロン、ベ
ンザルアセトフェノン、メチルベンザルアセトフェノン
、ヒドロキシベンザルアセトフェノン、メトキシベンザ
ルアセトフェノン、ジメチルアミノベンザルアセトフェ
ノン、ビス（ジメチルアミノ）ベンザルアセトフェノン
、ジエチルアミノベンザルアセトフェノン、ニトロベン
ザルアセトフェノン、フェニルジエチルアミン、フェニ
ルジエタノールアミン、エチルフェニルエタノールアミ
ン、ジメチルアミノケイ皮酸、ジメチルアミノシンナモ
ニトリル、ジメチルアミノケイ皮アルデヒド等がある。

なかでも特に好ましいものは４，４１−ビス（Ｎ、Ｎ。

−ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４．４′−ビス（
Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）ベンゾフェノンに代表される
アミノベンゾフェノン類、４−　（Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミノ）ベンザルアセトフェノン、４，４９−ビス（Ｎ、
Ｎ、−ジメチルアミノ）ベンザルアセトフェノンに代表
されるアミノベンザルアセトフェノン類、Ｎ−フェニル
ジエタノールアミンに代表されるＮ−アルキルアニリン
類、４−　（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ケイ皮酸、４−
　（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）−α−シアノケイ皮酸に
代表されるアミノケイ皮酸類である。

上記増感剤はポリアミド酸１００部に対して０．２〜２
０部の範囲で添加される。その量が０．２部未満では光
感度が不充分である。また２０部を超えても感度向上は
されず、無駄となる他、組成物の安定性や膜質の点で不
利である。より好ましくは０．５〜１０部の添加である
。

本鞘成物は、通常、極性溶剤の溶液として使用される。

その例を挙げるとＮ、　Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ
、　Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ、　Ｎ−ジメチルア
セトアミド、Ｎ、　Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メ
チルカプロラクタム、Ｎ−メチル−２＝ピロリドン、Ｎ
−アセチル−２−ピロリドン、クロロフェノール、ジメ
チルスルホキシドなど極性溶媒の単独または混合、もし
くは極性溶媒に沈澱物を生じない範囲で、水、キシレン
、メシチレン、ブチルカルピトール、ジグライム、エチ
レングリコール、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコ
ール、グリセリンなとの溶媒を混合したものである。

極性溶剤の使用量はポリアミド酸１００部に対して１０
０〜５０００部の範囲である。この量は、溶液の必要粘
度や必要濃度に応じて決定されるが、上記範囲外の溶剤
使用量は実用性に乏しい。

而して本発明の感光性組成物は通常のフォトレジスト用
途に１ｉ膜あるいはフィルムの形状で使用される。

なお、組成物には、貯蔵安定性向上を目的に公知の重合
禁止剤、例えばアルキルフェノール類や接着性の向上を
目的に公知のシランカップリング剤尋を添加することが
できる。

〔作用及び発明の効果〕

かくして得られた感光性組成物は多くの利点を有してい
る。

まず、実用的に充分な高感度が得られ、特に、低露光量
で高い感度が要求される半導体、セラミック配線板及び
フレキシブル配線板用途の数μｍから数十μｍ厚の絶ａ
Ｍ用途に適している。

第二に揮発し難い高沸点の添加物量が少なくて済み加熱
処理によるイミド化時の膜質劣化が少ない。

第三に添加物として、窒素を発生して膜質低下の原因に
なるアジド化合物や悪臭性の多価チオールを添加する必
要が無い。

第四に製造方法が容易である、等。

而して、本発明の感光性組成物は通常、以下に述べるフ
ォトレジストの方法で使用される。即ち、基体、例えば
、シリコン、ガラス、アルミニウム、銅、ニッケル、チ
タン、銀、鉄、ステンレス、ポリイミド、セラミックス
、エポキシ樹脂等に感光性組成物の溶液を塗布する工程
、続いて温風や真空下で乾燥し流れの無い塗膜やフィル
ムにする工程、次に光　例えば可視、紫外、エックス線
、電子線を照射してパターニングする工程、続いて浸漬
やスプレー、超音波法などで現像液と接触させて未照射
部分を除去する工程、更に１５０〜４５０℃に加熱処理
してイミド化する工程、等を含む一連の方法である。

