JPH03276676A - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置

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JPH03276676A
JPH03276676A JP2077671A JP7767190A JPH03276676A JP H03276676 A JPH03276676 A JP H03276676A JP 2077671 A JP2077671 A JP 2077671A JP 7767190 A JP7767190 A JP 7767190A JP H03276676 A JPH03276676 A JP H03276676A
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JP
Japan
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light
wavelength range
film
solid
dye
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Application number
JP2077671A
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English (en)
Inventor
Yasuo Ishihara
石原 保雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は固体撮像装置に関し、特に撮像装置に不要な波
長の光を遮断した固体撮像装置に関する。
[従来の技術] 従来、固体撮像装置は半導体基板主面に光電変換部及び
信号読み出し部を形成した構成となっている。通常、固
体撮像装置をビデオカメラに使用する場合、光電変換部
を成す光電変換素子の分光感度特性を標準テレビジョン
の色調に合わせるため、撮像装置の前面に赤外カットフ
ィルタを使用している。
第2図は従来の固体撮像装置であるインターライン転送
方式CCDイメージセンサの平面配置図である。同図は
便宜上3×3画素を有する装置が示されている。
同図において、1は例えばホトダイオードのような光電
変換素子の受光面、2は光電変換された信号電荷を読み
出す垂直CCDレジスタ3は同しく水平CCDレジスタ
、4は出力回路であり、ホトダイオード受光面1以外は
図中に斜線で示す金属遮光膜5て被われている。
第3図は第2図に示したCCDイメージセンサの半導体
チップ断面図である。尚、同図ては説明の便宜上、概念
的な模式図が示されているにすぎず、寸法的、素子構成
は実際の素子と対応しているわけてはない。
第3図においてbは例えばシリコンからなるp型半導体
基板、7はホトダイオードの素子領域でn型の拡散層か
らなりp型半導体基板6との間にp−n接合を形成して
いる。8は垂直CCDレジスタの転送チャネル部で、通
常半導体基板とは逆導電層からなっている。9は例えば
5102等の絶縁膜10を介して形成された垂直CCD
の転送電極である。
また、垂直CCDレジスタの転送チャネル部8と隣の列
のホトダイオードの素子領域7はチャネルストッパ11
で電気的に分離されている。5は信号を読み出す垂直C
CDレジスタの転送チャネル部8に直接光が入射しない
ように設けられた例えばアルミニウムのような金属から
なる遮光膜である。このようなインターラインCCDイ
メージセン]ノ分光感度特性はホトダイオードの接合深
さ。
表面再結合速度なとのパラメータで決まるが、基本的に
は基板半導体のシリコンの光吸収特性で決定される。こ
のため、固体撮像装置をテレビジョンカメラに応用する
場合、人間の視感度に合うように赤外カットフィルタを
必要とする。
[発明が解決しようとする課題] 上述したように従来のインターライン転送方式CCDイ
メージセンサては、人間の視感度に合わせた赤外カット
フィルタが必要になる。このため、テレビジョンカメラ
の小型軽量化を図る上で大きな障害となり、コストの増
大をも招いていた。
本発明は上記従来の事情に鑑みなされたもので、所定の
波長範囲の光を遮断する目的で赤外カットフィルタのよ
うな別部品を取り付けることを不要とした固体撮像装置
を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明の固体撮像装置は、光電変換素子群を含む光電変
換部と、前記光電変換素子のそnぞれから信号電荷を読
み出す信号読み出し部とが同一半導体基板に設けられて
いる固体撮像装置において、所定の波長範囲の光を吸収
する被膜が少なくとも前記光電変換素子部の受光面に形
成されていることを特徴とする。
[実施例コ 次に本発明の実施例について図面を用いて説明する。
第1図は本発明の一実施例に係るインターライン転送方
式CCDイメージセンサを示す半導体チッブ断面図であ
る。同図において、6は例えばシリコンからなるp型半
導体基板、7はホトダイオードの素子領域で選択的に形
