JPS63303342A - 光重合性組成物 - Google Patents

光重合性組成物

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JPS63303342A
JPS63303342A JP62139354A JP13935487A JPS63303342A JP S63303342 A JPS63303342 A JP S63303342A JP 62139354 A JP62139354 A JP 62139354A JP 13935487 A JP13935487 A JP 13935487A JP S63303342 A JPS63303342 A JP S63303342A
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alkyl
acyl
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誠 鍛治
Futami Kaneko
金子 ふたみ
Nobuyuki Hayashi
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、新規な光重合性組成物に関し、詳しくは、得
られる硬化膜強度の改善された光重合性組成物に関する
(従来の技術) 7’lJント配線板の製造においてドライフイルムタイ
プのフォトレジストは均一な膜厚のフォトレジスト層を
容易に形成できること、スルホールエッチ/グレジスト
として所謂テンティング法に用いることができること等
で液状タイプのレジストよりも優れている。あらかじめ
スルホールと呼ばれる穴があけられ、その内部に銅等の
金属層が形成され9両面に導体層を持つ両面基板の両側
にドライフィルムを積層し、必要な回路パターンとスル
ホール上部にスルホール径よりもやや大きめにレジスト
膜が形成これるように−ぐターン露光をし。
現像後、エツチングを行い不要な金属層を除去する。こ
の際、スルホール上部に設けられたレジスト膜によりス
ルホール内の金属は保護され、形成されたプリント回路
基板の両面を電気的に導通させることができる。このよ
うな目的で使われるドライフィルムレジストは現像及び
エツチングが行われる条件で安定に基板に密着し、スル
ホール内へエツチング液が浸入しないことが要求される
が。
他の特性と総合的に判断して必ずしも満足のゆくものは
得られていない。一般にパターン形成時の露光量を増せ
ばテント膜強度は向上するが、露光量の増加に伴い解像
度が低下し高密度パターンの形成が難しく、また露光に
要する時間が長くなシ生産性を低下させてしまう。
スルホール周辺のランド部分での基板への密着性を増し
テンティングの信頼性を高める方法が提案されている(
特開昭59−113432号、特開昭60−12543
号、特開昭59−166944号、特開昭60−191
35号)がこれらの方法は、感光層中に種々の密着性を
促進する物質を含ませるもので、しばしば現像不良、レ
ジストのスソ引きなど後工程での不良を与える場合があ
る。
感光層の露光後の硬化膜の強度を高めるためにハロゲン
系の添加剤を用いる方法も提案されている(特開昭6(
1−15972号、特開昭57−60327号、特開昭
59−78339号)が。
この方法は感度と発色性を高めるためにも有用である。
しかし々から、比較的高い感度を有するフォトレジスト
の場合には保存安定性の低下が問題となる。特に、感光
層が銅表面と接触している際に、未露光部における暗反
応が顕著になる傾向にある。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は従来技術の上記の問題点を解決し、高い硬化膜
強度を与える光重合性組成物を提供するものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明は。
(1)常圧において100℃以上の沸点を有する付加重
合性化合物 (2)光開始剤 (3)下記式〔■〕で表わされるベンゼン誘導体(式中
+ R1,R21R31R14およびR5はそれぞれ独
立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキ
ル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、 炭s数1〜1
2のアルコキシカルボニル基。
アリール基、アリールオキシ基、炭素数1〜12のアシ
ル基まだはカルボキシル基であり、Rsは炭素数1〜1
2のアルキル基であり、R7は炭素数1〜12のアルキ
ル基、ヒドロキシル基、ホルミル基、カルボキシル基、
炭素数1〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜
12のアルコキシ基。
炭素数1〜12のアシル基、炭素数1〜12のアルキル
カルボニルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、
アリールオキシカルボニル基、アリールカルボニル基、
またはアリールカルボニルオキシ基である) を含有してなる光重合性組成物に関する。
本発明になる光重合性組成物に含まれる付加重合性化合
物は常圧において100℃以上の沸点を有するものが用
