JPS63308938A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS63308938A JPS63308938A JP14584087A JP14584087A JPS63308938A JP S63308938 A JPS63308938 A JP S63308938A JP 14584087 A JP14584087 A JP 14584087A JP 14584087 A JP14584087 A JP 14584087A JP S63308938 A JPS63308938 A JP S63308938A
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- electrode
- wiring
- out pad
- light
- electrode lead
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- Pending
Links
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
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- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
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Landscapes
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野]
この発明は半導体装置に関し、特に]能上遮光須域を必
要とする半導体装置に関するものである。
要とする半導体装置に関するものである。
[従来の技IJj ]
第3図は従来の固体Wj像素子の出力部を示す概略平面
図であり、第4図は第3図の■−[V断面図である。
図であり、第4図は第3図の■−[V断面図である。
両図を参照して、以下その構成について説明する。
半導体基板6上に絶縁膜7を介して装置内部と導通する
電極引出用パッド1が形成され、これに配線4が直接ま
たは保護回路2を介して接続される。配線4と電極引出
用バッド1とは同一層をバターニングして形成されるた
め、配線4と他の電極引出用パッド1とは図に示すごと
く所定外11102211す必要がある。また、電極引
出用バッド1上には絶縁膜7が形成されるが、この上に
外部と導)1するための2層目電極3が絶縁III 7
に開口を設+−+て電極引出用パッドと接続して形成さ
蛛る。
電極引出用パッド1が形成され、これに配線4が直接ま
たは保護回路2を介して接続される。配線4と電極引出
用バッド1とは同一層をバターニングして形成されるた
め、配線4と他の電極引出用パッド1とは図に示すごと
く所定外11102211す必要がある。また、電極引
出用バッド1上には絶縁膜7が形成されるが、この上に
外部と導)1するための2層目電極3が絶縁III 7
に開口を設+−+て電極引出用パッドと接続して形成さ
蛛る。
固体礒像素子にあっては、外部から不用光が入射すると
照射を受けた半導体領域の電子が励起されて、これが光
電変換部にて正規に発生し転送されている電子に混入す
るとその信号出力にノイズを発生する。そのため、入出
力部において受光部以外に光が進入することを阻1トす
るため2層目電極3の部分を除いて、遮光用金属膜5が
絶縁膜7上に形成される。この場合、遮光用金属15は
2層目電極3と同一層をバターニングすることによって
形成されるので、両者は所定外11D、l111す必要
がある。
照射を受けた半導体領域の電子が励起されて、これが光
電変換部にて正規に発生し転送されている電子に混入す
るとその信号出力にノイズを発生する。そのため、入出
力部において受光部以外に光が進入することを阻1トす
るため2層目電極3の部分を除いて、遮光用金属膜5が
絶縁膜7上に形成される。この場合、遮光用金属15は
2層目電極3と同一層をバターニングすることによって
形成されるので、両者は所定外11D、l111す必要
がある。
[発明が解決しようとする問題点]
上記のような従来の半導体装置では、遮光用金属膜が形
成されてはいるがその遮光効果については十分とはいえ
なかった。
成されてはいるがその遮光効果については十分とはいえ
なかった。
すなわち、上述のように電極引出用パッド1と配線4と
は距離D2だけ2層目電1(i3と遮光用金属l!l
5とは距離り、だけバターニングのため離す必要がある
ので、第4図において入射光8が照射した際Aで示す範
囲は遮光用台R膜5の遮光効果がなく、半導体基板6に
入射光8の影響を与えるのである。
は距離D2だけ2層目電1(i3と遮光用金属l!l
5とは距離り、だけバターニングのため離す必要がある
ので、第4図において入射光8が照射した際Aで示す範
囲は遮光用台R膜5の遮光効果がなく、半導体基板6に
入射光8の影響を与えるのである。
この発明はかかる問題点を解決するためになされたもの
で、上述のAの範囲に相当する部分からの入射光の侵入
量を減らし、信号出力のノイズの発生を少なくする半導
体装置を提供することを目的とする。
で、上述のAの範囲に相当する部分からの入射光の侵入
量を減らし、信号出力のノイズの発生を少なくする半導
体装置を提供することを目的とする。
[問題点を解決するだめの手段]
この発明に係る半導体装置は、電極引出用パッド上に形
成される?1!極の大きさを調整し、1!極と遮光慢と
の間隙を電極引出用パッドに接続される配線の上方に位
置させるものである。
成される?1!極の大きさを調整し、1!極と遮光慢と
の間隙を電極引出用パッドに接続される配線の上方に位
置させるものである。
[作用]
この発明においては、バターニング上必要な電極と遮光
贈との間隙から侵入する入射光の相当量がその下部に位
置する配線によって侵入が阻止される。
贈との間隙から侵入する入射光の相当量がその下部に位
置する配線によって侵入が阻止される。
[実施例]
第1図はこの発明の一実施例を示す固体撮像素子の出力
部の概略平面図であり、第2図は第1図の■−■断面図
である。
部の概略平面図であり、第2図は第1図の■−■断面図
である。
両図を参照して、以下この発明の構成について説明する
。
。
半導体基板6上に絶縁膜7を介して装置内部と導通する
電極引出用パッド1が形成され、これに配線4が直接ま
