JPS63221109A - 感光性のポリアミド酸組成物 - Google Patents
感光性のポリアミド酸組成物Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/037—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyamides or polyimides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体やプリント配線板プリント配線板製造
用材料として充分な111g度を有し、微細なパターン
形成を可能ならしめ、且つ、加熱処理によりイミド化し
て優れた耐熱性を得られる、層間M&tlや表面保t!
ifi等に用いることのできる感光性組成物を提供する
ものである。
用材料として充分な111g度を有し、微細なパターン
形成を可能ならしめ、且つ、加熱処理によりイミド化し
て優れた耐熱性を得られる、層間M&tlや表面保t!
ifi等に用いることのできる感光性組成物を提供する
ものである。
従来公知のポリイミド系感光性樹脂としては、ポリアミ
ド酸側鎖に感光基を有する組成物と、ポリイミド又はポ
リアミド酸主鎖に感光基を有する結成物とに大別される
。
ド酸側鎖に感光基を有する組成物と、ポリイミド又はポ
リアミド酸主鎖に感光基を有する結成物とに大別される
。
前者はポリアミド酸側鎖に感光基を有するモノマー成分
を共有結合あるいは塩結合で付与したもので、例えば特
公昭55−41422号公報、特開昭54−14579
4号公報に提案されているが、光感度が低く実用に供す
るには不充分である。
を共有結合あるいは塩結合で付与したもので、例えば特
公昭55−41422号公報、特開昭54−14579
4号公報に提案されているが、光感度が低く実用に供す
るには不充分である。
その改良として、特開昭61−73740号公報では感
光基を有するモノマー成分を共有結合したポリアミド酸
に多価のメルカプタン化合物と光重合開始剤を添加物と
した結成物が、特開昭58−58540号公報、同59
−160140号公報、同60−42424号公報、同
60−135457号公報では感光基を有するモノマー
成分を混合したポリアミド酸に芳香族アジド又はビスア
ジドを添加物とした組成物が、また上記間59−160
140号公報では感光基を有するモノマー成分を混合し
たポリアミド酸に芳香族にケトン基が結合していない芳
香族アミノ化合物を添加物とした組成物が提案されてい
る。
光基を有するモノマー成分を共有結合したポリアミド酸
に多価のメルカプタン化合物と光重合開始剤を添加物と
した結成物が、特開昭58−58540号公報、同59
−160140号公報、同60−42424号公報、同
60−135457号公報では感光基を有するモノマー
成分を混合したポリアミド酸に芳香族アジド又はビスア
ジドを添加物とした組成物が、また上記間59−160
140号公報では感光基を有するモノマー成分を混合し
たポリアミド酸に芳香族にケトン基が結合していない芳
香族アミノ化合物を添加物とした組成物が提案されてい
る。
しかし、これらの結成物の場合、使用に際して、(1)
添加物の含量が多くしかもその揮発性が低いために加熱
処理によるイミド化工程に長時間を要する、(2)メル
カプタンの悪臭がある、(3)アジド化合物が露光ある
いは加熱処理時に分解し窒素を発生して膜質を損ねる、
など解決し難い欠点がある。
添加物の含量が多くしかもその揮発性が低いために加熱
処理によるイミド化工程に長時間を要する、(2)メル
カプタンの悪臭がある、(3)アジド化合物が露光ある
いは加熱処理時に分解し窒素を発生して膜質を損ねる、
など解決し難い欠点がある。
後者のポリイミド又はポリアミド酸主鎖に感光基を有す
るポリマーとしてはポリイミドの例が特開昭57−13
1227号公報、同59−145216号公報に提案さ
れている61ノかし、光感度が仮いため実用に供するに
は不充分である。
るポリマーとしてはポリイミドの例が特開昭57−13
1227号公報、同59−145216号公報に提案さ
れている61ノかし、光感度が仮いため実用に供するに
は不充分である。
〔発明が解決しようとしている問題点〕本発明は、上記
従来技術の欠点に鑑み、揮発性の低い添加物含量が少な
くて済み、悪臭が無い上に、従来品以上の光感度と膜質
性能を持ち、しかも、製造方法が極めて容易である実用
的感光性ポリアミド酸の組成物を目的としたものである
。
従来技術の欠点に鑑み、揮発性の低い添加物含量が少な
くて済み、悪臭が無い上に、従来品以上の光感度と膜質
性能を持ち、しかも、製造方法が極めて容易である実用
的感光性ポリアミド酸の組成物を目的としたものである
。
本発明結成物の特徴は芳香族過酸エステル及びフェニル
アルキルケトン類もしくはベンズアルデヒド類を必須成
分とするところにある。
アルキルケトン類もしくはベンズアルデヒド類を必須成
分とするところにある。
有機過酸化物が熱で分解することを利用して有用な重合
体を製造する方法は広く応用されている。
体を製造する方法は広く応用されている。
一方、有機過酸化物が光で分解することも古くから知ら
れ、例えば、′有機過酸化物の化学″小力編著 南江堂
昭和46年刊 36〜38頁にその記載が有る。
れ、例えば、′有機過酸化物の化学″小力編著 南江堂
昭和46年刊 36〜38頁にその記載が有る。
しかしながら、有機過酸化物は光の吸収波長域が低波長
過ぎるため光感度が低く感光性材料の実用用途にはほと
んど使用されなかった。
過ぎるため光感度が低く感光性材料の実用用途にはほと
んど使用されなかった。
例えは、感光性材料に関する代表的な出版物として ”
UV−EB硬化技術“総合技術センター出版昭和57年
刊、 ″感光性高分子″永松・乾著講談社昭和52年刊
、あるいは “新・感光性高分子″角田著印刷学会出版
昭和56年刊を挙げられるが、有機過酸化物に間する記
載は僅かに ジ−t−ブチルペルオキシドの光分解やベ
ンゾイルペルオキシドの光分解を用いた数例が紹介され
ているに過ぎない。
UV−EB硬化技術“総合技術センター出版昭和57年
刊、 ″感光性高分子″永松・乾著講談社昭和52年刊
、あるいは “新・感光性高分子″角田著印刷学会出版
昭和56年刊を挙げられるが、有機過酸化物に間する記
載は僅かに ジ−t−ブチルペルオキシドの光分解やベ
ンゾイルペルオキシドの光分解を用いた数例が紹介され
ているに過ぎない。