いられる。常圧において沸点が100℃より低いような
ものでは系内に含有する溶剤を乾燥等によって除去する
際または活性光線を照射する際該付加重合性化合物が揮
散して特性上および作業性上好捷しくないからである。
また該付加重合性化合物は光開始剤等と均一な組成物に
するために、用いられる有機溶剤に可溶なものが好まし
い。
有機溶剤は2例えばアセトン、メチルエチルケトン、ト
ルエン、クロロホルム、メタノール、エタノール、1,
1.1−トリクロロエタン等が用いられる。
常圧において100°C以上の沸点を有する付加重合性
化合物としては多価アルコールとα、β−不飽和カルボ
ン酸とを縮合して得られるもの9例えばジエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート(ジアクリレート甘たは
ジメタアクリレートの意味、以下同じ)、トリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレ−)、1.3−7”0バンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、1.3−ブタンジオール(
メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メ
タ)アクリレート、2.2−ビス(4−アクリロキシジ
ェトキシフェニル)プロパン、ス2−ビス(4−メタク
リロキシペンタエトキシフェニル)プロパン等、グリシ
ジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を付加し
て得られるもの9例えば新中村化学■製商品名BPE−
500(2,2−ビス(4−メタクリロキシホリエトキ
シフェニル)プロパンツ混合物)、トリメチロールプロ
パントリグリシジルエーテルトリ(メタ)アクリレート
、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)ア
クリレート、大阪有機化学■裂開品名MECHPP(γ
−クロローβ−ヒドロキシグロピル−β′−メタクリロ
イルオキシエチル−〇−フタレーe等、不飽和アミド例
えばメチレンビスアクリルアミド、エチレンビスアクリ
ルアミド、1,6−へキサメチレンビスアクリルアミド
等、ビニルエステル例えばジビニルサクシネート、ジビ
ニルアジペート、ジビニルフタレート、ジビニルテレフ
タレート、ジビニルベンゼン−1,3−ジスルホネート
などがあげられる。
この付加重合性化合物は、1種または2種以上が用いら
れる。
本発明に用いられる光開始剤としては従来公知のものを
用いることができる。例えば、s、p、パーパス(S、
 P、 Pappas )編rUVキユアリング:サイ
エンスアンドテクノロジーJ (UV Cur ing
: 5cience and Technology)
の第1章およびS、P、パーパス(S、 P、 Pap
pas )編rUVキユアリング:サイエンスアンドテ
クノロジーVo1.IIJ(U V Curing :
 5cience and TechnologyVo
l、Il)の第1章に記載されている種々の化合物を用
いることができる。例えば、ベンゾフェノン。
チオキサントン、クロロチオキサントン、アルキル置換
チオキサントン類、ベンジル、  4.4’ −)Jト
キシベンジル、9.10−フェナンスレンキノン9.1
0−アントラキノン、アゾ化合物及びアシルホスフィン
類である。また、ベンゾフェノン類。
チオキサントン類、3−ケトクマリン類にアミン等の還
元剤の組み合わせた二元系光開始剤も好ましく用いるこ
とができる。例えば、ベンゾフェノンとトリエタノール
アミン、ベンゾフェノンとミヒラーズケトン、ベンゾフ
ェノンと4.4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノン、2.4−ジエチルチオキサントンと4−ジメチル
アミノ安息香酸イソヘンチル、2.4−ジエチルチオキ
サントンと4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、3.3
’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノ)クマリンと
N、N−ジエチルアニリン、3−ベンゾイル−7−メド
キシクマリンとN−フェニルグリシン、4′−シアノベ
ンゾイル−5,7−シメトキシクマリンとN−フェニル
グリシン等の組み合わせがある。また光還元性の色素と
して、ローズベンガル、エリスロシン、エオシン、リボ
フラビン、チオニン等を単独でまたは種々の還元剤とと
もに用いることもできる。光開始剤は2種以上を用いて
もよい。
本発明においては上記の式〔工〕で表わされるベンゼン
誘導体が用いられ1例えば、p−イソプロピル安息香酸
、p−イソプロピル安息香酸フェニー1〇− ルアp−イソプロピル安息香酸エチル、p−イソプロピ
ル安息香酸n−デシル、p−イソプロピルアニリール、
p−イソプロピル−n−ブトキシベンゼン、p−’rソ
プロビルプロムベンゼン、I)−ジイソプロピルベンゼ
ン、m−ジイソプロピルベンゼン。
α−フェニル酪酸、α−フェニル酪酸エチル、α−フェ
ニル酪酸フェニル、α−フェニルプロピオン酸。
