JPS63299136A - サブストレートをほぼ連続的に処理する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 不発８Ａは、サブストレートをほぼ連続的に処理する装
置、殊にカセット内に入れられて供給されたディスク状
のサブストレートをコーチングする装置であって、ロツ
クゲート室及び処理室の一連の室列を有しており、かつ
家中を通して少なくとも１つのサブストレートホルダを
搬送する搬送系を備えた処理装置を有しており、かつそ
のつど１つのサブストレートをカセットからサブストレ
ートホルダへ積みかつ再びサブストレートホルダからカ
セット内へ下ろすためノ装入ステーションを有している
形式のものに関する。

処理方法には、コーチングプロセス及び（又は）被膜層
の構造及び（又は）サブストレートの特性に影響を与え
るための種々異なる処理方法が含まれる。これらの処理
方法にはコーチング法の他にさらに、エツチング法、ク
リーニング法及びテンパリング法が含まれ、さらＫまた
、所定の冷却法を含んだノーの反応後処理法が含まれる
。

ディスク状のサブストレート（基体）は、ＣＤプレート
、磁気プレート等の円板形のサブストレート、ウエーフ
ァ等のほぼ円板形のフレート、さらに、他の多くの光学
的及び（又は）１！１子技術的目的で必要とされる方形
又は正方形のプレートであることができる。本発明の装
置はその外形が程度の差こそあれ円形であるプレート状
のサブストレートに対して特に有利に用いることができ
る。

はぼ連続的な処理とは、サブストレー　トが間欠的に、
しかし最終製品としては連続的に装置内へロックｒ−ト
を介して装入されかつ装置から再びロツクゲートを介し
て出される処理である。一時的な停止は一般にロツクゲ
ート室及び（又は）個々の処理工程中における停止によ
って現定される。

ディスク状のサブストレート例えばウエーファを個々の
サブストレート間に間隔分あけて保持する保持手段を備
えているカセット内に配置して供給することは公知であ
る。これらの保持手段は個々のサブストレートの主平面
若しくは中心平面を鉛直に立てた位置状態に保持する。

しかし従来、サブストレートを１つずつカセットカラ取
出してサブストレートホルダ内に装入することは、サブ
ストレートを主なる平面に対して垂直の方向で装置中を
搬送しようとする限シ、困難であるとされた。即ちこの
ためにはサブストレートホルダは、サブストレートが保
持手段から落ちないようにするために固定又は係止装置
を有しなければならない。このため自動マニプレータの
使用が実質的に著しく制限されたつ 本発明の課題は、はじめに述べた形式の装置を改良して
、サブストレートをあらゆる方向から形状接続的に保持
することＫよって固定する必要なしに、及び（又は）サ
ブストレートホルダから脱落する危険性なしに、サブス
トレートか、循環するベルＮＣ沿った、簡単で確実に作
動する自動装入ステーションにより、装置に供給され、
かつ再び装置から搬出されるようにすることにある。

この課題は本発明によれば、はじめに述べた形式の装置
において、 ヒ）サブストレートホルダが、そのつど１つのディスク
状のサブストレートを専ら■力の作用のみによって１つ
の受容平面内に保持する突起を有して訃シ、上記受容平
面が鉛直平面に対して鋭角をなして延びており、この場
合上記受容平面が処理装置に対して平行に延びており、
かつ） Ｃ口）装入ステーションが、少なくとも１つのカセット
の念めの移動装置及びカセットの移動範囲内に配置され
たマニプレータ装置を有して３シ、該マニプレータ装置
により、そのつど１つのサブストレートのカセットから
の取上げ若しくはカセット内への神大が鉛直方向で行な
われ、かつ上記マニプレータ装置によりナシストレート
が９０度の旋回運動により、サブストレートホルダの受
容平面の位置にほぼ等しい傾斜位置へ移され、かつ該傾
斜位置ｌｔにおいてサブストレートがマニプレータ装置
により上記突起上へ載置され若しくは該突起から離され
ることによって、解決されている。