更に、感光性ポリアミド酸絹酸物に過酸化物を適用しよ
うとすると、ポリアミド酸には低波長域に特有の大きな
光吸収があるため過酸化物の光分解が阻害され光感度は
大幅に低下する。
うとすると、ポリアミド酸には低波長域に特有の大きな
光吸収があるため過酸化物の光分解が阻害され光感度は
大幅に低下する。
それゆえ感光性ポリアミド*[酸物に過酸化物を必須成
分とした事例は、本発明者の知る範囲で見当たらず、実
用性は無いと考えられて来た。
分とした事例は、本発明者の知る範囲で見当たらず、実
用性は無いと考えられて来た。
この様な背景をもとに、本発明者は鋭意検討の結果、特
定の有機過酸化物 すなわち本発明で必須成分とする芳
香族過酸エステル及びフェニルアルキルケトン類もしく
はベンズアルデヒド類を用いることによって上記の問題
が解決でき、初めて実用的かつ良好な感光性ポリアミド
酸成分成物が得られることを見い出し、本発明に到達し
たものである。
定の有機過酸化物 すなわち本発明で必須成分とする芳
香族過酸エステル及びフェニルアルキルケトン類もしく
はベンズアルデヒド類を用いることによって上記の問題
が解決でき、初めて実用的かつ良好な感光性ポリアミド
酸成分成物が得られることを見い出し、本発明に到達し
たものである。
しかも本発明組成物は発明の目的とした、添加物含量が
少ない、メルカプタン臭が無い、光感度が良い、膜質が
良い、製造が容易であるなと多くの有利な特性を有して
いるものである。
少ない、メルカプタン臭が無い、光感度が良い、膜質が
良い、製造が容易であるなと多くの有利な特性を有して
いるものである。
而して本発明は (a)下記一般式[I]で表される構
造単位から成るポリアミド9 100部<−Co−
R1−CONH−R2−NH−><C0OH>m [I] (ただしポリアミド酸はN−メチルピロリドン中15重
量%濃度としたとき25℃の溶液粘度が100センチボ
エズ以上となる分子量を有し、式中、R1は三価又は四
価の炭化水素残基を、R2は二価の炭化水素残基を、m
c、tl又は2の整数を、部は重量部を示す) (b)エチレン結合を有するモノマー 10〜200部
(c)芳香族過酸エステル 0.2〜20部
(d)フェニルアルキルケトン類もしくはベンズアルデ
ヒド類 0.2〜20部から
成る感光性組成物である。
造単位から成るポリアミド9 100部<−Co−
R1−CONH−R2−NH−><C0OH>m [I] (ただしポリアミド酸はN−メチルピロリドン中15重
量%濃度としたとき25℃の溶液粘度が100センチボ
エズ以上となる分子量を有し、式中、R1は三価又は四
価の炭化水素残基を、R2は二価の炭化水素残基を、m
c、tl又は2の整数を、部は重量部を示す) (b)エチレン結合を有するモノマー 10〜200部
(c)芳香族過酸エステル 0.2〜20部
(d)フェニルアルキルケトン類もしくはベンズアルデ
ヒド類 0.2〜20部から
成る感光性組成物である。
本発明に於いて、一般式[I]で表される構造単位から
成るポリアミド酸成分は、加熱あるいは脱水剤によりイ
ミド化して、耐熱性、電気的特性、力学的特性に優れた
ポリイミド被膜やフィルムを形成する。
成るポリアミド酸成分は、加熱あるいは脱水剤によりイ
ミド化して、耐熱性、電気的特性、力学的特性に優れた
ポリイミド被膜やフィルムを形成する。
上記ポリアミド酸はN−メチルピロリドン中、15重量
%濃度の溶液の、25℃における粘度カ月00センチボ
エズ以上であることが必要である。粘度がそれ以下のと
きは、イミド化によって得られる被膜の力学的強度が低
く実用的で無い。
%濃度の溶液の、25℃における粘度カ月00センチボ
エズ以上であることが必要である。粘度がそれ以下のと
きは、イミド化によって得られる被膜の力学的強度が低
く実用的で無い。
一般式[I]中のR7およびR2の種類によるポリアミ
ド酸やイミド化物の諸物性については既にぼう大な数の
特許出願公報や研究文献があり広く知られているところ
であるが、それらの基本的な化学的及び物理的性質は類
似と見なして良い。
ド酸やイミド化物の諸物性については既にぼう大な数の
特許出願公報や研究文献があり広く知られているところ
であるが、それらの基本的な化学的及び物理的性質は類
似と見なして良い。
それゆχ本発明は特にR,およびR2の構造を規定する
ものでは無いが原料の人手性、耐熱性、電気的特性、力
学特性、接着性なとの優位性により、R1が下記構造の
四価の炭化水素残基の何れかであり、 エコて 、 美コγ工口【 、 美nF工口て
、R2が下記構造の二価の炭化水素残基の何れかであ
ることが好ましい、 −(D−1【ン 、−(ラー0−(ラー、R(ロ))
−CH,2−<革ヒ、 −(ラーCO−<つ−、−(
)−〇−(D−0−()−1 =()−〇−(D−C(CH3)2−()−0−()−
1−(D−c<cH3>2H0トc<a+3>2−()
−1−(CH2)n−5i (CH3)2−Q5i(C
H9)2−(CH2)n−1R露ヒS i(CH3)2
0Si(C11g)2−()−1(式中、nはO又は4
以下の整数を示す)。
ものでは無いが原料の人手性、耐熱性、電気的特性、力
学特性、接着性なとの優位性により、R1が下記構造の
四価の炭化水素残基の何れかであり、 エコて 、 美コγ工口【 、 美nF工口て
、R2が下記構造の二価の炭化水素残基の何れかであ
ることが好ましい、 −(D−1【ン 、−(ラー0−(ラー、R(ロ))
−CH,2−<革ヒ、 −(ラーCO−<つ−、−(
)−〇−(D−0−()−1 =()−〇−(D−C(CH3)2−()−0−()−
1−(D−c<cH3>2H0トc<a+3>2−()
−1−(CH2)n−5i (CH3)2−Q5i(C
H9)2−(CH2)n−1R露ヒS i(CH3)2
0Si(C11g)2−()−1(式中、nはO又は4
以下の整数を示す)。
ポリアミド酸の一般的製造法はR1構造を持つテトラカ
ルボン酸二無水物あるいはトリカルボン酸無水物の酸ク
ロリドとR2構造を持つジアミンとをN−メチルピロリ
ドン、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、等の有機極性
溶媒中で重縮合させるもので、本発明も当該の方法に従
う。
ルボン酸二無水物あるいはトリカルボン酸無水物の酸ク
ロリドとR2構造を持つジアミンとをN−メチルピロリ
ドン、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、等の有機極性