α−フェニルプロピオン酸フェニル、α−フェニルプロ
ピオン酸n−fシル、α−(p−ブロモフェニル)酪酸
、  α−(p−10ロフエニル)酪!、  a−イソ
プロピルフタル酸ジプチルエステル、α−フェニルラウ
IJン酸、p−イソプロピルビフェニル、p−イソプロ
ピルフェノキシベンゼン、p−イソプロピルアセトフェ
ノン、p−イソプロピルプロピオフェノン、1−フェニ
ル−n−ブタノール、1−フェニル−n−オクタツール
、(1−フェニル)−n−フチルフェニルエーテル、1
−フェニルエチル−プロピルケトン、α−フェニルオク
タナール、α−フェニルヘキサナール、1−フェニルオ
クチルアセテート、1.1−ジフェニルブタン、1−ベ
ンゾイル−1−フェニルブタン、1−フェニルオクチル
ベンゾエート等があげられる。
これらのベンゼン誘導体は単独であるいは二種以上を併
用することができる。
本発明においては、上記の常圧において100℃以上の
沸点を有する付加重合性化合物100重量部に対して、
光開始剤を0.01〜20重量部。
上記式〔I〕で表わされるベンゼン誘導体を0.01〜
20重量部の範囲で用いることが好ましい。
本発明になる光重合性組成物は、必要に応じて1種以上
の高分子量有機重合体を含有しても良い。
該高分子量有機重合体は熱可塑性であり9分子量は、1
0,000〜700,000を有するものが好寸しい。
例えば次のものが用いられる。
(A)  コポリエステル 多価アルコール、例えばジエチレングリコール。
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
トリメチロールプロパン、ネオペンチルグリコール等と
多価カルボン酸9例えばテレフタル酸、イソフタル酸、
セバシン酸、アジピン酸等とから製造したコポリエステ
ル。
FB+  ビニルポリマ メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸またはアクリ
ル酸のアルキルエステル例えばメチル(メタ)アクリレ
ート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)ア
クリレート、β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、スチレン、ビニルトルエン、ビニルクロライド、ヒ
ニルフチラール等のビニル単量体のホモポリマまたはコ
ポリマ。
(C)ポリホルムアルデヒド (D)  ポリウレタン fE)  ポリカーボネート (F′)  ナイロンまたはポリアミド(0セルロース
エステル側光ばメチルセルロース。
エチルセルロース 光重合性組成物に高分子量有機重合体を加えることによ
って基体への接着性、耐薬品性、フィルム性等の特性を
改良することができる。この高分子量有機重合体は該高
分子量有機重合体と前記の=13− 付加重合性化合物の合計重量を基準として80重量%以
下の範囲とされる。80重量係を越えるような量を含有
する場合は光硬化が十分に進まず好ましくない。
本発明になる光重合性組成物はまた必要に応じて染料、
顔料等の着色物質を含有してもよい。着色物質は公知の
ものが用いられ1例えばツクシン。
クリスタルバイオレット、メチルオレンジ、ナイルプル
−2B、  ビクトリアピュアブルー、マラカイトグリ
ーン、ナイトグリーンB、スピロンブルー等がある。
本発明になる光重合性組成物は、保存時の安定性を高め
るためにラジカル重合禁止剤またはラジカル重合抑制剤
を含有してもよい。このようなものとしてはp−メトキ
シフェノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチ
ルアミン、フェノチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン
、アリールフォスファイト等がある。
本発明になる光重合性組成物は光重合性組成物に用いる
ことが知られている他の添加物9例えば可塑剤、接着促
進剤等の添加物を含有してもよい。
本発明になる光重合性組成物は支持体上に塗布されて活
性光線に露光されて印刷刷版を製造したり、エツチング
又はメッキにより回路を形成するだめのホトレジストと
して使用できる。使用される活性光線源は250 nm
〜550nmの波長の活性光線を発生するものが用いら
れる。
このような光源としてはカーボンアーク灯、水銀灯、キ
セノンアーク灯、アルゴングローランプ。
アルゴンイオンレーザ−等がある。支持体としてハポリ
エチレンフイルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチ
レンテレフタレートフィルム等の有機重合体フィルム、
銅板、アルミニウム板、鉄板等の金属板、銅はくを表面
に張った絶縁板(ガラスエポキシ基材9紙エポキシ基材
9紙フェノール基材等)などが用いられる。
(作用) 本発明においては、上記(2)の成分が光の作用により
(1)の成分を重合せしめる際(3)の成分が重合度の
調整を行い2重合にともなう収縮による応力を緩和し、
得られる硬化膜の強度を高めるものと推定される。
(発明の効果) 本発明になる光重合性組成物は、高い硬化膜強度を与え
る光重合性組成物であり1例えばプリント回路板の製造
においてテンティング性に優れたドライフィルムレジス