鉛直線に対する受容平面の鋭角はこの場合３乃至１０度
、特に有利には５乃至７度である。

この角度は一方においては比較的小さい角度であるから
、サブストレートは少なくとも顕著には重力によって曲
げられることがなく、他方において僅かにＭｆ＋Ｉ、た
位置はサブストレートを専ら重力のみによって確実に上
記突起上に保持し、かつサブストレートホルダを介して
全装置中を搬送するの忙十分である。

ごの場合、処理工程の妨げになった）、換言すれはコー
チング工程においてコーチング物質を逃散したシ、また
熱管理肴しくにサシストレートドサブストレートホルダ
との間の熱的平衡に不都合な影響を与えた夛することが
ないように芙起を形成することは極めて容易である。

困難な問題は、サブストレートがそのつどカセット内の
極めて狭いスペースに配置されていてサシストレートの
処理されるべき表ＵｆＪが互いに重なシ合っておシ、し
かもサブストレートは処理の目的で少なくとも一方の表
面、場合によっては両表面が妨げなく処理作用を受ける
ことができるように配置されていなければならないとい
う点にある。

本発明の装置の特に有利な一構成方向によれば、マニプ
レータ装置がアームを備え九回転昇降柱を有しており、
該アームにサブストレートのためのグリッパ装置ＩＩｔ
が配置されており、かつ上記回転昇降柱の回転及び移動
軸が、カセット内に支承されているサブストレートの平
面に対して平行な鉛直平面内にあり、かつこの平面内に
おいて回転及び移動軸が鉛直線に対して、受容平面と鉛
直線との間の鋭角にほぼ等しい鋭角をなして延びている
。

この場合、鉛直線に対する回転及び移動軸の鋭角は２乃
至９度、有利には４乃至６度である。

特にスペースｍ１）ＦＥに役立つ、本発明の別の一覇成
形式によれば、一連のロツクゲート室及び処理室がＣ字
形に配置さｎていて、処理室が互いに突合わされｆｃ室
より成るＭｌの整列した室列を形成して′ｉ？シ、かつ
ロツクゲート室が上記の第１の室列に対して平行な第２
の、整列した室列を形成してお勺、かつこの場合大気に
向けられているロックゲート弁が互いに向かい合ってい
てかつ相互間接装入のための距離を形成しており、かつ
上記両室列がそれらのそれぞれ隣接した端部でそれぞれ
１つの横搬送室により、互いに接続されており、かつこ
れらの横搬送室内においてサブストレートホルダが移し
装置により、搬送方向に延びている鉛直平面に対する傾
斜位置を変えることなく、搬送系の第１０径路からこれ
に対して平行の、搬送系の第２の径路へ移される。

この場合、処理装置の、搬送方向に対して平行に延びて
いる外壁及び有効表面は、全体として、サブストレート
ホルダの受容平面の傾斜角度に等しい鋭角だけ傾けて配
置されているのが特に有利である。

処理装置の「有効表面」とは、グロークリーニング著し
くはエツチング用のプレート状電甑及びコーチング用の
プレート状ターゲットにおいてサブストレート表面に対
して面平行に延びている電極著しくはターグットの表面
を意味する。

次に図示の実施例につき本発明を説明する。

第１図は装置全体の構成を原理的に示すものである。こ
の装置ｔは、ロックゲート弁２．３を備えた入口ロツク
ゲート１及びサブストレート５を予熱するための加熱装
［４を有している。

入ロロックｒ−ト１には横搬送室６が続いておシ、この
室内においてサブストレートは、図示■矢印の方向で、
搬送系の第１の径路γから第２の径路８へ移される。さ
らに細部については第４図により後に詳述する。横搬送
室６の一方の端壁にはさらにエツチング装置９があシ、
これ（ｉ従来の形式でグロー放電装置として構成さｎて
いる。さらに別のロツクゲート弁１０を介して横搬送装
置６には処理室１１が接続しており、この室の一方の端
壁にはスパッタリングカソード１２があシ、これにより
サゾストレート５に最初のコーチングが行なわれる。サ
ブストレート５の後側にはさらに別の加熱装置１３があ
シ、この加熱装置には温度センサ１４が所属している。