溶媒中で重縮合させるもので、本発明も当該の方法に従
う。
得られたポリアミド酸溶液はそのままで本発明の組成物
に使用できるが、水、メタノール、エタノール、アセト
ン、メチルエチルケトン、エチルエーテル、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、等のポリアミド酸を溶解しな
い溶媒で沈澱化して精製分離した後に使用しても良い。
に使用できるが、水、メタノール、エタノール、アセト
ン、メチルエチルケトン、エチルエーテル、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、等のポリアミド酸を溶解しな
い溶媒で沈澱化して精製分離した後に使用しても良い。
本発明に於いて、エチレン結合を有するモノマーとは一
分子中に炭素−炭素二重結合を一以上持ち、N−メチル
ピロリドンやN、N−ジメチルホルムアミド等の極性溶
媒に溶解可能な有機化合物を意味する。
分子中に炭素−炭素二重結合を一以上持ち、N−メチル
ピロリドンやN、N−ジメチルホルムアミド等の極性溶
媒に溶解可能な有機化合物を意味する。
具体的にはアクリル、メタクリル、アリル、ビニル、あ
るいはマレオイル基を持つ化合物でありアクリルV及び
そのエステルやアミド、メタクリル酸及びそのエステル
やアミド、アリルアルコール及びそのエステルやエーテ
ル、アリルアミン及びそのアミド、ビニルシラン、ビニ
ルピロリドン、マレイン酸などの公知化合物が挙げられ
る。
るいはマレオイル基を持つ化合物でありアクリルV及び
そのエステルやアミド、メタクリル酸及びそのエステル
やアミド、アリルアルコール及びそのエステルやエーテ
ル、アリルアミン及びそのアミド、ビニルシラン、ビニ
ルピロリドン、マレイン酸などの公知化合物が挙げられ
る。
より好ましくは一〜四価のアクリルもしくはメタクリル
化合物である。その具体例は以下に示すアクリル酸もし
くはメタクリル酸、そのアルコールエステルもしくはア
ミド、その塩等である。即ち、−価の化合物ニアクリル
酸、メタクリル酸、2−ヒドロキシエチルアクリレート
、2−ヒドロキシエチルメタクリレートアクリルアミド
、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、
アクロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、2−(N、 N−ジメチルアミノ)エチルアク
リレート、 2−(N、 N−ジメチルアミノ)エチル
メタクリレ−) 、2−(N%N−ジエチルアミノ)エ
チルアクリレート、2−(NSN−ジエチルアミノ)エ
チルメタクリレ−) 、 3−(N、 N−ジメチルア
ミノ)プロピルメタクリレート、3−(N、 N−ジエ
チルアミノ)プロピルメタクリレート、メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、 二価の化合物:エチレングリコールジアクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリ
コールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタ
クリレート、メチレンビスアクリルアミド、2−ヒドロ
キシエチルアクリレートのリン酸ジエステル、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレートのリン酸ジエステル、ペン
タエリスリトールジアクリレート、アクリル酸もしくは
メタクリル酸と上記N、 N−ジアルキルアミノアルキ
ルアクリレートとの塩、 三価の化合物:ペンタエリスリトールジアクリレート、
2−ヒドロキシエチルアクリレートのリン酸トリエステ
ル、上記リン酸ジエステルと上記N、N−ジアルキルア
ミノアルキルアクリレートとの塩、四価以上の化合物:
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ノボラック
エポキシアクリレート、ポリビニルアルコールの部分ア
クリレート、ポリビニルアルコールの部分メタクリレー
ト、等であり、特に好ましくは、エチレン結合を有する
モノマーがN、 N−ジアルキルアミノアルキルアクリ
レート、N%N−ジアルキルアミノアルキルメタクリレ
ート、アクリルアミド、アクロイルモルホリン、ポリエ
チレングリコールジアクリレート又はポリエチレングリ
コールジメタクリレートから選択された一種又は混合で
ある。
化合物である。その具体例は以下に示すアクリル酸もし
くはメタクリル酸、そのアルコールエステルもしくはア
ミド、その塩等である。即ち、−価の化合物ニアクリル
酸、メタクリル酸、2−ヒドロキシエチルアクリレート
、2−ヒドロキシエチルメタクリレートアクリルアミド
、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、
アクロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、2−(N、 N−ジメチルアミノ)エチルアク
リレート、 2−(N、 N−ジメチルアミノ)エチル
メタクリレ−) 、2−(N%N−ジエチルアミノ)エ
チルアクリレート、2−(NSN−ジエチルアミノ)エ
チルメタクリレ−) 、 3−(N、 N−ジメチルア
ミノ)プロピルメタクリレート、3−(N、 N−ジエ
チルアミノ)プロピルメタクリレート、メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、 二価の化合物:エチレングリコールジアクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリ
コールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタ
クリレート、メチレンビスアクリルアミド、2−ヒドロ
キシエチルアクリレートのリン酸ジエステル、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレートのリン酸ジエステル、ペン
タエリスリトールジアクリレート、アクリル酸もしくは
メタクリル酸と上記N、 N−ジアルキルアミノアルキ
ルアクリレートとの塩、 三価の化合物:ペンタエリスリトールジアクリレート、
2−ヒドロキシエチルアクリレートのリン酸トリエステ
ル、上記リン酸ジエステルと上記N、N−ジアルキルア
