JPS63309515A - エポキシ樹脂組成物及び樹脂封止型半導体装置 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物及び樹脂封止型半導体装置

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JPS63309515A
JPS63309515A JP14663187A JP14663187A JPS63309515A JP S63309515 A JPS63309515 A JP S63309515A JP 14663187 A JP14663187 A JP 14663187A JP 14663187 A JP14663187 A JP 14663187A JP S63309515 A JPS63309515 A JP S63309515A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin
resin composition
molecule
resistance
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JP14663187A
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English (en)
Inventor
Akira Yoshizumi
善積 章
Takeshi Uchida
健 内田
Kazutaka Matsumoto
松本 一高
Shinetsu Fujieda
新悦 藤枝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、エポキシ樹脂組成物、特に半導体等の電子部
品のモールド用樹脂として好適なエポキシ樹脂組成物、
並びにかかるエポキシ樹脂により封止された樹脂封止型
半導体装置に関する。
(従来の技術) 近年、電子部品の小型化や薄層化への指向及び集積度の
増大等に伴い、耐熱性、耐クラツク性、耐湿性、電気特
性等のバランスがとれたモールド用樹脂の開発が望まれ
ている。
ところで、従来の電子部品のモールド樹脂としては、フ
ェノールノボラック樹脂を硬化剤とじて含有するエポキ
シ樹脂組成物が使用されてきた。
しかしながら、かかる樹脂組成物はモールド用樹脂とし
て要求される前記特性を充分に満足するものではなかっ
た。
このようなことから、上記成分の他にシリコーン系化合
物を添加したエポキシ樹脂組成物が開発されている。し
かしながら、この樹脂組成物を用いて成形品をモールド
すると金型に曇りを生じたり、成形品自体の強度も大幅
に低下するため、半導体モールド品に冷熱サイクルを加
えた場合、樹脂クラックが発生し易い問題があった。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、従来の問題点を解決するためになされたもの
で、モールド用樹脂として要求される耐熱性、耐湿性及
び電気特性に優れ、しかも型曇り等のない良好な加工性
、機械的衝撃に耐える強度、冷熱サイクルでのクラック
発生のない高強度の耐熱衝撃性を有するエポキシ樹脂組
成物、並びにかかる樹脂組成物で封止された高信頼性の
樹脂封止型半導体装置を提供しようとするものである。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本願第1の発明は、(a):1分子中に少なくとも2個
のエポキシ基を有するエポキシ樹脂にフッ素系界面活性
剤を用いて熱硬化性シリコーンゴムを均一に分散させて
なる変性エポキシ樹脂と、(b):1分子中に少なくと
も2個の水酸基を有する硬化剤としてのノボラック形フ
ェノール樹脂と、 を主成分とすることを特徴とするエポキシ樹脂組成物で
ある。
本願第2の発明は、前記第1の発明のエポキシ樹脂組成
物によって封止されてなる樹脂封止型半導体装置である
上記(a)成分の変性エポキシ樹脂を構成するエポキシ
樹脂は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するもの
であればいかなるものでもよく、例えばビスフェノール
A型、ビスフェノールF型、フェノールノボラック型、
クレゾールノボラック型などのエポキシ樹脂やこれらの
樹脂に塩素原子もしくは臭素原子などのハロゲン原子を
導入したエポキシ樹脂等を挙げることができ、これらは
単独又は混合物の状態で使用できる。かかるエポキシ樹
脂を具体的に例示すると、EOCN−1028(日本化
薬■製、軟化点74℃、エポキシ当量207)、ESC
N−195XL (住友化学■製、軟化点70℃、エポ
キシ当ff1198 ) 、N−865(大日本インキ
