JPH0261065A - スパッタ装置の基板搬送装置 - Google Patents

スパッタ装置の基板搬送装置

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JPH0261065A
JPH0261065A JP21175688A JP21175688A JPH0261065A JP H0261065 A JPH0261065 A JP H0261065A JP 21175688 A JP21175688 A JP 21175688A JP 21175688 A JP21175688 A JP 21175688A JP H0261065 A JPH0261065 A JP H0261065A
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JP
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sputtering
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tray
chamber
tractor
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JP21175688A
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JPH0579752B2 (ja
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Yoshihiro Hirota
広田 喜弘
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Canon Anelva Corp
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Anelva Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、スパッタ室とロード室を備えたスパッタ装置
の、基板ホルダーを取り付けたトレイの搬送装置の改良
に関するものである。
(従来の技術) 従来のこの種のスパッタ装置の一例の全体の概要の正面
断面図を第5図に示す。ただし、説明を簡単にするため
に排気系、ガス導入系、電源、および駆動系の原動機部
などは省略した。
ロード室8とスパッタ室10の間には仕切りバルブlが
設けられていて、仕切りバルブ駆動系11で開閉駆動さ
れるようになっている。
ロード室8内には、基板ホルダー(その1枚は普通複数
の基板を登載する)を取り付けたトレイの複数個を、上
下動可能に積層したtIII181が固定されていて、
棚81の下部は駆動チェーン7の上面に開放されている
。最下層のトレイな83で示す。トレイの上下駆動機構
を矢印80て暗示した。
71.72は駆動チェーン7を送るプーリーであるが、
その駆動系の図は省略している。
スパッタ室10内の下方には、それぞれ陰極(図示しな
い)を下部に備えたターゲット111゜112.113
と、基板加熱用のヒーター12があり、上方には逆スパ
ッタ用陰極9が設けられている。
スパッタ室での処理は次のように行なわれる。
後述する搬送方法でロード室8からスパッタ室lO内へ
送られてきたトレイ(例えば、3)は、駆動チェーン6
で右方に搬送されて−先ずヒーター12の上の位置に送
られ、ここで所定の温度にまで加熱される。
次いで、トレイ3は、矢印90で暗示する上下駆動機構
90によって駆動チェーン6から外され、逆スパッタ用
陰極90表面の93位置にまで上げられて保持され、こ
こで逆スパッタリングによる基板表面のクリーニングが
行なわれ、その後、上下駆動機構90によって再び駆動
チェーン6上に戻される。
次いで、トレイ3は駆動チェーン6によって緩やかな速
度で左方に搬送され、その搬送途中にてターゲット11
3,112.111の上方を逐次通過するとき、それぞ
れ基板表面に所定のスパッタリング処理が施されもので
ある。
この後、後述の方法でロード室8内に搬送されて作業を
終わる。
さて、ロード室8内とスパッタ室10内とのトレイの受
渡し搬送方法であるが、これを第4図a(要部拡大平面
図)、b(同側面A −A断面図)。
C(同正面断面図)に示す。
、基板ホールダ−2を取り付けたトレイ3の側端には、
切欠き35、および、突起34が設けられており、その
それぞれには、ロード室側駆動チェーン7に取り付けら
れたドグ5、および、スパッタ室側駆動チェーン6に取
り付けられたドグ4が係合するようになっている。そし
て、これらa、b。
0図の現状は、丁度、ロード室からスパッタUl\、も
しくは、スパッタ室からロード室へ、トレイの受渡しが
行なわれようとするその瞬間を示したものとなっている
これら駆動チェーン、ドグそしてトレイ等々の各部を才
の位置間係はb図に詳しい。ただしb図で、14は駆動
チェーン駆動用歯車であって、回転導入機13を通じて
大気側から導入される回転駆動力で駆動されているもの
である。また、トレイ3にはその両側面の下部に線状の
コロ受け150が固定されており、ロード室およびスパ
ッタ室のコロ台16の各所に取り付けられた多数のコロ
15に乗って、前記の各ドグで押されて搬送されるよう
になっている。
なお、ロード室8内とスパッタ室10内との、従来の、
トレイの受渡し搬送方法には、上記の駆動チェーンを用
いるもののほかに、ラックとビニオンによる駆動・搬送
を行なうものや、ワイアーをトレイに引っかけてワイア
ーを引っ張ることによりトレイを駆動・搬送するもの等
もあるが、そのいずれもが、ロード室とスパッタ室の両
方に駆動系な備えるものとなっている。
(発明が解決しようとする問題点) しかしこれら、jに来のトレイの駆動方式には次のよう
な欠点があった。
ラック・ビニオン方式では、トレイの前進および後退と
いう駆動の際、ラックとビニオンの歯車の噛み合わせを
調節しなけれはならないため複雑な噛み合わせ調節機構
を必要とする。また精度を確保するため調整に時間を多
く費やすなどの欠点があった。ざらにトレイにラックを
つける(一般に歯切りを行なっている)費用が多くかか
り、高価になる欠点がある。
また、上述の駆動チェーン(チェーンの代わりにワイア
ーを用いるものも同じである)によってトレイを引っか
けて駆動する方法には、駆動チェーン(またはワイアー
)の使用中の伸びによってトレイの受渡し位置精度が変
化してしまい、トレイの受渡しにバラツキが発生し、と
きには受渡し不能になる等の欠点がある。
また以下は、上記した難点を解決する本願の基板搬送装