ミノアルキルアクリレートとの塩、四価以上の化合物:
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ノボラック
エポキシアクリレート、ポリビニルアルコールの部分ア
クリレート、ポリビニルアルコールの部分メタクリレー
ト、等であり、特に好ましくは、エチレン結合を有する
モノマーがN、 N−ジアルキルアミノアルキルアクリ
レート、N%N−ジアルキルアミノアルキルメタクリレ
ート、アクリルアミド、アクロイルモルホリン、ポリエ
チレングリコールジアクリレート又はポリエチレングリ
コールジメタクリレートから選択された一種又は混合で
ある。
なかでも 2−(NSN−ジメチルアミノ)エチルメタ
クリレート又は2−(N、 N−ジエチルアミノ)エチ
レ ルメタクリが一トが良い。
クリレート又は2−(N、 N−ジエチルアミノ)エチ
レ ルメタクリが一トが良い。
上記エチレン結合を有するモノマーは、単独あるいは混
合で、ポリアミド酸100部に対して10〜200部の
範囲で混合される。
合で、ポリアミド酸100部に対して10〜200部の
範囲で混合される。
10部未満では、本発明の目的の−である良好な光感度
と膜質を得るには不充分である。 一方、200部を超
えるモノマー量を混合することは、組成物の実際使用の
際に、無駄に蒸発飛散する分が増え、人体への悪影響や
火災の危険性があり、また、加熱処理によるイミド化に
於いて膜質を低下させる原因となるので避けなければな
らない。
と膜質を得るには不充分である。 一方、200部を超
えるモノマー量を混合することは、組成物の実際使用の
際に、無駄に蒸発飛散する分が増え、人体への悪影響や
火災の危険性があり、また、加熱処理によるイミド化に
於いて膜質を低下させる原因となるので避けなければな
らない。
より好ましいモノマーの混合量は15〜100部である
。
。
上記モノマーのうち、アミノ基やアミド基等を持つモノ
マーは一般にポリアミド酸との相溶性が良く、使用時の
乾燥によって透明な被膜が得られるが、他のモノマー類
は通常ポリアミド酸との相溶性が悪く、乾燥の際に白化
し易いので、乾燥の度合を抑制するか、相溶性の良いモ
ノマーを混合して使用するのが良い。
マーは一般にポリアミド酸との相溶性が良く、使用時の
乾燥によって透明な被膜が得られるが、他のモノマー類
は通常ポリアミド酸との相溶性が悪く、乾燥の際に白化
し易いので、乾燥の度合を抑制するか、相溶性の良いモ
ノマーを混合して使用するのが良い。
本発明に於いて、芳香族過酸エステルとは分子中に−(
CO)−0−0−結合を−ケ以上含んだ芳香族過カルボ
ン酸のアルキルエステルを示す。
CO)−0−0−結合を−ケ以上含んだ芳香族過カルボ
ン酸のアルキルエステルを示す。
当該の過酸化物は単独でも光感度を有するが、本発明の
組成物として始めて良好な高い光感度を得ることができ
る。
組成物として始めて良好な高い光感度を得ることができ
る。
具体的にはt−フルキルペルオキシベンゾエート、t−
アルキルペルオキシナフテート、ジ−t−アルキルジペ
ルオキシフタレート、トリー(t−アルキルベルオキシ
カルボニル)ベンゼン、テトラ−(t−アルキルベルオ
キシカルボニル)ベンゼン、ジー(t−アルキルベルオ
キシカルボニル)ベンゼンカルボン酸、ジ〜(トアルキ
ルペルオキシ力ルボニル)ベンゼンジカルボン酸、テト
ラ−(t−アルキルベルオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン、ジー(t−フルキルペルオキシカルボニル)ベン
ゾフェノンジカルボン酸、テトラ−(t−アルキルベル
オキシカルボニル)ビフェニル、テトラ−(t−アルキ
ルベルオキシカルボニル)ビフェニルジカルボン酸、ジ
メチルジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、等の一〜
四価の低分子過酸化物、あるいは、芳香族ポリアミド酸
の側鎖および末端にあるカルボン酸基な過酸t−アルキ
ルエステルとした高分子過酸化物等が挙げられる。
アルキルペルオキシナフテート、ジ−t−アルキルジペ
ルオキシフタレート、トリー(t−アルキルベルオキシ
カルボニル)ベンゼン、テトラ−(t−アルキルベルオ
キシカルボニル)ベンゼン、ジー(t−アルキルベルオ
キシカルボニル)ベンゼンカルボン酸、ジ〜(トアルキ
ルペルオキシ力ルボニル)ベンゼンジカルボン酸、テト
ラ−(t−アルキルベルオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン、ジー(t−フルキルペルオキシカルボニル)ベン
ゾフェノンジカルボン酸、テトラ−(t−アルキルベル
オキシカルボニル)ビフェニル、テトラ−(t−アルキ
ルベルオキシカルボニル)ビフェニルジカルボン酸、ジ
メチルジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、等の一〜
四価の低分子過酸化物、あるいは、芳香族ポリアミド酸
の側鎖および末端にあるカルボン酸基な過酸t−アルキ
ルエステルとした高分子過酸化物等が挙げられる。
好ましくは、t−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−
t−ブチルジペルオキシフタレート、ジ−t−ブチルジ
ペルオキシイソフタレート、ジ−t−ブチルジペルオキ
シテレフタレート、1,2.4−トリ−(t−ブチルペ
ルオキシカルボニル)ベンゼン、1,2,4.5−テト
ラ−(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゼン、3
.3′、4,4′−テトラ−(t−ブチルペルオキシカ
ルボニル)ヘンシフエノン、2,5−ジメチル−2,5
−ジ(ヘンシイルベルオキシ)ヘキサン、2.5−ジメ
チル−2,5−ジ(3−メチルベンゾイルペルオキシ)
ヘキサン、から選択された一種又は混合であり、特に3
.3’ 、4.4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノンが好ましい。
t−ブチルジペルオキシフタレート、ジ−t−ブチルジ
ペルオキシイソフタレート、ジ−t−ブチルジペルオキ
シテレフタレート、1,2.4−トリ−(t−ブチルペ
ルオキシカルボニル)ベンゼン、1,2,4.5−テト
ラ−(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゼン、3