化学工業■製、軟化点66℃、エポキシ当量209)な
どがあり、臭素化エポキシ樹脂のとしてはAER−74
5(旭化成工業■製、軟化点81℃、エポキシ当量46
0、臭素49%) 、BREN−S (日本化薬■製、
軟化点87℃、エポキシ当量275、臭素35%)など
がある。
上記(a)成分の変性エポキシ樹脂を構成する熱硬化性
シリコーンゴムは、前記エポキシ樹脂の変性処理に用い
られる。このシリコーンゴムは、加熱硬化が可能なもの
であればいかなるものでもよいが、特に100℃以下で
流動性を有するものが望ましい。かかるシリコーンゴム
を具体的に例示すると、T S J −3150(東芝
シリコーン■製、25℃での粘度: 1100cp、硬
化推奨温度:150℃)、T S J −3151(東
芝シリコーン■製、25℃での粘度: 2300cp、
硬化推奨温度=150℃)、TSJ−3175(東芝シ
リコーン■製、25℃での粘度: 3100cp、硬化
推奨温度:125℃’) 、TS J −3130(東
芝シリコーン■製、25℃での粘度: 3800cp、
硬化推奨温度:150℃) 、TSE−3504(東芝
シリコーン■製、25℃での粘度: 10000 cp
、常温硬化可能) 、TSE−3051(東芝シリコー
ン■製、25℃での粘度: 3100cp、硬化推奨温
度:125℃)、TSJ −3130(東芝シリコーン
■製、25℃での粘度: 700 cp、硬化推奨温度
:125℃)、JCR−8101(東しシリコーン■製
、25℃での粘度:約6500cp)などが挙げられる
上記(a)成分の変性エポキシ樹脂においては、前記エ
ポキシ樹脂の熱硬化性シリコーンゴムによる変性処理に
際して該シリコーンゴムを均一分散させるために界面活
性剤が使用される。この界面活性剤は、熱硬化性シリコ
ーンゴムの均一分散後に成形性、成形時の金型汚れ、耐
熱性などの特性に悪影響を与えないものが望ましく、こ
のためパーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノ
ール、フッ素化アルキルエステル等のフッ素系界面活性
剤がが使用される。かかるフッ素系界面活性剤としては
、フッ素系非イオン界面活性剤が好ましく、具体的には
フロラードFC−480(住友スリーエム株製、粘度L
500cp) 、フロラードFC−176(住友スリー
エム■製、粘度L500cp) 、ロジンS−107(
チバガイギー■製)などを挙げることができる。
上記(a)成分の変性エポキシ樹脂に用いられる各変性
剤の配合量は、エポキシ樹脂100重量部に対して熱硬
化性シリコーンゴム5〜50重量部(より好ましくは1
0〜35重量部)、フッ素系界面活性剤0.2〜20重
量部(より好ましくは1.0〜10重量部)とすること
が望ましい。この理由は、熱硬化性シリコーンゴムの配
合量を5重量部未満にすると充分な耐熱衝撃性が得られ
ず、かといってその配合量が50重量部を越えると耐湿
性が劣化する恐れがある。フッ素系界面活性剤の配合量
を0.2重量部未満にすると、前記熱硬化性シリコーム
ゴムをエポキシ樹脂に対して均一に分散することが難し
くなって充分な耐熱衝撃性が得られず、かといってその
配合量が20重量部を越えると耐湿性が劣化する恐れが
ある。
上記(a)成分の変性エポキシ樹脂を製造するには、例
えば混合機構と加熱装置を有する反応器内で前記エポキ
シ樹脂、熱硬化性シリコーンゴム及びフッ素系界面活性
剤を100℃以上(好ましくは150〜180℃)で1
0分間〜1時間(好ましくは20〜40分間)加熱、溶
融攪拌する方法が採用される。ここに用いる反応器とし
ては、化学反応釜、万能混合機、加熱形ホモジナイザ等
が挙げられる。
また、反応器から取出した変性エポキシ樹脂は冷却後、
充分に粉砕して用いることが好ましい。
上記(b)成分のノボラック形フェノール樹脂は、1分
子中に2個以上のフェノール性水酸基を有するものであ
ればいかなるものでもよく、例えばフェノールノボラッ
ク樹脂、オルソクレゾールノボラック樹脂及びメタクレ
ゾールノボラック樹脂等を使用することができる。これ
らは単独又は混合物の状態で使用される。また、フェノ
ールノボラック樹脂を具体的に例示すると、BRG−5
57(昭和高分子■製、軟化点87℃、OH当量104
 ) 、T D−2131(大日本インキ化学工業■製
、軟化点80℃、OH当ff1105)などを挙げるこ
とができる。
上記(a)成分の変性エポキシ樹脂と(b)成分のノボ
ラック形フェノール樹脂との配合比率は、エポキシ樹脂
のエポキシ当量とフェノール樹脂のOH当量の当量比で
換算してエポキシ当量10H当m −0,5〜1.5に
なるようにすることが望ましい。これら成分間の配合当