処理室１１にはロツクゲート弁１５を介してさらに別の
処理室１Ｇが続いておシ、この室の一方の端壁にはさら
に別のスパッタリングカソード１１があシ、これにより
サプストレート５に同様の形式でコーチングが行なわれ
る。このスパッタリングカソードに対向して、温度セン
サ１９を有する加熱装置１８が配置されている。

処理室１６はロックダート弁２０を介してさらに別の横
搬送室２１に接続しており、この室内においてサブスト
レートは図示の矢印方向で搬送系の径路８から再び搬送
系の径路γへ移される。横搬送室６．２１は所謂高真空
ロックケ９−トの機能を有している。横搬送室２１から
はロツクゲート弁２２が出口ロツクゲート２３（ｌｌｌ
Ｉｌに設けられておシ、このロツクゲート２３の端部に
はやはシロツクデート弁２４が設けられている。両ロッ
クｒ−ト弁２．２４を介して装置は大気に接続している
。搬送系及び全ロックゲート弁は図示されていない従来
の中央制御ユニットにより強制制御される。

図面から判るように、ロックゲート室１及び２３並びに
処理室１１及び１６はＣ字形に配置されており、この場
合処理室１１及び１６は、互いに突合わされた室よ構成
る第１の整列した室列を形成し、ロツクゲート室１及び
２３は上記第１の室列に対して平行な、第２の整列した
菟列を形成しており、かつまた、大気側に向けられてい
るロックｒ−）弁２及び２４は互い釦向き合っておシ、
かつ装入のための距離を相互間に形成して＄−シ、この
ＦＦ！離については後に詳述する。

図面からさらに判るように上記の両室列はそれらの隣接
し合う端部でそれぞれ１つの横搬送室６及び２１によっ
て互いに接続されておル、これらの横搬送室内において
サブストレートホルダは搬送系の第１の径路７からこれ
に対して平行な、搬送系の第２の径路８に移され次いで
その逆に移される。

移し装置については後に第４図により詳述する。

第１図にはさらに装入ステーション２５が図示されてｉ
？ｂ　、このステーションには２つのカセット２６．２
７があシ、これらは図面では、それらの内部にある、平
行な線分で示すサシストレートによってのみ示されてい
る。装入ステーション２５には図面には示されていない
移動装置が所属しており、これはやはシ前記の中央制御
ユニットによって制御され、その結果１つのカセットか
ら取出されたそのつど１つのサブストレートが同一のカ
セットの又は後続のカセットの、村確に予め規定された
個所へ移される。

装入ステーション２５の範囲にはさらにマニプレータ装
置２８があシ、その詳細については後に第８図及び第９
図によｊ）説明する。マニプレータ装置には回転昇降柱
２９が所属していて、これは９０°の角度αだけ旋回可
能である。マニプレータ装ｆ１２８によりサブストレー
ト５は個所にカセット２６．若しくは２７から取出され
てそれぞれ１つのサシストレー　トホルダ３０に装入さ
れ、該ホルダと一緒に全装置中を図示の矢印の方向で搬
送される。サブストレートホルダ３０は繰返し異なる位
置で図示されている。

この種の装置は一般に複数のサブストレートホルダ３０
を備えていて、それらのりちの少なくとも１つが装入ス
テーションの範囲にあり、他は装置甲乙周期的に搬送さ
れている。

第２図にはＭ１図に示されているカセット２６及びサブ
ストレートホルダ３０とマニプレータ装置２８との協働
状態が図示されている。

回転ＪＡ−降装置２９は２つの支承部３１内に回転可能
にかつ高さ方向で移動可能に支承されており、このこと
は位＃３２′へ移すことができるアーム３２で示されて
いるっこのアーム３２の端部には、サブストレート５を
受取るための１つの真空吸着装ｆｆｆｉ３３塔しくは３
３′がある。

カセット２６は移動装［３４上に配置されてかシ、これ
には往復台ガイド３５が所属しており、これによりカセ
ット２６は同平面に対して垂直に運動可能である。駆動
は詳細には示されていない搬送ローラを介して行なわれ
、これらのローラの１つが軸３６によ少駆動される。搬
送ローラは往復台ガイド３５によって掴まれている。