成されたn型拡散領域であり、素子領域7はp型半導体
基板6と間にp−n接合を形成している。8は信号読み
出し部である垂直CCDレジスタの転送チャネルで通常
n型拡散層からなる。すなわち、信号読み出し部は埋め
込みチャネル型CCDから成っている。9は5i02等
の絶縁膜IOを介して転送チャネル上に形成された転送
電極である。11はチャネルストッパで、p型半導体基
板6と同し導電型で高い不純物濃度のp′″領域からな
)ている。5は信号読み出し部に光が入射しないように
例えば配線金属であるアルミニウムの様な金属膜からな
る遮光膜である。
以上は第2図に示した従来例と構成および動作において
全く同様であり、転送電極9に電圧を印加してホトダイ
オード素子領域7と転送チャネル部8との間にチャネル
を形成し、ホトダイオード素子領域7で光電変換された
信号電荷を垂直ccD及び水平CCDを介して出力回路
へ転送する。
本実施例が従来例と異なる点は、赤外線を吸収する染料
を湛合し、かつ透光性に優れた樹脂膜13がホトダイオ
ード7の受光部を含めた全領域を被っていることである
。この染料入り樹脂膜13を形成するには、例えばポジ
系フォトレジスト(ノボラック系樹脂)に少なくとも7
00 nm−1l100nの光を吸収する染料を混合し
、固体撮像装置を形成したシリコンウェハにスピンコー
ド法で塗布する。その後、通常のフォトリソグラフィー
技術によりボンデンクパット部の樹脂を選択的に除去す
る。
この構成ではシリコンを用いた撮像装置をテレビカメラ
に使用する場合、樹脂膜13が不要な波長範囲の光を素
子領域7に入射される前に吸収するため分光感度特性を
標準テレビジョン規格に合わせるため使用していた赤外
カットフィルタが不要になる。
尚、上記から明らかなように、樹脂膜13はその機能1
少なくともホトダイオード素子領域の受光面に設けられ
ていれば足りる。但し、上記実施例のように受光面以外
の部分にも膜13を設けることにより、金属遮光膜5等
による散乱光を防止してコーストやフレヤーのような画
像を損ねる現象を防止できる。
また、赤外線以外にも受光面に設ける膜を調整すること
により種々の波長範囲の不要光を遮断することができる
また、上記説明ではインターライン転送方式CCDイメ
ージセンサて説明したが、本発明はMO8型イメージセ
ンサなと全ての固体撮像装置に適用できることは言うま
でもない。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明は固体撮像装置の光電変換
素子の受光面を所定の波長を吸収する膜で被うようにし
たため、従来テレビジョンカメラシステムで使用してい
たフィルタが不要になり、小型軽量化及び低コスト化を
図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す半導体チップの断面図
、第2図は従来インターライン転送方式CCD撮像装置
の平面配置図、第3図は第2図に示した従来例の半導体
チップ断面図である。 1・・・・・・・受光面、 2・・・・・・・垂直CCDレジスタ、3・・・・・・
・水平CCDレジスタ、4・・・・・・・出力回路、 5・・・・・・・金属遮光膜、 6・・・・・・・p型半導体基板、 7・・・・・・・ホトダイオード、 8・・・・・・・転送チャネル、 9・・・・・・・転送電極、 】0・・・・・・絶縁層、 11・・・・・・チャネルストッパ、 13・・・・・・染料入り樹脂膜。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  光電変換素子群を含む光電変換部と、前記光電変換素
    子のそれぞれから信号電荷を読み出す信号読み出し部と
    が同一半導体基板に設けられている固体撮像装置におい
    て、所定の波長範囲の光を吸収する被膜が少なくとも前
    記光電変換素子部の受光面に形成されていることを特徴
    とする固体撮像装置。
JP2077671A 1990-03-26 1990-03-26 固体撮像装置 Pending JPH03276676A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6573503B1 (en) 1998-03-31 2003-06-03 Intel Corporation Plastic light selective element for imaging applications
EP1096240B1 (de) * 1999-10-29 2008-02-27 Robert Bosch Gmbh Infrarotabsorber und damit hergestellter thermischer Sensor
WO2016181786A1 (ja) * 2015-05-08 2016-11-17 Jsr株式会社 光センサ装置、光センサ装置を含む電子機器及び赤外線吸収性組成物、並びに赤外線カットフィルタ層の作製方法

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