たは保護回路2を介して接続される。配線4と他の電極
引出用パッド1とは従来と同じく所定外(11102M
す必要がある。また、7E極引出用パツド上には絶縁膜
7が形成されるが、この上に外部と導通するための2F
gi目胃極3が絶縁膜7に間口を設けて電極引出用パッ
ド1と接続して形成される。このとき、この2層目[1
3を従来より拡張してその端部が第2図に示すように配
線4の上方に重なるような大きさに形成する。2層目電
極3の形成部分を除いて、絶縁膜7上に遮光用金属膜5
が形成され、21F1目電極3とはバターニングの関係
でやはり所定外1mD、I!Iffされるが、この間隙
は1lIi!線4の上方にくるように配置することが重
要である。
電極引出用パッド1が形成され、これに配線4が直接ま
たは保護回路2を介して接続される。配線4と他の電極
引出用パッド1とは従来と同じく所定外(11102M
す必要がある。また、7E極引出用パツド上には絶縁膜
7が形成されるが、この上に外部と導通するための2F
gi目胃極3が絶縁膜7に間口を設けて電極引出用パッ
ド1と接続して形成される。このとき、この2層目[1
3を従来より拡張してその端部が第2図に示すように配
線4の上方に重なるような大きさに形成する。2層目電
極3の形成部分を除いて、絶縁膜7上に遮光用金属膜5
が形成され、21F1目電極3とはバターニングの関係
でやはり所定外1mD、I!Iffされるが、この間隙
は1lIi!線4の上方にくるように配置することが重
要である。
したがって、第2図にて示すように入射光8が入射した
とき、2層目電極3と遮光用台fl膿5との間隙の範囲
(Aにて示す)から侵入した光は、その下方に位置する
配線4によって阻止され半導体Σ多板6には到達しない
。
とき、2層目電極3と遮光用台fl膿5との間隙の範囲
(Aにて示す)から侵入した光は、その下方に位置する
配線4によって阻止され半導体Σ多板6には到達しない
。
4ンお、上記実施例では、2q配線構造に適用している
が、3層以上の多層配線構造であっても同様に適用でき
ることは言うまでもない。
が、3層以上の多層配線構造であっても同様に適用でき
ることは言うまでもない。
また、上記実施例では、固体撮像素子の出力部について
適用しているが、他の部分または他の装置でも不用光の
侵入を閉止する必要のある多層配線構造を有するもので
あれば同様に適用できる。
適用しているが、他の部分または他の装置でも不用光の
侵入を閉止する必要のある多層配線構造を有するもので
あれば同様に適用できる。
[発明の効果]
この発明は以上説明したとおり、絶縁膜上に形成される
電極の大きさを調整して、遮光膿との間隙を配線上方に
位置するようにしたのでその間隙から侵入する不用光を
従来に比して大幅に削減でき、出力信号にノイズが少な
い半導体装置となる効果がある。
電極の大きさを調整して、遮光膿との間隙を配線上方に
位置するようにしたのでその間隙から侵入する不用光を
従来に比して大幅に削減でき、出力信号にノイズが少な
い半導体装置となる効果がある。
第1図はこの発明の一実施例を示す概略平面図、第2図
は第1図のト(断面図、第3図は従来の固体撮像素子の
出力部を示す概略平面図、第4図は第3図のIV−rV
断面図である。 図において、1は電極引出用パッド、3は2Ili目電
極、4は配線、5は遮光用金fi!膜、6は半導体基板
、7は絶縁膜である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
は第1図のト(断面図、第3図は従来の固体撮像素子の
出力部を示す概略平面図、第4図は第3図のIV−rV
断面図である。 図において、1は電極引出用パッド、3は2Ili目電
極、4は配線、5は遮光用金fi!膜、6は半導体基板
、7は絶縁膜である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (6)
- (1)半導体基板と、 前記半導体基板上に形成された電極引出用パッドと、 前記電極引出用パッドに接続する配線と、 前記電極引出用パッドおよび前記配線上に形成される絶
縁膜と、 前記電極引出用パッド上方であって、前記絶縁膜上に前
記電極引出用パッドと導通して形成される電極と、 前記絶縁膜上に、前記電極と所定の距離を有して形成さ
れる遮光膜とを備え、 前記電極と前記遮光膜との間隙の少なくとも一部が、前
記配線の上方に位置する、半導体装置。 - (2)前記電極引出用パッドと前記電極とは、2層配線
構造を構成する、特許請求の範囲第1項記載の半導体装
置。 - (3)前記電極は、前記電極引出用パッド上の絶縁膜に
設けられた開口を介して前記電極引出用パッドに接続す
る、特許請求の範囲第1項または第2項記載の半導体装
置。 - (4)前記遮光膜は、金属膜である、特許請求の範囲第
1項、第2項または第3項記載の半導体装置。 - (5)前記電極引出用パッド、前記配線および前記電極
は、固体撮像素子の入出力部を構成する、特許請求の範
囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の半導体装置。 - (6)前記電極引出用パッドおよび前記配線は、前記半
導体基板上に絶縁膜を介して形成される、特許請求の範
囲第1項ないし第5項に記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14584087A JPS63308938A (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14584087A JPS63308938A (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63308938A true JPS63308938A (ja) | 1988-12-16 |
Family
ID=15394320
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14584087A Pending JPS63308938A (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63308938A (ja) |
-
1987
- 1987-06-10 JP JP14584087A patent/JPS63308938A/ja active Pending
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