第２図から判るように、回転昇降柱２９／／′ｉ鉛直線
に対して鋭角をなして延びており、それも該柱は、カセ
ット２６内に支承されているサブストレート５の平面に
対して平行である垂直の平面（第２図の図平面）内に位
置している。上記柱はしかしこの平面内において上記鉛
直線に対して、受容平面と鉛直線とのなす鋭角にほぼ等
しい鋭角をなして延びている（第８図）。

第２図には搬送系の第２の径路８の細部が略示されてい
る。さらに別の細部は第１０図に示されている。

第３図は搬送系の第１の径路７を有する入ローロックｒ
−ト１の垂直断面図である。

第４図は、搬送系３７の第１の径路７と第２の径路８と
が連絡している横搬送室６の垂直断面図である。この範
囲内において移し装置３８は＠３９に沿って横方向に移
動可能なローラ支持体４０を有しており、これは鎖線で
示す位置４０′へ＠Ｊ３９に沿って移動可能である。ロ
ーラ支持体４０には図面観察者の目線の方向で順次に位
置している、詳細には示されていない２対のローラが配
置されており、これらのうち少なくとも１つが軸４１に
よって駆動される。軸４１は真空密に横搬送室６に接続
され急接続管部４２内にあり、かつ端部にマグネットカ
ップリング４３の管内側の部分を支持しており、該カッ
プリング４３の外側の部分は接続管部４２上で回転可能
であシかつ管縦方向で移動可能である。このような形式
でマグネットカップリング４３はローラ支持体４０若し
くは４０′の位置とは無関係に常に連結した状態にある
。Ｍ４図に示されているローラ支持体の両方の位置４０
．４０′は搬送系３７の第１の径路７及び第２の径路８
の相応する定置のローラ対の位置に整列している。

図面から判るように、サブストレートホルダ３０はサシ
ストレート５と共く、第４図に示されている装置によ）
、搬送系の第１の径路γから第２の径路８へ横方向に移
される。

Ｍ５図は第１図に示されている処理室１１の範囲の詳細
間である。スパッタリングカソード１２には接地遮壁４
４が所属している。このようなスパッタリングカソード
の細部はしかし公知であシ、従って詳細な説明は省略す
る。さらに図面から判るように、搬送系３７の第２の径
路Ｂの定置のローラの１つが、サブストレートホルダ３
０の装置中での送シを保証するために、駆動軸４５を有
している。

第６図及び第７図にはサブストレートホルダ３０の上側
部分が示されており、第６図ではｌｆｉ面図であシ、第
７図では半部の正面図である。

サシストレートは下側突起４６と上側突起４７とを対で
有しており、これらはサブストレートホルダ３０内の円
形切欠き４８の縁に配置されている。サブストレートホ
ルダ３０は板状基部３０ａを有し、これは、鉛直諜Ｓに
対して上記の鋭角をなして延びており、かつ第６図にか
ける搬送方向（第６図の図平面に対してｆＲ直の方向）
で、移動可能である。板状基部３０ａはサブストレート
５の下側範囲に２つの上記の突起４６を有しており、こ
れらはサブストレート下縁を受けるためのそれぞれ１つ
の溝４６ａを有している。サシストレートの上側範囲に
は２つの突起４１が配置されており、これらの端面は、
サブストレート５を板状基部３υａから離して保持する
ようにサブストレートを支持するのに役立つ。このよう
な支持形式により吸着装置３３は板状基部３０ａとサブ
ストレート５との間のヌペース内へ入ることができる。