イミド化により得られた被膜は、耐熱性、電気的特性及
び力学特性に優れ、半導体等の絶縁膜や表面保護膜、メ
ツキレシストや酸素プラズマレジスト、液晶配向膜等に
好適に使用できる。

また　限外濾過等に用いる多孔質ポリイミドパターン、
薄膜ヘッドやスピーカー用イミドパターン、あるいは、
導電性物質、例えば、金属微粉末、金属塩、金属酸化物
、炭素粉末等を混合した導電性パターンを形成する材料
、あるいは塗料や顔料と混合して着色パターン形成材と
して用いることも可能である。

〔実施例〕

以下、実施例により、本発明を更に詳細に説明する。

なお、実施例中、ポリアミド酸の粘度とはＮ−メチルピ
ロリドン中、１５ｆＥｊ１％濃度２５℃で測定したもの
である。また、感度とは現像前の膜厚に対し、現像後の
膜厚が５０％になる光の照射量を示す。

実施例　１ １１！のセパラブルフラスコに４，４′−ジアミノジフ
ェニルエーテル１３．８１ｇ　（６８ミリモル）及びＮ
−メチルピロリドン１８８ｇを加えて溶解した後、分子
ｍｒｉｕｘ剤トＬ／　テ無水７９　）Ｌ４Ｍ１０．４０
ｇ　　（２，７ミ’）　モル）を加えて２５℃で１時間
攪はんした。続いて３゜３’、４．４’−ジフェニルテ
トラカルボン酸二無水物１９．２ｇ（６５，３ミリモル
）を加え２５℃で６時間攪はんした。かくて得られた１
５重量％濃度ポリアミドｒ１１溶液の粘度は２０００セ
ンテボエズであった。

この溶液２０ｇに　エチレン結合を有するモノマーとし
て　２−（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）エチルメタクリレ
−）　２．１ｇ　（ポリアミドａｌｌ　１００部に対し
７０部）、過酸化物として　ｔ−ブチルペルオキシベン
ゾエート０．０９０ｇ　（ポリアミド酸１００部に対し
３部）、増感剤として　４．４”−ビス（Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアミノ）ベンゾフェノンｏ、ｏ９ｏ３　（ポリアミ
ド酸１００部に対し３部）、を加え、感光性組成物を得
た。

上記組成物をスピンナーでガラス板上に回転塗布し、次
いでドライヤー乾燥して３．１μｍ厚の被膜を得た。こ
の被膜上に、パターンマスクを置き、５００％Ｉ！の超
高圧水銀灯の光を３０秒照射した後、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アセトアミドとイソプロパツールとの４：１混合溶媒で
現像したところ、露光部が硬化したネガ型のレリーフパ
ターンが得られた。該パターンを１００℃から３５０℃
まで１時間かけて加熱し、接着力のつよい２．１μｍ厚
のポリイミドパターンを得た。また組成物の感度は１０
０　ｍＪ／ｃｎｌであフた。

比較例１ ２−（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）エチルメタクリレート
を加えない他は実施例１と同様に行なったところ、現像
によりレリーフパターンは残らなかった。

またｔ−ブチルペルオキシベンゾエートを加えない他は
実施例１と同様に行なったところ、現像によりレリーフ
パターンにクラックが発生し、感度は２０００　ｍｌ／
ｃｓｄであった。

次に、４，４′−ビス（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベン
ゾフェノンを加えない他は実施例１と同様に行なったと
ころ、現像によりレリーフパターンは得られたがクラッ
クが発生し、感度は２０００　＠Ｊ／Ｃｌ１１であった
。

実施例２ ｔ−ブチルペルオキシベンゾエートに代えてジ−ｔ−ブ
チルペルオキシフタレート０．０９０ｇを用いた他は実
施例１と同様に行なったところ、現像により膜質の良い
レリーフパターンを得た。また感度は６０　ｓＪ／−で
あった。

比較例２ ２−（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）エチルメタクリレート
を加えない他は実施例２と同様に行なフたところ、現像
によりレリーフパターンは残らなかった。

次にジ−ｔ−ブチルペルオキシフタレートを加えない他
は実施例２と同様に行なったところ、レリーフパターン
にクラックが発生し、感度は　２０００ｓ＋Ｊ／ａｌｌ
であった。