.3′、4,4′−テトラ−(t−ブチルペルオキシカ
ルボニル)ヘンシフエノン、2,5−ジメチル−2,5
−ジ(ヘンシイルベルオキシ)ヘキサン、2.5−ジメ
チル−2,5−ジ(3−メチルベンゾイルペルオキシ)
ヘキサン、から選択された一種又は混合であり、特に3
.3’ 、4.4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノンが好ましい。
芳香族過酸エステルはポリアミド酸100部に対して0
.2〜20部の範囲で添加される。 その量が0.2部
未溝では光感度が不充分である。また20部を超えても
感度向上はされず、無駄となる他、組成物の保存安定性
やイミド化によって得られる被膜やフィルムの膜質の点
て不利である。
.2〜20部の範囲で添加される。 その量が0.2部
未溝では光感度が不充分である。また20部を超えても
感度向上はされず、無駄となる他、組成物の保存安定性
やイミド化によって得られる被膜やフィルムの膜質の点
て不利である。
より好ましくは0.3〜lO部の添加である。
本発明では、芳香族過酸エステルの光分解を容易に誘起
させ得る特定の増感剤として、フェニルアルキルケトン
類もしくはベンズアルデヒド類を用いる。
させ得る特定の増感剤として、フェニルアルキルケトン
類もしくはベンズアルデヒド類を用いる。
具体的にはアセトフェノン、プロピオフェノン、4−ヒ
ドロキシアセトフェノン、4−メトキシアセトフェノン
、4−アミノアセトフェノン、4− (N、N−ジメチ
ルアミノ)アセトフェノン、3− (N、N−ジメチル
アミノ)アセトフェノン、4− (N、N−ジエチルア
ミノ)アセトフェノン、3− (N、N−ジエチルアミ
ノ)アセトフェノン、4− (N、N−ジ(2−ヒドロ
キシエチル)アミノ)アセトフェノン、4− (N、N
−ジメチルアミノ)プロピオフェノン、ベンズアルデヒ
ド、4−ヒドロキシベンズアルデヒド、4−メトキシベ
ンズアルデヒド、4−アミノベンズアルデヒド、3−ア
ミノベンズアルデヒド、4− (N、N−ジメチルアミ
ノ)ベンズアルデヒド、4− (N、N−ジエチルアミ
ノ)ベンズアルデヒド、4− (N、N−ジ(2−ヒド
ロキシエチル)アミノ)ベンズアルデヒド等を挙げられ
るがこれらに限定されるものでは無い。
ドロキシアセトフェノン、4−メトキシアセトフェノン
、4−アミノアセトフェノン、4− (N、N−ジメチ
ルアミノ)アセトフェノン、3− (N、N−ジメチル
アミノ)アセトフェノン、4− (N、N−ジエチルア
ミノ)アセトフェノン、3− (N、N−ジエチルアミ
ノ)アセトフェノン、4− (N、N−ジ(2−ヒドロ
キシエチル)アミノ)アセトフェノン、4− (N、N
−ジメチルアミノ)プロピオフェノン、ベンズアルデヒ
ド、4−ヒドロキシベンズアルデヒド、4−メトキシベ
ンズアルデヒド、4−アミノベンズアルデヒド、3−ア
ミノベンズアルデヒド、4− (N、N−ジメチルアミ
ノ)ベンズアルデヒド、4− (N、N−ジエチルアミ
ノ)ベンズアルデヒド、4− (N、N−ジ(2−ヒド
ロキシエチル)アミノ)ベンズアルデヒド等を挙げられ
るがこれらに限定されるものでは無い。
なかでも特に好ましいものは(N、N−ジメチルアミノ
)アセトフェノンに代表される(ジアルキルアミノ)ア
セトフェノン類もしくは(N、N−ジメチルアミノ)ベ
ンズアルデヒドに代表される(ジアルキルアミノ)ベン
ズアルデヒド類である。
)アセトフェノンに代表される(ジアルキルアミノ)ア
セトフェノン類もしくは(N、N−ジメチルアミノ)ベ
ンズアルデヒドに代表される(ジアルキルアミノ)ベン
ズアルデヒド類である。
フェニルアルキルケトン類もしくはベンズアルデヒド類
はポリアミド酸100部に対して0.2〜20部の範囲
で添加される。その量が0.2部未満では光感度が不充
分である。また20部を超えても感度向上はされず、無
駄となる他、組成物の安定性やKI4質の点で 不利で
ある。
はポリアミド酸100部に対して0.2〜20部の範囲
で添加される。その量が0.2部未満では光感度が不充
分である。また20部を超えても感度向上はされず、無
駄となる他、組成物の安定性やKI4質の点で 不利で
ある。
より好ましくは0.3〜10部の添加である。
また、光感度をさらに向上させるために、一般に知られ
ている増感剤、例えば、ミヒラーズケトンのようなベン
ゾフェノン類、4−(N、N−ジメチルアミノ)ベンザ
ルアセトフェノンのようなアミノベンザルアセトフェノ
ン類、2− (N、N−ジメチルアミノ)アントラキノ
ンのようなアントラキノン類、フェニルジエタノールア
ミンのようなアニリン類、1 (N、N−ジメチルアミ
ノ)ナフタレンのようなアミノナフタレン類、4,4′
−ビス(N、N−ジメチルアミノ)ジフェニルメタンの
ようなアミノジフェニルメタン類、4−アジドベンザル
アセトフェノンのようなモノアジド類、2,6−ビス(
バラアジドベンザル)−4−メチルシクロヘキサノンの
ようなビスアジド類、あるいはビリリウム塩やチオピリ
リウム塩類等を添加しても良い。
ている増感剤、例えば、ミヒラーズケトンのようなベン
ゾフェノン類、4−(N、N−ジメチルアミノ)ベンザ
ルアセトフェノンのようなアミノベンザルアセトフェノ
ン類、2− (N、N−ジメチルアミノ)アントラキノ
ンのようなアントラキノン類、フェニルジエタノールア
ミンのようなアニリン類、1 (N、N−ジメチルアミ
ノ)ナフタレンのようなアミノナフタレン類、4,4′
−ビス(N、N−ジメチルアミノ)ジフェニルメタンの
ようなアミノジフェニルメタン類、4−アジドベンザル
アセトフェノンのようなモノアジド類、2,6−ビス(
バラアジドベンザル)−4−メチルシクロヘキサノンの
ようなビスアジド類、あるいはビリリウム塩やチオピリ
リウム塩類等を添加しても良い。
本組成物は、通常、極性溶媒の溶液として使用される。
その例を挙げるとN、 N−ジメチルホルム7ミト、
N、 N−ジメチルアセトアミド、 N、 N−ジエチ
ルアセトアミド、N−メチルカプロラクタム、N−メチ
ル−2・ピロリドン、N−7セチルー2−ピロリドン、
クロロフェノール、ジメチルスルホキシドなど極性溶媒
の単独または混合、もしくは極性溶媒に沈澱物を生じな
い範囲で、水、キシレン、メシチレン、ブチルカルピト
ール、ジグライム、エチレングリコール、ブチルセロソ
ルブ、ジエチレングリコール、グリセリン、シクロヘキ
サノンなどの溶媒を混合したものである。