トの形成に有用である。
(実施例) 本発明の詳細な説明する。ここで1部、チは重量部9重
量部を示す。
実施例1 光重合性組成物の調製 アクリルポリマ(メタクリル酸/メチルメタクリレート
/ブチルメタクリレート/2−エチルへキシルアクリレ
ート−23151/6/20の重量部比の共重合体1重
量平均分子量約90,000)の40チエチルセロソル
ブ溶液     120部BPE−500(新中村化学
■製商品名、2.2−ビス(4−メタクリロキシポリエ
トキシフェニル)プロパンの混合物)        
25部MECHPP(大阪有機化学■製産品名、γ−ク
ロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−メタクリロイル
オキシエチル−〇−フタレート)   8.5部テトラ
エチレングリコールジメタクリレート2.5部 ハイドロキノン            0.04部ベ
ンゾフェノン            3.8部4.4
′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン0.17部 メチルエチルケトン         20部以上の光
重合性組成物に実施例として表1に示した化合物を加え
たものと比較例としてこれらの化合物を加えないものを
塗布液として調製した。
それぞれの塗布液を25μm厚のポリエチレンテレフタ
レートフィルム(東し■社製、商品名「ルミラー」)上
にバーコーターを用いて塗布し100℃の熱風対流式乾
燥機で約3分間乾燥して光重合性エレメントを得た。乾
燥した光重合性組成物層の厚さは40μmであった。
次にゴムロールで加圧・加熱して積層するラミネーター
を用いて清浄な表面の直径3.2 [[m+のスルーホ
ールを有するガラスエポキシ両面鋼張積層板の両面に光
重合性組成物層と銅面が接するようにゴムロールの温度
を160℃として光重合性エレメントを積層した。
積層したサンプルに対し3KW超高圧水銀灯(オーク社
製HMW201B)を用いて両面を全面光照射した。つ
いでポリエチレンテレフタレートフィルムを除去し30
℃の1 ’I= Na2Co3水溶液により60秒間ス
プレー現像処理し暗所、室温で1時間風乾した。このサ
ンプルのスルーホール上の硬化膜の中央に、レオメータ
−(F’UDOH社製。
NRM−2010J−CW)を用いて直径2〇−の鋼棒
を進入させ膜の破れる時の力(g/cm’ )を読み、
テンティング強度としだ。この結果を表1実施例におい
ては高い硬化膜強度が得られることが示される。
−21=

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(1)常圧において100℃以上の沸点を有する付
    加重合性化合物、 (2)光開始剤 (3)下記式〔 I 〕で表わされるベンゼン誘導体▲数
    式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、R_1、R_2、R_3、R_4およびR_5
    はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜
    12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭
    素数1〜12のアルコキシカルボニル基、アリール基、
    アリールオキシ基、炭素数1〜12のアシル基またはカ
    ルボキシル基であり、R_6は炭素数1〜12のアルキ
    ル基であり、R_7は炭素数1〜12のアルキル基、ヒ
    ドロキシル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数1
    〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜12のア
    ルコキシ基、炭素数1〜12のアシル基、炭素数1〜1
    2のアルキルカルボニルオキシ基、アリール基、アリー
    ルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリールカ
    ルボニル基またはアリールカルボニルオキシ基である) を含有してなる光重合性組成物。 2、高分子量有機重合体を含有し、高分子量有機重合体
    を該高分子量有機重合体と付加重合性化合物の合計重量
    を基準として80重量%以下とした特許請求の範囲第1
    項記載の光重合性組成物。
JP62139354A 1987-06-03 1987-06-03 光重合性組成物 Expired - Lifetime JPH0823689B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63306441A (ja) * 1987-06-08 1988-12-14 Hitachi Chem Co Ltd 光重合性組成物

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JPS5070101A (ja) * 1973-10-22 1975-06-11
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