また４、４９−ビス（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾ
フェノンを加えない他は実施例２と同様に行なったとこ
ろ、現像によりレリーフパターンは得られたが、感度は
１８００■Ｊ／ｃＡと低感度であった。

実施例３〜６ ｔ−ブチルペルオキシベンゾエートに代えて表−１に示
した有機過酸化物０．０９０ｇ　　（ポリアミド酸１０
０８８に対し３部）を用いた他は実施例１と同様に行な
った。

表−１ 実施例　　　有機ｉＩＡ酸化物　　乾燥膜厚　感度Ｎｏ
　　　　　　　　　　　　　　　Ｂｍ　　　ｇＪ／ａｉ
１３　　　　　　ＢＴＴＢ　　　　　　３．１　　１０
４　　　　　　ＣＨＰ　　　　　　　２．９　　３５０
５　　　　　８ＣＰ　　　　　　　２．９　　８００６
　　　　　　ＤＢＰ　　　　　　　２．６　　６００Ｂ
ＴＴＢ　：３，３’、４．４ξテトラ（ｔ−ブチルペル
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、 ＣＨＰ　　：クメンヒドロペルオキシド、ＢＣＰ　　：
ｔ−ブチルクミルペルオキシド、ＤＢＰ　　ニジ−ｔ−
ブチルペルオキシド、実施例７〜１０ ４．４′−ビス（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾフェ
ノンに代えて表−２に示した増感剤０．０９０ｇ　（ボ
リアミド酸１００　Ｍに対し３部）を用いた他は実施例
１と同様に行なった。

表−２

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. （１）（ａ）下記一般式［ I ］で表される構造単位か
   ら成るポリアミド酸１００部 ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］ （ただしポリアミド酸はＮ−メチルピロリドン中１５重
   量％濃度としたとき２５℃の溶液粘度が１００センチポ
   エズ以上となる分子量を有し、式中、Ｒ＿１は三価又は
   四価の炭化水素残基を、Ｒ＿２は二価の炭化水素残基を
   、ｍは１又は２の整数を、部は重量部を示す） （ｂ）エチレン結合を有するモノマー１０〜２００部 （ｃ）有機過酸化物０．２〜２０部 （ｄ）増感剤０．２〜２０部 から成る感光性組成物。
2. （２）有機過酸化物が分子内に芳香核を有する過酸化物
   である特許請求の範囲第（１）項記載の感光性組成物。
3. （３）有機過酸化物がその半減期１０時間を得るための
   分解温度が９０℃以上である特許請求の範囲第（２）項
   記載の感光性組成物。
4. （４）有機過酸化物が芳香族過酸エステルである特許請
   求の範囲第（３）項記載の感光性組成物。
5. （５）増感剤がベンゾフェノン類、ベンザルアセトフェ
   ノン類、Ｎ−アルキルアニリン類あるいはアミノケイ皮
   化合物類である特許請求の範囲第（１）項記載の感光性
   組成物。
6. （６）増感剤がアミノベンゾフェノン類あるいはアミノ
   ケイ皮酸類である特許請求の範囲第（１）項記載の感光
   性組成物。
7. （７）増感剤がアミノベンザルアセトフェノン類である
   特許請求の範囲第（１）項記載の感光性組成物。
8. （８）Ｒ＿１が下記構造の四価の炭化水素残基の何れか
   であり、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
   、 Ｒ＿２が下記構造の二価の炭化水素残基の何れかである
   特許請求の範囲第（１）項記載の感光性組成物▲数式、
   化学式、表等があります▼ （式中、ｎは０又は４以下の整数を示す）。
9. （９）エチレン結合を有するモノマーが、Ｎ，Ｎ−ジア
   ルキルアミノアルキルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
   ルアミノアルキルメタクリレート、アクリルアミド、ア
   クロイルモルホリン、ポリエチレングリコールジアクリ
   レート又はポリエチレングリコールジメタクリレートか
   ら選択された一種又は混合である特許請求の範囲第（３
   ）項記載の感光性組成物。
10. （１０）エチレン結合を有するモノマーが、２−（Ｎ，
    Ｎ−ジメチルアミノ）エチルメタクリレート又は２−（
    Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチルメタクリレートである
    特許請求の範囲第（３）項記載の感光性組成物。