置の発明を利用する本願の第2の発明に関連する事項で
あるが、第5図のように、基板を逆スパッタによってク
リーニングする機構を備える場合であって、しかも、逆
スパッタ電極9に対向する場所またはその付近に基板加
熱用のヒーター(赤外線ランプ等)12がある場合には
、従来とかく、逆スパッタされた物輩がランプの表面に
付着し、赤外線の透過度を著しく阻害するという不具合
を生じていた。
(発明の目的) 本発明は、上述の従来の基板搬送装置の調整の複雑さ、
コスト高、信頼性の低さ、およびヒーターの汚損の問題
点を解決した新規の基板搬送装置の提供を目的とする。
(問題を解決するための手段) 本発明は、仕切りバルブを挟んで互いに隣接するスパッ
タ室とロード室を備えたスパッタHaの、該仕切りバル
ブを通して、基板を登載する基板ホルダーを取り付けた
トレイの搬送を行なう基板搬送装置において、該トレイ
の搬送を、スパッタ室側に設けられられた駆動系で駆動
されるトラクターを用いて、該トラクターの一部を該ト
レイの一部に係合させて行なわるようにしたものである
また、そのスパッタ装置が、スパッタ室内にて基板の逆
スパッタを行なうための陰極を備える装置であって、且
つ、該陰極に対向する場所の付近に基板加熱ヒーターを
備える装置に対しては、逆スパッタ作業時にそのトラク
ターを、逆スパッタされる基板と基板加熱ヒーターの間
に移動、配置させることて、前記基板加熱ヒーターの表
面の汚損を防止するようにしたものである。
(作用) スパッタ室側の駆動系で駆動されるトラクターは、その
腕をロード室内に差入れてトレイを引っかけてその搬送
を行なう。
また前記の逆スパッタ時には、トレイを基板とヒーター
の間に移動して汚損物を遮蔽し、ヒーターの汚損を防止
する。
(実施例) 第1図a(要部拡大平面図)、b、c(同lす面断面図
)、および、第2,3図(装置の概要の正面断面図)に
本発明の実施例を示す。ただし、説明を簡単にするため
に前記同様、排気系、ガス導入系、電源、および駆動系
の原動機部等は省略した。
この実施例の装置では、ロード室8からスパッタ室10
への仕切りバルブ1を通してのトレイの搬送は、新しく
設けられたトラクター300を利用して行なわれる。即
ち、新しく設計されたトレイ3′の前端には図示のよう
に切欠き35′が設けられており、これに対応して、ト
ラクター300の後尾の側端に備えられた二つの腕30
巳こは、それぞれ引っかけ用突起304が設けられてい
る。
第2図で、仕切りバルブ1を開いて、このトラクター3
00の腕30をロード室8内に差入れ、その引っかけ用
突起304を、棚81の下端のトレイ83′の前記切欠
き35′の下部にまで持ち込むと、トレイの上下駆動機
構(矢印)80は、トレイ83゛を下方に移動させて、
第1図aに示すようなトレイとトラクターの係合状態を
完成する。このトラクター300の搬送駆動の仕組みは
第1図1)に詳しい。
この実施例では、前記した従来の装置が採用していたト
ゲによる駆動は行なわれない。トラクター300の搬送
は、その両側面の下部のコロ受け150を、それに係合
する多数の駆動用コロ15゛が摩擦力で駆動するように
なっている。駆動用コロ15′は、スパッタ室のコロ台
16に1列に複数個取り付けられていて、それぞれは同
軸のチェーン歯車14を備え、そのすべてのチェーン歯
車14は1個のチェーン6′で連結されるという構成を
採用している。そしてその駆動チェーン駆動用歯車14
の1つが、回転導入機13を通じて大気側から導入され
る回転駆動力で駆動されるようになっている。コロ受け
150はトレイ3′にも設けられていて、それを利用し
てトレイがトラクター同様駆動コロ15’、コロ15の
上に乗って搬送されるが、これは前記した従来の装置の
例と同じと言える。
なお、このスパッタ室10内におけるトラクターの搬送
方法は、上記した駆動チェーンと駆動コロを用いるもの
のほかに、前述の駆動チェーンとドグを用いる駆動、ラ
ックととニオンを用いる駆動や、ワイアーをトラクター
に引っかけて行なう駆動などてあっても支障はない。た
だし本発明の場合は、従来と異なり、そのいずれの駆動
方法をとる場合であっても、搬送駆動系はスパッタ室1
0に備えるものだけで足り、ロード室8には必要がなく
なる。従って従来のようtこ2つの駆動系の駆動速度の
調整や、トレイ受渡しのタイミンクの整合に頭を悩ませ
るような事態からは完全に解消される。
第1図Cには、本実施例でトレイ3゛がトラクター30
0によって引き出され、ターゲット11の上に到着した
状態を示す。ターゲラ!−111の下方には陰極100
が絶縁物101を用いてスパッタ室壁に取り付けられて
いる一基板ホルダー2に登載された基板(図示されてい
ない)に対してはこの状態でスパッタリング処理が行な
われる。
本発明の、トレイ3′のひっかけ搬送に使用するこのト
ラクター300は、逆スパッタ完了後にこれをヒーター
(通常、赤外線ランプがヒーターとして使用される)汚
損防止に利用することができるので、以下これを本願の
第2項の発明とし、第2,3図を用いてその活用方法を
記載する。
第2図は、基板の表面のクリーニングのために、逆スパ
ッタ用陰極9の下に、トレイ3′をトラクター30で搬
送してきた状態を示す。ここて上下駆動機構(矢Ee)
90か働いて、トレイ3゛をトレイ93′の位置己こ持
ち上げて陰極9に預けると、基板搬送装置が働いてトラ
クター300を後退させ、第3図のように、トラクター
300をトレイ93′とヒーター】20間に移動させ、
この状態で逆スパッタを行なう。
このとき使用するトラクター300の央部301を「め
くら4反」で寒いでおくようにすると、トラクター30
0はヒーター12の表面の汚損を防止するのに役立つ。
即ちトラクターは遮蔽板として働くことになる。
逆スパッタ完了後、トレイ3゛を第2図の状態に戻すの
は上述の逆を行なえばよい。
図、bはその側面断面図、Cはその正面断面図。
第5図はその装置全体の概要の正面断面図。
1・・・仕切りバルブ、2・・・基板ホルダー 3′・
・・トレイ、G′・・・チェーン、8・・・ロード室、
9・・・逆スパッタ用陰極、10・・・スパッタ室、3
00・・・トラクター (発明の効果) 本発明は、従来の基板搬送装置の調整の複雑さ、コスト
高、信頼性の低さ、および逆スパッタ時のヒーターの汚
損の問題を解決した有用な基板搬送装置を提供する効果
がある。
特許出願人   日電アネルバ株式会社代理人    
 弁理士  村上 健次
【図面の簡単な説明】
第1図aは本発明の実施例の基板搬送装置の要部拡大平
面図、bとCはともにその側面断面図。 第2.3図は、その装置全体の概要の正面断面図。 第4図aは従来の基板搬送装置の要部拡大平面υ 第2図 第3区