N、 N−ジメチルアセトアミド、 N、 N−ジエチ
ルアセトアミド、N−メチルカプロラクタム、N−メチ
ル−2・ピロリドン、N−7セチルー2−ピロリドン、
クロロフェノール、ジメチルスルホキシドなど極性溶媒
の単独または混合、もしくは極性溶媒に沈澱物を生じな
い範囲で、水、キシレン、メシチレン、ブチルカルピト
ール、ジグライム、エチレングリコール、ブチルセロソ
ルブ、ジエチレングリコール、グリセリン、シクロヘキ
サノンなどの溶媒を混合したものである。
極性溶媒の使用量は通常ポリアミド酸100部に対して
100〜5000部の範囲である。この量は、溶液の必
要粘度や必要濃度に応じて決定されるが、上記範囲外の
溶媒使用量は実用性に乏しい。
100〜5000部の範囲である。この量は、溶液の必
要粘度や必要濃度に応じて決定されるが、上記範囲外の
溶媒使用量は実用性に乏しい。
而して本発明の感光性組成物は通常のフォトレジスト用
途に塗膜あるいはフィルムの形状で使用される。
途に塗膜あるいはフィルムの形状で使用される。
なお、組成物には、貯蔵安定性向上を目的に公知の重合
禁止剤、例えばアルキルフェノール類、アルコキシフェ
ノール類やヒドロキノン類を、また接着性の向上を目的
に公知のシランカップリング剤等を添加することができ
る。
禁止剤、例えばアルキルフェノール類、アルコキシフェ
ノール類やヒドロキノン類を、また接着性の向上を目的
に公知のシランカップリング剤等を添加することができ
る。
かくして得られた感光性組成物は多くの利点を有してい
る。
る。
まず、実用的に充分な高感度が得られ、特に、低露光量
で高い感度が要求される半導体、セラミック配線板及び
フレキシブル配線板用途の数μmから数十μm厚の眉間
絶縁膜や表面保護膜用途に適している。
で高い感度が要求される半導体、セラミック配線板及び
フレキシブル配線板用途の数μmから数十μm厚の眉間
絶縁膜や表面保護膜用途に適している。
第二に揮発し難い高沸点の添加物量が少なくて済み加熱
処理によるイミド化時の膜質劣化が少ない。
処理によるイミド化時の膜質劣化が少ない。
第三に添加物として、窒素を発生して膜質低下の原因に
なるアジド化合物や悪臭性の多価チオールを添加する必
要が無い。
なるアジド化合物や悪臭性の多価チオールを添加する必
要が無い。
第四に製造方法が容易である、等。
而して、本発明の感光性組成物は通常、以下に述べるフ
ォトレジストの方法で使用される。即ち、基体、例えば
、シリコン、ガラス、アルミニウム、銅、ニッケル、チ
タン、銀、鉄、ステンレス、ポリイミド、セラミックス
、エポキシ樹脂等に感光性組成物の溶液を塗布する工程
、続いて温風や真空下で乾燥し流れの無い塗膜やフィル
ムにする工程、次に光 例えば可視、紫外、エックス線
、電子線を照射してバターニングする工程、続いて浸漬
やスプレー、超音波法などで現像液と接触させて未照射
部分を除去する工程、更に150〜450℃に加熱処理
してイミド化する工程、等を含む一連の方法である。
ォトレジストの方法で使用される。即ち、基体、例えば
、シリコン、ガラス、アルミニウム、銅、ニッケル、チ
タン、銀、鉄、ステンレス、ポリイミド、セラミックス
、エポキシ樹脂等に感光性組成物の溶液を塗布する工程
、続いて温風や真空下で乾燥し流れの無い塗膜やフィル
ムにする工程、次に光 例えば可視、紫外、エックス線
、電子線を照射してバターニングする工程、続いて浸漬
やスプレー、超音波法などで現像液と接触させて未照射
部分を除去する工程、更に150〜450℃に加熱処理
してイミド化する工程、等を含む一連の方法である。
イミド化により得られた被膜は、耐熱性、電気的特性及
び力学特性に優れ、半導体等の絶縁膜や表面保護膜、メ
ツキレシストや酸素プラズマレジスト、液晶配向膜等に
好適に使用できる。
び力学特性に優れ、半導体等の絶縁膜や表面保護膜、メ
ツキレシストや酸素プラズマレジスト、液晶配向膜等に
好適に使用できる。
また 限外濾過等に用いる多孔質ポリイミドパターン、
薄躾ヘッドやスピーカー用イミドパターン、あるいは、
導電性物質、例えば、金属微粉末、金属塩、金属酸化物
、炭素粉末等を混合した導電性パターンを形成する材料
、あるいは塗料や顔料と混合して着色パターン形成材と
して用いることも可能である。
薄躾ヘッドやスピーカー用イミドパターン、あるいは、
導電性物質、例えば、金属微粉末、金属塩、金属酸化物
、炭素粉末等を混合した導電性パターンを形成する材料
、あるいは塗料や顔料と混合して着色パターン形成材と
して用いることも可能である。
以下、実施例により、本発明を更に詳細に説明する。
なお、実施例中、ポリアミド酸の粘度とはN−メチルピ
ロリドン中、15重量%濃度25℃で測定したものであ
る。また、感度とは現像前の膜厚に対し、現像後の膜厚
が50%になる光の照射量を示し、値が小さいほど感度
が良好である。
ロリドン中、15重量%濃度25℃で測定したものであ
る。また、感度とは現像前の膜厚に対し、現像後の膜厚
が50%になる光の照射量を示し、値が小さいほど感度
が良好である。
実施例 1
11のセパラブルフラスコに4.4′−ジアミノジフェ
ニルエーテル13.61g (68ミリ毛ル)及びN−
メチルピロリドン188gを加えて溶解した後、分子量
調整剤として無水フタル酸0.40g (2,7ミリ
モル)を加えて25℃で1時間攪はんした。続いて3゜
3′、4,4′−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物
19.2g(65,3ミリモル)を加え25℃で6時間
攪はんした。かくて得ら、れた15重量%濃度ポリアミ
ド酸溶液の粘度は2000センチボエズであった。
ニルエーテル13.61g (68ミリ毛ル)及びN−
メチルピロリドン188gを加えて溶解した後、分子量
調整剤として無水フタル酸0.40g (2,7ミリ
モル)を加えて25℃で1時間攪はんした。続いて3゜
3′、4,4′−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物
19.2g(65,3ミリモル)を加え25℃で6時間
攪はんした。かくて得ら、れた15重量%濃度ポリアミ
ド酸溶液の粘度は2000センチボエズであった。
この溶J 205にエチレン結合を有するモノマーとし
て 2−(N、N−ジエチルアミノ)エチルメタクリレ
ート2.1g (ポリアミド酸100部に対し?0f1
1i)、3.3’ 、4.4ξテトラ(t−ブチルペル
オキシカルボニル)ベンゾフェノン0.090g (ポ