円形の切欠き４日は、サブストレート５の後側が処理装
置、例えば熱源の作用を妨げなく受けることができるよ
うにするために役立つ。

第８図は、第２図とは反対の方向からみたマニプレータ
装置２８の作業形式を示す略示図である。回転昇降柱２
９は、アーム３２が左側に示された位置にあるときに、
吸着装置３３と一諸に、カセット２６内の２つのサブス
トレートの間の中空スペース内へ導入され、この場合こ
のサブストレートの主平面ｌ−ｊ精確に鉛直に延びてい
る。回転昇降柱２９が鎖線で示されている位置２９′へ
上昇することによりサブストレート５′がカセット２６
から取出される。回転昇降柱２９が角α′Ｊ）Ｎ斜を有
することに基き、サブストレート５若しくは５′はアー
ム３２若しくは３２′の９０度の回転により、回転昇降
柱２９の傾斜位置に相応する角度位置に達する。この位
置でサブストレート５若しくは５′は先に述べたサブス
トレートホルダ３０の突起上に下ろされる。鉛直巌Ｓに
対する回転昇降柱２９の角度位置はこの場合、サブスト
レートが突起４７の端面上を滑ることなく突起４６及び
４７上へ下ろされるようにするために、有利には１度だ
け少ない角度に保持されている。

第９図は第８図の作業状態を上からみた平面間でちって
、この場合第８図の図面＠察者日線の方向は矢印４９で
示されている。

第１０図は装置の構成のさらに別の細部を示すものであ
る。

多くの場合、こ＼で行なわれる処理工程は真空及び（又
は）保護ガス下において実施されるから、ロツクゲート
弁、処理室等は所Ｍ真空室によって形成されている。そ
の搬送方向に対して平行に延びている外壁５１．５２若
しくは５３．５４並びに処理装置のはじめに述べた有効
表面５５は全体として鋭角βだけＭ斜して２シ、該角度
はサブストレートホルダ３０の受容平面の傾斜角度に等
しい。この受容平面の位置は突起４６の溝４６ａ及び突
起４７の、詳細には示されていない端面によって規定さ
れ、この場合簡単にするためにはじめはサブストレート
５の厚味は無視される。この受容平面の位置は、従って
、第６図から判るように、サブストレート５の位置に等
しい。個々の処理室はスリット口５６によって互いに接
続されており、これらのスリット口は少なくとも部分的
に、第１図に示されているロツクゲート弁によって遮断
可能になっている。

各サブストレートホルダ３０はその下側範囲に４つのり
いに平行にかつ水平に向けられた案内条片５７を有して
訃シ、これらは、詳細には示されていない角柱状の走行
面を介して、対をなして？定置されている搬送ローラ５
８及び案内ローラ５９に係合している。搬送ローラ５８
若しくは案内ローラ５９は定置の軸受スリーブ６０若し
くはｂ１内に軸受けされており、これらは７ランジプレ
ート６２に不動に結合されている。搬送ローラ５８は＠
６３によって駆動可能である。

ロー２５８．５９遥びに第１０図の図面観察者の百森の
方向で該ローラの前と後とに位置しているさらに別のロ
ーラは搬送系の第２の径路８を規定している。搬送系の
第１の径路７ｆｄ第１０図には示されていないさらに別
のローラ対によって規定され、これらは、殊に第１図に
おいてもみられるように、鏡面対称に配置されている。