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)仕切りバルブを挟んで互いに隣接するスパッタ室
    とロード室を備えたスパッタ装置の、該仕切りバルブを
    通して、基板を搭載する基板ホルダーを取り付けたトレ
    イの搬送を行なう基板搬送装置において、 該トレイの搬送を、スパッタ室側に設けられられた駆動
    系で駆動されるトラクターを用いて、該トラクターの一
    部を該トレイの一部に係合させて行なわせることを特徴
    とするスパッタ装置の基板搬送装置。
  2. (2)該スパッタ装置が、該スパッタ室内にて基板の逆
    スパッタを行なうための陰極を備える装置であり、且つ
    、該陰極に対向する場所の付近に基板加熱ヒーターを備
    える装置である場合において、該逆スパッタ作業時に該
    トラクターを、逆スパッタされる基板と前記基板加熱ヒ
    ーターの間に移動、配置させることで、前記基板加熱ヒ
    ーターの表面の汚損を防止したことを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載のスパッタ装置の基板搬送装置。
JP21175688A 1988-08-26 1988-08-26 スパッタ装置の基板搬送装置 Granted JPH0261065A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21175688A JPH0261065A (ja) 1988-08-26 1988-08-26 スパッタ装置の基板搬送装置

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JP21175688A JPH0261065A (ja) 1988-08-26 1988-08-26 スパッタ装置の基板搬送装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0261065A true JPH0261065A (ja) 1990-03-01
JPH0579752B2 JPH0579752B2 (ja) 1993-11-04

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JP21175688A Granted JPH0261065A (ja) 1988-08-26 1988-08-26 スパッタ装置の基板搬送装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022176987A (ja) * 2018-02-19 2022-11-30 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 厚膜内の結晶化の開始を停めるためのスパッタエッチングを使用したpvd二酸化チタン形成

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022176987A (ja) * 2018-02-19 2022-11-30 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 厚膜内の結晶化の開始を停めるためのスパッタエッチングを使用したpvd二酸化チタン形成

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JPH0579752B2 (ja) 1993-11-04

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