リアミド酸100部に対し3部)、4− (N、N−ジ
メチルアミノ)アセトフェノンQ、090g (ポリア
ミド酸100部に対し3部)、を加え、感光性組成物を
得た。
て 2−(N、N−ジエチルアミノ)エチルメタクリレ
ート2.1g (ポリアミド酸100部に対し?0f1
1i)、3.3’ 、4.4ξテトラ(t−ブチルペル
オキシカルボニル)ベンゾフェノン0.090g (ポ
リアミド酸100部に対し3部)、4− (N、N−ジ
メチルアミノ)アセトフェノンQ、090g (ポリア
ミド酸100部に対し3部)、を加え、感光性組成物を
得た。
上記組成物をスピンナーでガラス板上に回転塗布し、次
いでドライヤー乾燥して3.2μ糟厚の被膜を得た。こ
の被膜上に、パターンマスクを置き、5oovの超高圧
水銀灯の光を10秒照射した後、N、N−ジメチルアセ
トアミドとイソプロパツールとの4部1混合溶媒で現像
したところ、露光部が硬化したネガ型のレリーフパター
ンが得られた。該パターンを100℃から350℃まで
1時間かけて加熱し、接着力のつよい1.9μ■厚のポ
リイミドパターンを得た。また組成物の感度は9mJ/
cn%であった。
いでドライヤー乾燥して3.2μ糟厚の被膜を得た。こ
の被膜上に、パターンマスクを置き、5oovの超高圧
水銀灯の光を10秒照射した後、N、N−ジメチルアセ
トアミドとイソプロパツールとの4部1混合溶媒で現像
したところ、露光部が硬化したネガ型のレリーフパター
ンが得られた。該パターンを100℃から350℃まで
1時間かけて加熱し、接着力のつよい1.9μ■厚のポ
リイミドパターンを得た。また組成物の感度は9mJ/
cn%であった。
比較例1
2−(N、N−ジエチルアミノ)エチルメタクリレート
を加えない他は実施例1と同様に行なったところ、現像
によりレリーフパターンは残らなかった。
を加えない他は実施例1と同様に行なったところ、現像
によりレリーフパターンは残らなかった。
また、3.3′、4,4′−テトラ(t−ブチルペルオ
キシカルボニル)ベンゾフェノンを加えない他は実施例
1と同様に行なったところ、現像によりレリーフパター
ンにクラックが入り、感度は1800 @J/cril
であった。
キシカルボニル)ベンゾフェノンを加えない他は実施例
1と同様に行なったところ、現像によりレリーフパター
ンにクラックが入り、感度は1800 @J/cril
であった。
次に4− (N、N−ジメチルアミノ)アセトフェノン
を加えない他は実施例1と同様に行なったところ、感度
は55 mJ/c消であった。
を加えない他は実施例1と同様に行なったところ、感度
は55 mJ/c消であった。
実施例2〜9および比較例2〜3
表−1に示した組成物を使用した他は 実施例1と同様
に行なった。
に行なった。
なお表−1中では各組成を次の様に略記した、また各組
成の部はポリアミド酸100部に対するfLflk部を
示している。
成の部はポリアミド酸100部に対するfLflk部を
示している。
PEGA :ポリエチレングリコール400ジアクリレ
ート 、DEAM :2−(N、N−ジエチルアミノ)
エチルメタクリレート 、DMAM :2−(N、N−
ジメチルアミノ)エチルメタクリレート 、円 :t
−ブチルペルオキシベンゾエート 、P2ニジ−1−ブ
チルジペルオキシイソフタレート 、P3 :1,2
.4−)リ−(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベン
ゼン 、 P4 :3.3′、4,4′−テトラ−(t−ブチ
ルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン 、 DAA :4−(N、N−ジメチルアミノ)アセトフ
ェノン 、MAP:4−メトキシアセトフェノン 、(
ネ):ミヒラーズケトン 3gBを添加、(零ネ):2
,6−ビス(パラアジドベンザル)−4−メチルシクロ
へキサノン3部を添加した。
ート 、DEAM :2−(N、N−ジエチルアミノ)
エチルメタクリレート 、DMAM :2−(N、N−
ジメチルアミノ)エチルメタクリレート 、円 :t
−ブチルペルオキシベンゾエート 、P2ニジ−1−ブ
チルジペルオキシイソフタレート 、P3 :1,2
.4−)リ−(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベン
ゼン 、 P4 :3.3′、4,4′−テトラ−(t−ブチ
ルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン 、 DAA :4−(N、N−ジメチルアミノ)アセトフ
ェノン 、MAP:4−メトキシアセトフェノン 、(
ネ):ミヒラーズケトン 3gBを添加、(零ネ):2
,6−ビス(パラアジドベンザル)−4−メチルシクロ
へキサノン3部を添加した。
実施例 10〜11 および比較例4表−2に示した
組成物を使用した他は 実施例1と同様に行なフた。
組成物を使用した他は 実施例1と同様に行なフた。
なお表−2中では各組成を表−2下橢の様に略記し、そ
の他は表−1と同様に略記した。また各組成の部はポリ
アミド酸100部に対する重量部を示している。
の他は表−1と同様に略記した。また各組成の部はポリ
アミド酸100部に対する重量部を示している。
Claims (6)
- (1)(a)下記一般式[ I ]で表される構造単位か
ら成るポリアミド酸100部 ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] (ただしポリアミド酸はN−メチルピロリドン中15重
量%濃度としたとき25℃の溶液粘度が100センチポ
エズ以上となる分子量を有し、式中、R_1は三価又は
四価の炭化水素残基を、R_2は二価の炭化水素残基を
、mは1又は2の整数を、部は重量部を示す) (b)エチレン結合を有するモノマー10〜200部 (c)芳香族過酸エステル0.2〜20部 (d)フェニルアルキルケトン類もしくはベンズアルデ
ヒド類0.2〜20部 から成る感光性組成物。 - (2)(d)が(N,N−ジアルキルアミノ)アセトフ
ェノンもしくは(N,N−ジアルキルアミノ)ベンズア
ルデヒドである特許請求の範囲第(1)項記載の感光性
組成物。 - (3)(c)がt−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ
−t−ブチルジペルオキシフタレート、ジ−t−ブチル