全てのサブストレートホルダ３０がどのような形式で第
１の径路７のローラから第２の径路８のローラへ移され
るかは既に第４図及びその説明において述べた通シであ
る。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の装置の一実施例を示すもので、第１図は
矢印で示されたサブストレート搬送径路を備えた全装蓋
の原理的構成を示す平面図、第２図は装入ステーション
の範囲における装置の垂直断面図、第６図は加熱装置を
備えた第１の真空ロックダートの範囲における装置の垂
直Ｆ！ｔｒｒｆＪ図、第４図は搬送系の１つの径路から
搬送系の別の径路へサブストレートホルダを移すための
横搬送室の垂直断面図、第５図は加熱装置分有する１つ
の処理室の垂直断面図、第６図は１或置されたサブスト
レートを有するサブストレートホルダの上側部分の垂直
断面の拡大図、第７図は第６図の、しかしサブストレー
トなしのサブストレートホルダ半部の前面図、第８図は
所属のマニプレータ装置と協働するカセットの垂直断面
図、第９図は所槁のマニプレータ装置及び処理装置の入
口ロツクゲートと２つの異なったカセットとを示す平面
図、第１０図Ｆｉ第１図のＸ−Ｘ線による入口ロックゲ
ート及び処理ステーションの範囲のさらに別の細部を示
す、第１図の装置の垂直断面の拡大図である。 １・・・入口ロツクゲート、２，３・・・ロツクゲート
弁、４・・・加熱装置、５・・・サブストレート、６・
・・横搬送室、７・・・第１の径路、８・・・第２の径
路、９・・・エツチング装置、１０・・・ロツクゲート
弁、１１・・・処理室、１２・・・スパッタリングカソ
ード、１３・・・加熱装置、１４・・・温度センサ、１
５・・・ロックテート弁、１６・・・処理室、１１・・
・スパッタリングカソード、１８・−・加熱装置、１９
・・・温度センサ、２０・・・四ツクデート弁、２１・
・・横搬送装置、２２−・・ロツクゲート弁、２３・・
・出ロロツクｒ−ト、２４・・・ロツクゲート弁、２５
・・・装入ステーション、２６．２７・・・カセット、
２Ｂ・・・マニプレータ装置、２９・・・回転昇降柱、
３０・・・サブストレートホルダ、３０ａ・・・板状基
部、３１・・・支承部、３２・・・アーム、３３．３３
’・・・真空吸着装置、３４・・・移動装置、３５・・
・往復台ガイド、３６・・・軸、３１・・・搬送系、３
８・・・移し装置、３９軸、４０・・・ローラ支持体、
４１−・・軸、４２・・・接続管部、４３・・・マグネ
ットカップリング、４４・・・接地遮壁、４５・・・駆
動軸、ｌ；６・・・下側の突起、４７・・・上側の突起
、４Ｂ・・・切欠き、５１・・・外壁、５２・・・外壁
、５３・・・外壁、５４−・外壁、５５・・・有効表面
、５６・・・スリット口、ｂｌ・・・案内条片、５８・
・・搬送ローラ、５９・・・案内ローラ、６０・・・軸
受スリーブ、６１・・・軸受ス’）　　７”、６２・・
・フランジプレートＦＩＧ・３ ＦＩＧ、４ 手続補正書（方式） 昭和６３年　５月ｌ１日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、サブストレートをほぼ連続的に処理する装置、殊に
   カセツト内に入れられて供給されたデイスク状のサブス
   トレートをコーチングする装置であつて、ロツクゲート
   室及び処理室の一連の室列を有しており、かつ室中を通
   して少なくとも１つのサブストレートホルダを搬送する
   搬送系を備えた処理装置を有しており、かつそのつど１
   つのサブストレートをカセツトからサブストレートホル
   ダへ積みかつ再びサブストレートホルダからカセツト内
   へ下ろすための装入ステーシヨンを有している形式のも
   のにおいて、 （イ）サブストレートホルダ（３０）が、そのつど１つ
   のデイスク状のサブストレート（５）を専ら重力の作用
   のみによつて１つの受容平面内に保持する突起（４６、
   ４７）を有しており、上記受容平面が鉛直平面に対して
   鋭角をなして延びており、この場合上記受容平面が処理
   装置に対して平行に延びており、かつ、（ロ）装入ステ
   ーション（２５）が、少なくとも１つのカセツト（２６
   、２７）のための移動装置（３４）及びカセツト（２６
   、２７）の移動範囲内に配置されたマニプレータ装置（
   ２８）を有しており、該マニプレータ装置により、その
   つど１つのサブストレート（５）のカセツト（２６、２
   ７）からの取上げ若しくはカセツト（２６、２７）内へ
   の挿入が鉛直方向で行なわれ、かつ上記マニプレータ装
   置によりサブストレートが９０度の旋回運動により、サ
   ブストレートホルダ（３０）の受容平面の位置にほぼ等