量比が、前記範囲を逸脱するとエポキシ樹脂組成物の強
度が低下する恐れがある。
上記(a)成分の変性エポキシ樹脂と(b)成分のノボ
ラック形フェノール樹脂との配合に際しては、硬化反応
を促進する触媒を用いてもよい。
かかる触媒としては、通常、イミダゾール類、三級アミ
ン類、ジアザビシクロウンデセンやその塩類、リン系化
合物、有機金属化合物などを用いることができるが、耐
湿性及び電気特性の観点からトリフェニルホスフィン等
の有機ホスフィン類又はジアザビシクロウンデセンやそ
の塩が好ましい。
本願箱1の発明のエポキシ樹脂組成物は、上記(a)、
(b)の成分の他に溶融シリカを配合してもよい。この
溶融シリカの樹脂組成物中の含有量は65〜85重量%
の範囲することが望ましい。この理由は、溶融シリカの
含有量を65重量%未満にすると樹脂組成物の熱膨張係
数が大きくなって耐熱衝撃性が劣化する恐れがあり、一
方その含有量が85重量%を越えると粘度が高くなり過
ぎてインジェクション成形等の成形に際しての障害とな
る恐れがあるからである。
また、前記溶融シリカの他に本発明の目的を阻害しない
範囲内で種々の添加剤を配合することができる。かかる
添加剤としては、例えばステアリン酸などの脂肪酸、ワ
ックス類等の離型剤、カーボンブラック等の着色剤、エ
ポキシシラン、ビニルシラン、ボラン系化合物、アルキ
ルチタネート等のカップリング剤、アンチモン、リン化
合物などの難燃剤を挙げることができる。
本願第1の発明のエポキシ樹脂組成物は、ロール、ニー
ダ−又はスクリュ一式連続混線機等を用いてドライ混練
、溶融混練法などにより均一に混合した後、コンプレン
ジョン、トランスファ又はインジェクション成形に供さ
れる。
一方、本願第2の発明に係わる樹脂封止型半導体装置は
、前述したエポキシ樹脂組成物を用いて半導体素子を封
止することにより容易に製造することができる。封止法
の最も一般的な方法としては、低圧トランスファ成形法
があるが、インジェクション成形、圧縮成形、注型など
による封止法も同様に適用できる。こうした封止後にお
いて、加熱硬化させることにより前記組成物の硬化物に
よって封止された樹脂封止型半導体装置が得られる。硬
化に際しては、150℃以上に加熱することが特に望ま
しい。また、前記半導体素子としては例えば集積回路、
大規模集積回路、トランジスタ、サイリスタ、ダイオー
ド等を挙げることができる。
(作用) 本願第1の発明によれば、1分子中に少なくとも2個の
エポキシ基を有するエポキシ樹脂にフッ素系界面活性剤
を用いて熱硬化性シリコーンゴムを均一に分散させてな
る変性エポキシ樹脂(a成分)と、1分子中に少なくと
も2個の水酸基を有する硬化剤としてのノボラック形フ
ェノール樹脂(b成分)とを主体とする組成とするこに
よって、耐熱性、耐湿性及び電気特性に優れ、しかも型
曇り等のない良好な加工性、機械的衝撃に耐える強度、
冷熱サイクルでのクラック発生のない高強度の耐熱衝撃
性を有するエポキシ樹脂組成物を得ることができる。ま
た、本願第2の発明によれば、前述した特性を有する樹
脂組成物で半導体素子を封止することによって、電気絶
縁性や耐熱衝撃性等の優れた高信頼性の樹脂封止型半導
体装置を得ることができる。
(発明の実施例) まず、本実施例1〜3に使用する変性エポキシ樹脂(A
)〜(C)及び比較例1.2に使用する変性エポキシ樹
脂(D)、(E)の調製例を説明する。
変性エポキシ樹脂(A)の調製例 オルソクレゾールノボラック形エポキシ樹脂(E S 
CN−195XL 、住友化学■製商品名)1000g
を150℃の万能混合機中で溶融し、フッ素系界面活性
剤(フロラードFC−430.住友スリーエム■製商品
名)50gを加え、10分間攪拌した後、未硬化のシリ
コーンゴム(T S J−3150;東芝シリコーン■
製商品名) 2009を加えて攪拌した。30分間攪拌
した後に溶融樹脂を取出し、冷却し、更に粉砕して変性
エポキシ樹脂(A)を調製した。
変性エポキシ樹脂(B)の調製例 オルソクレゾールノボラック形エポキシ樹脂(EOCN
−102S ; 日本化薬■製商品名) 1000グを
150℃の万能混合機中で溶融し、フッ素系界面活性剤
(フロラードFC−430.住友スリーエム沖製商品名
)10gを加え、10分間攪拌した後、未硬化のシリコ
ーンゴム(TS J−3051;東芝シリコーン■製商
品名)100gを加えて攪拌した。
30分間攪拌した後に溶融樹脂を取出し、冷却し、更に
粉砕して変性エポキシ樹脂(B、 )を調製した。
変性エポキシ樹脂(C)の調製例 オルソクレゾールノボラック形エポキシ樹脂(E S 
CN−195XL 、住友化学株製商品名)1000 