ジペルオキシイソフタレート、ジ−t−ブチルジペルオ
キシテレフタレート、1,2,4−トリ−(t−ブチル
ペルオキシカルボニル)ベンゼン、1,2,4,5−テ
トラ−(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゼン、
3,3′、4,4′−テトラ−(t−ブチルペルオキシ
カルボニル)ベンゾフェノンから選択された一種又は混
合である特許請求の範囲第(1)項記載の感光性組成物
。 - (4)R_1が下記構造の四価の炭化水素残基の何れか
であり、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 R_2が下記構造の二価の炭化水素残基の何れかである
特許請求の範囲第(1)項記載の感光性組成物 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります
▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、 (式中、nは0又は4以下の整数を示す)。 - (5)エチレン結合を有するモノマーが、N,N−ジア
ルキルアミノアルキルアクリレート、N,N−ジアルキ
ルアミノアルキルメタクリレート、アクリルアミド、ア
クロイルモルホリン、ポリエチレングリコールジアクリ
レート又はポリエチレングリコールジメタクリレートか
ら選択された一種又は混合である特許請求の範囲第(1
)項記載の感光性組成物。 - (6)エチレン結合を有するモノマーが、2−(N,N
−ジメチルアミノ)エチルメタクリレート又は2−(N
チルアミノ)エチルメタクリレートである特許請求の範
囲第(1)項記載の感光性組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5296187A JPS63221109A (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | 感光性のポリアミド酸組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5296187A JPS63221109A (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | 感光性のポリアミド酸組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63221109A true JPS63221109A (ja) | 1988-09-14 |
Family
ID=12929486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5296187A Pending JPS63221109A (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | 感光性のポリアミド酸組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63221109A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0339357A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-20 | Toray Ind Inc | 化学線感応性重合体組成物 |
JPH03210360A (ja) * | 1990-01-12 | 1991-09-13 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH0418450A (ja) * | 1990-04-16 | 1992-01-22 | Fujitsu Ltd | 感光性耐熱樹脂組成物とそれを用いたパターン形成方法 |
JP2009035676A (ja) * | 2007-08-03 | 2009-02-19 | Sekisui Chem Co Ltd | 光硬化性組成物 |
JP2012215874A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-11-08 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、パターン形成方法、中空構造の形成方法、及び電子部品 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54109828A (en) * | 1978-02-17 | 1979-08-28 | Asahi Chemical Ind | Heat resistant photoresist composition |
-
1987
- 1987-03-10 JP JP5296187A patent/JPS63221109A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54109828A (en) * | 1978-02-17 | 1979-08-28 | Asahi Chemical Ind | Heat resistant photoresist composition |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH03210360A (ja) * | 1990-01-12 | 1991-09-13 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH0418450A (ja) * | 1990-04-16 | 1992-01-22 | Fujitsu Ltd | 感光性耐熱樹脂組成物とそれを用いたパターン形成方法 |
JP2009035676A (ja) * | 2007-08-03 | 2009-02-19 | Sekisui Chem Co Ltd | 光硬化性組成物 |
JP2012215874A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-11-08 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、パターン形成方法、中空構造の形成方法、及び電子部品 |
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