   しい傾斜位置へ移され、かつ該傾斜位置においてサブス
   トレート（５）がマニプレータ装置により上記突起上へ
   載置され若しくは該突起から離される、 サブストレートをほぼ連続的に処理する装置。 ２、鉛直線に対する受容平面の鋭角が３乃至１０度、有
   利には５乃至７度である、請求項１記載の装置。 ３、マニプレータ装置（２８）がアーム（３２）を備え
   た回転昇降柱（２９）を有しており、該アームにサブス
   トレート（５）のためのグリツパ装置（３３）が配置さ
   れており、かつ上記回転昇降柱（２９）の回転及び移動
   軸が、カセツト（２６、２７）内に支承されているサブ
   ストレート（５）の平衡に対して平行な鉛直平面内にあ
   り、かつこの平面内において回転及び移動軸が鉛直線に
   対して、受容平面と鉛直線との間の鋭角にほぼ等しい鋭
   角をなして延びている、請求項１記載の装置。 ４、鉛直線に対する回転昇降柱（２９）の回転及び移動
   軸の鋭角が２乃至９度、有利には４乃至６度である、請
   求項３記載の装置。 ５、グリツパ装置（３３）が真空吸着装置である、請求
   項３記載の装置。 ６、サブストレートホルダ（３０）が板状基部（３０ａ
   ）を有しており、該基部が鉛直線（ｓ）に対して上記鋭
   角をなして延びており、かつ基部自体に対して平行に搬
   送方向に移動可能であり、かつ基部（３０ａ）がサブス
   トレート（５）の下側範囲にサブストレートの下縁を受
   けるためのそれぞれ１つの溝（４６ａ）を備えた２つの
   突起（４６）を、かつサブストレートの上側範囲に、サ
   ブストレート（５）を基部（３０ａ）から離して保持す
   ようにサブストレート（５）を支持するための端面を備
   えた２つの突起（４７）を有している、請求項１記載の
   装置。 ７、サブストレート（５）のグリツパ装置がサブストレ
   ートの後側の、サブストレート（５）と基部（３０ａ）
   との間の中間スペース内へ導入可能である、請求項６記
   載の装置。８、一連のロックゲート室（１、２３）及び
   処理室（１１、１６）がＣ字形に配置されていて、処理
   室（１１、１６）が互いに突合わされた室より成る第１
   の整列した室列を形成しており、かつロックゲート室（
   １、２３）が上記の第１の室列に対して平行な第２の、
   整列した室列を形成しており、かつこの場合大気に向け
   られているロックゲート弁（２、２４）が互いに向かい
   合つていてかつ相互間に装入のための距離を形成してお
   り、かつ上記両室列がそれらのそれぞれ隣接した端部で
   それぞれ１つの横搬送室（６、２１）により、互いに接
   続されており、かつこれらの横搬送室内においてサブス
   トレートホルダ（３０）が移し装置（３８）により、搬
   送方向に延びている鉛直平面に対する傾斜位置を変える
   ことなく、搬送系の第１の径路（７）からこれに対して
   平行の、搬送系の第２の径路（８）へ移される、請求項
   １記載の装置。 ９、処理装置の、搬送装置に対して平行に延びている外
   壁（５１、５２；５３、５４）及び有効表面（５５）が
   全体として鋭角βだけ傾斜して配置されており、該鉛角
   はサブストレートホルダ（３０）の受容平面の傾斜角度
   に等しい、請求項１又は８記載の装置。 １０、各サブストレートホルダ（３０）がその下側範囲
   に互いに平行にかつ水平に延びている案内条片（５７）
   を有しており、該案内条片が走行面を介して、対で配置
   されている搬送ローラ（５８）及び案内ローラ（５９）
   に係合しており、かつ移し装置（３８）が少なくとも２
   つのローラ対を備えた横方向に移動可能なローラ支持体
   （４０）を有しており、該ローラ支持体（４０）が、搬
   送系（３７）の第１の径路（７）及び第２の径路（８）
   の定置のローラ対と整列する位置へ選択的に移される、
   請求項８記載の装置。 １１、移動可能なローラ支持体（４０）のローラの少な
   くとも１つのローラが駆動軸（４１）を有しており、該
   駆動軸が、ローラ支持体（４０）を横方向に移動させる
   ための推力及びトルクを伝達する駆動装置（４３）に連
   結されている、請求項１０記載の装置。 １２、駆動軸（４１）がマグネットカップリング（４３
   ）の内側のエレメントを有していて、該エレメントが非
   磁性体より成る接続管部（４２）内に配置されており、
   かつ該接続管部の外側に上記マグネツトカツプリング（
   ４３）の外側のエレメントが回転可能及び軸方向で移動
   可能に配置されている、請求項１１記載の装置。