gを150℃の万能混合機中で溶融し、フッ素系界面活
性剤(ロジンS−107;チバガイギー味製商品名)5
0gを加え、10分間攪拌した後、未硬化のシリコーン
ゴム(T S J −3150; 東芝シIJ ml−
ン■製商品名’) 200 gを加えて攪拌した。30
分間攪拌した後に溶融樹脂を取出し、冷却し、更に粉砕
して変性エポキシ樹脂(C)を調製した。
変性エポキシ樹脂(D)の調製例 オルソクレゾールノボラック形エポキシ樹脂(E S 
CN−195XL 、住友化学■製商品名)1000g
を150℃の万能混合機中で溶融し、フッ素系界面活性
剤(フロラードFC−430.住友スリーエム沖製商品
名)50gを加え、10分間攪拌した後、溶融樹脂を取
出し、冷却し、更に粉砕して変性エポキシ樹脂(D)を
調製した。
変性エポキシ樹脂(E)の調製例 オルソクレゾールノボラック形エポキシ樹脂(E S 
CN−195XL 、住友化学■製商品名)1000 
’;jを150℃の万能混合機中で溶融し、未硬化のシ
リコーンゴム(T S J−3150;東芝シリコーン
■製商品名) 200 gを加えて30分間攪拌した。
硬化したシリコーンゴムは均一に分散せずゴムの塊が残
っていたが、そのまま冷却した後に粉砕して変性エポキ
シ樹脂(E)を調製した。
次いで、上記方法により調製した変性エポキシ樹脂(A
)〜(E)及びクレゾールノボラック形エポキシ樹脂を
下記第1表に示す各種成分と共に混合し、以下に示す方
法により8種のエポキシ樹脂組成物を調製した。即ち、
フィラー(溶融シリカ)、三酸化アンチモン及びカーボ
ン粉末をまずミキサー中で混合し、これにカップリング
剤を加えて表面処理を行なった。つづいて、第1表に示
す残余の配合物(変性エポキシ樹脂、難燃用樹脂等)を
添加して充分混合した後、これらを60〜100℃に二
輪加熱ロールで混練して実施例1〜5のエポキシ樹脂組
成物、比較例1〜3のエポキシ樹脂組成物を夫々調製し
た。
次いで、本実施例1〜5及び比較例1〜3のエポキシ樹
脂組成物について、トランスモールド成形(175℃、
3分間)を行ない、これらを175℃の乾燥器に4時間
放置した後、その物性を調べたところ、下記第2表に示
す結果を得た。
また、本実施例1〜5及び比較例1〜3のエポキシ樹脂
組成物を用いて模擬素子を封止した樹脂封止型半導体装
置について、耐熱衝撃性(−65℃〜室温〜150℃の
間を繰返す冷熱サイクル)と耐湿性(127℃、2.5
気圧PCT、15V印加)を調べた。その結果を同第2
表に併記した。
第2表から明らかな如く、本発明のエポキシ樹脂組成物
(実施例1〜5)は比較例1〜3のエポキシ樹脂組成物
に比べて耐熱性、耐熱衝撃性、耐湿性及び電気特性が共
に優れていることがわかる。
[発明の効果] 以上詳述した如く、本発明によればモールド用樹脂とし
て要求される耐熱性、耐湿性及び電気特性に優れ、しか
も型曇り等のない良好な加工性、機械的衝撃に耐える強
度、冷熱サイクルでのクラック発生のない高強度の耐熱
衝撃性を有するエポキシ樹脂組成物、並びにかかる樹脂
組成物で封止され、耐熱衝撃性、耐湿性の優れた高信頼
性の樹脂封止型半導体装置を提供できる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、(a):1分子中に少なくとも2個のエポキシ
    基を有するエポキシ樹脂にフッ素系界面活性剤を用いて
    熱硬化性シリコーンゴムを均一に分散させてなる変性エ
    ポキシ樹脂と、 (b):1分子中に少なくとも2個の水酸基を有する硬
    化剤としてのノボラック形フェノール樹脂と、 を主成分とすることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
  2. (2)、エポキシ樹脂組成物によって封止されてなる樹
    脂封止型半導体装置において、前記エポキシ樹脂組成物
    が、 (a):1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有す
    るエポキシ樹脂にフッ素系界面活性剤を用いて熱硬化性
    シリコーンゴムを均一に分散させてなる変性エポキシ樹
    脂と、 (b):1分子中に少なくとも2個の水酸基を有する硬
    化剤としてのノボラック形フェノール樹脂と、 を主成分とするものであることを特徴とする樹脂封止型
    半導体装置。
JP14663187A 1987-06-12 1987-06-12 エポキシ樹脂組成物及び樹脂封止型半導体装置 Pending JPS63309515A (ja)

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