JPS63308938A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPS63308938A
JPS63308938A JP14584087A JP14584087A JPS63308938A JP S63308938 A JPS63308938 A JP S63308938A JP 14584087 A JP14584087 A JP 14584087A JP 14584087 A JP14584087 A JP 14584087A JP S63308938 A JPS63308938 A JP S63308938A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
wiring
out pad
light
electrode lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14584087A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidenobu Ishikura
石倉 秀信
Satoshi Yamakawa
聡 山川
Shigetaka Maekawa
繁登 前川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP14584087A priority Critical patent/JPS63308938A/ja
Publication of JPS63308938A publication Critical patent/JPS63308938A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野] この発明は半導体装置に関し、特に]能上遮光須域を必
要とする半導体装置に関するものである。
[従来の技IJj ] 第3図は従来の固体Wj像素子の出力部を示す概略平面
図であり、第4図は第3図の■−[V断面図である。
両図を参照して、以下その構成について説明する。
半導体基板6上に絶縁膜7を介して装置内部と導通する
電極引出用パッド1が形成され、これに配線4が直接ま
たは保護回路2を介して接続される。配線4と電極引出
用バッド1とは同一層をバターニングして形成されるた
め、配線4と他の電極引出用パッド1とは図に示すごと
く所定外11102211す必要がある。また、電極引
出用バッド1上には絶縁膜7が形成されるが、この上に
外部と導)1するための2層目電極3が絶縁III 7
に開口を設+−+て電極引出用パッドと接続して形成さ
蛛る。
固体礒像素子にあっては、外部から不用光が入射すると
照射を受けた半導体領域の電子が励起されて、これが光
電変換部にて正規に発生し転送されている電子に混入す
るとその信号出力にノイズを発生する。そのため、入出
力部において受光部以外に光が進入することを阻1トす
るため2層目電極3の部分を除いて、遮光用金属膜5が
絶縁膜7上に形成される。この場合、遮光用金属15は
2層目電極3と同一層をバターニングすることによって
形成されるので、両者は所定外11D、l111す必要
がある。
[発明が解決しようとする問題点] 上記のような従来の半導体装置では、遮光用金属膜が形
成されてはいるがその遮光効果については十分とはいえ
なかった。
すなわち、上述のように電極引出用パッド1と配線4と
は距離D2だけ2層目電1(i3と遮光用金属l!l 
5とは距離り、だけバターニングのため離す必要がある
ので、第4図において入射光8が照射した際Aで示す範
囲は遮光用台R膜5の遮光効果がなく、半導体基板6に
入射光8の影響を与えるのである。
この発明はかかる問題点を解決するためになされたもの
で、上述のAの範囲に相当する部分からの入射光の侵入
量を減らし、信号出力のノイズの発生を少なくする半導
体装置を提供することを目的とする。
[問題点を解決するだめの手段] この発明に係る半導体装置は、電極引出用パッド上に形
成される?1!極の大きさを調整し、1!極と遮光慢と
の間隙を電極引出用パッドに接続される配線の上方に位
置させるものである。
[作用] この発明においては、バターニング上必要な電極と遮光
贈との間隙から侵入する入射光の相当量がその下部に位
置する配線によって侵入が阻止される。
[実施例] 第1図はこの発明の一実施例を示す固体撮像素子の出力
部の概略平面図であり、第2図は第1図の■−■断面図
である。
両図を参照して、以下この発明の構成について説明する
半導体基板6上に絶縁膜7を介して装置内部と導通する
電極引出用パッド1が形成され、これに配線4が直接ま
たは保護回路2を介して接続される。配線4と他の電極
引出用パッド1とは従来と同じく所定外(11102M
す必要がある。また、7E極引出用パツド上には絶縁膜
7が形成されるが、この上に外部と導通するための2F
gi目胃極3が絶縁膜7に間口を設けて電極引出用パッ
ド1と接続して形成される。このとき、この2層目[1
3を従来より拡張してその端部が第2図に示すように配
線4の上方に重なるような大きさに形成する。2層目電
極3の形成部分を除いて、絶縁膜7上に遮光用金属膜5
が形成され、21F1目電極3とはバターニングの関係
でやはり所定外1mD、I!Iffされるが、この間隙
は1lIi!線4の上方にくるように配置することが重
要である。
したがって、第2図にて示すように入射光8が入射した
とき、2層目電極3と遮光用台fl膿5との間隙の範囲
(Aにて示す)から侵入した光は、その下方に位置する
配線4によって阻止され半導体Σ多板6には到達しない
4ンお、上記実施例では、2q配線構造に適用している
が、3層以上の多層配線構造であっても同様に適用でき
ることは言うまでもない。
また、上記実施例では、固体撮像素子の出力部について
適用しているが、他の部分または他の装置でも不用光の
侵入を閉止する必要のある多層配線構造を有するもので
あれば同様に適用できる。
[発明の効果] この発明は以上説明したとおり、絶縁膜上に形成される
電極の大きさを調整して、遮光膿との間隙を配線上方に
位置するようにしたのでその間隙から侵入する不用光を
従来に比して大幅に削減でき、出力信号にノイズが少な
い半導体装置となる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す概略平面図、第2図
は第1図のト(断面図、第3図は従来の固体撮像素子の
出力部を示す概略平面図、第4図は第3図のIV−rV
断面図である。 図において、1は電極引出用パッド、3は2Ili目電
極、4は配線、5は遮光用金fi!膜、6は半導体基板
、7は絶縁膜である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体基板と、 前記半導体基板上に形成された電極引出用パッドと、 前記電極引出用パッドに接続する配線と、 前記電極引出用パッドおよび前記配線上に形成される絶
    縁膜と、 前記電極引出用パッド上方であって、前記絶縁膜上に前
    記電極引出用パッドと導通して形成される電極と、 前記絶縁膜上に、前記電極と所定の距離を有して形成さ
    れる遮光膜とを備え、 前記電極と前記遮光膜との間隙の少なくとも一部が、前
    記配線の上方に位置する、半導体装置。
  2. (2)前記電極引出用パッドと前記電極とは、2層配線
    構造を構成する、特許請求の範囲第1項記載の半導体装
    置。
  3. (3)前記電極は、前記電極引出用パッド上の絶縁膜に
    設けられた開口を介して前記電極引出用パッドに接続す
    る、特許請求の範囲第1項または第2項記載の半導体装
    置。
  4. (4)前記遮光膜は、金属膜である、特許請求の範囲第
    1項、第2項または第3項記載の半導体装置。
  5. (5)前記電極引出用パッド、前記配線および前記電極
    は、固体撮像素子の入出力部を構成する、特許請求の範
    囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の半導体装置。
  6. (6)前記電極引出用パッドおよび前記配線は、前記半
    導体基板上に絶縁膜を介して形成される、特許請求の範
    囲第1項ないし第5項に記載の半導体装置。
JP14584087A 1987-06-10 1987-06-10 半導体装置 Pending JPS63308938A (ja)

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JPS63308938A true JPS63308938A (ja) 1988-12-16

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