KR900008252B1

KR900008252B1 - 인-라인 디스크 스퍼터링 시스템에서 물체 이송 장치 및 처리 방법

Info

Publication number: KR900008252B1
Application number: KR1019870700011A
Authority: KR
Inventors: 플린트 알랜; 밀러 켄; 스아 수쉴
Original assignee: 씨게이트 테크놀러지; 안소니 엘. 퍼릭크
Priority date: 1985-05-09
Filing date: 1986-05-08
Publication date: 1990-11-06
Also published as: WO1986006753A1; EP0222877A1; JPS62502846A; KR880700100A; EP0222877A4; CA1261779A

Abstract

내용 없음.

Description

인-라인 디스크 스퍼터링 시스템에서 물체 이송 장치 및 처리 방법

제1도는 본 발명의 양호한 실시예에 따른 인-라인 디스크 스퍼터링 시스템의 전체 투시도.

제2도는 제1도에서 선 2-2을 따라 절취한 디스크 스퍼터링 시스템의 처리실의 단면도.

제3도는 2개의 다른 디스크 크레이들을 포함한 셔틀의 분해도.

제4도는 제1도의 선 4-4를 따라 절취한 제3도의 셔틀의 단면도.

제5도는 제1도의 디스크 스퍼터링 시스템의 입구대를 부분 단면으로 표시한 도면.

제6도는 제5도의 입구대의 부분 단면도.

제7도는 제1도의 디스크 스퍼터링 시스템의 출구대의 부분 단면도.

제8도는 제7도의 출구대의 부분 단면 측면도.

제9도는 제7도의 출구대에서 사용된 셔틀 파지 장치의 측면 상세도.

제10a, 10b 및 10c도는 스퍼터링 시스템의 후면에서 도시한 바와 같이 셔틀 진행 장치의 작동의 3가지단계동안 셔틀의 상대 위치를 도시하는 측면 상세도.

제11도는 디스크 스퍼터링 시스템에 사용된 제어 시스템의 블럭선도.

제12도는 2개의 후면-후면 반도체 웨이퍼를 이송하기 위해 구비된 셔틀의 다른 실시예를 도시한 도면.

제13도는 디스크 희전 장치를 포함하는 디스크 스퍼터링 시스템의 다른 실시예를 도시한 도면.

제14도는 제13도에서 선 14-l4를 따라 절취한 셔틀 및 레일의 부분 단면 상세도.

발명의 배경

발명의 분야

본 발명은 일반적으로 물체 이송 장치에 관한 것으로, 특히 이동-일시정지식(스텝-드웰)이송 장치 및 인-라인 스퍼터링 시스템에서 사용하기 위한 이송 방법에 관한 것이다.

관련 기술의 설명

스퍼터링은 코팅 물질을 대상물에 침착시키는데 이용되는 공정이다. 스퍼터링은 예를들어 반도체상에 금속층을 인가하거나, 광학 코팅을 인가하거나, 크롬 마스크를 코팅하거나, 평면 표시 패널을 코팅하거나 자기 코팅을 메모리 디스크에 인가하는데 이용될 수 있다. 스퍼터링 작업은 물체의 표면에서 물질을 제거하는데도 사용이 된다. 스퍼터링 작업은 통상적으로 감소된 압력으로 아르곤 분위기에서 이루어지며, 상기 작업은 처리실로부터 물체를 인출 또는 장착시키기 위한 다른 장치나 에어로크(air lock)의 사용 및 대기로부터 밀폐된 처리실을 필요로 한다. 고품질의 코팅을 얻기 위해, 처리실로부터 입자 및 다른 오염물을 제거하여야 하는 것이 필수적이다.

종래기술에서, 자기 코팅을 메모리 디스크에 스퍼터링하는데 이용되는 스퍼터링 시스뎀에 일반적으로 다음 2가지가 있다. 그 첫째로 스머터령하는 동안 디스크가 정지 상태로 유지되는 원형 스퍼터링 소스를 이용하는 방법과 둘째는 정지상태의 스트립 소스를 통과하여 디스크를 연속적으로 이동시키는 방법이다.

정지 상태로 디스크를 스퍼터링한다는 개념을 미합중국, 캘리포니아 산타클라라 소재의 베리안 회사에 의해 제조된 디스크 스퍼터링 시스템에서 이용되는 것이다. 베리안의 MDP 1000은 스퍼터링 작업을 위해 여러개의 별도 처리실과 시스템을 통해 디스크를 운반하는 주행 빔 장치를 제공한다. 주행 빔 장치는 각 처리실과 연관된, 페데스탈(pedestal)과 연결되어 작동한다. 주행 빔은 디스크 라인 전체를 집어올려 다음 페데스탈로 향하계 디스크를 한 스테이션 진행시킨다. 상기 진행후 각 페데스탈은 디스크를 공정실로 들어올린다음 처리실을 밀폐시킨다. 처리실 작업이 완료되었을때, 폐데스탈은 하강이 되며, 주행 빔 장치는 디스크를 다음 페데스탈로 이송시킨다. 상기와 같이 복잡한 이송 장치에서 중요한 한가지 단점은 보다 간단한 장치보다 입자들이 더 발생되기 쉽다. 또 다른 결점은 이송 장치의 복잡성 때문에 시스템이 다른 부가적인 처리 스테이션에 적용되도록 확장하는 것이 어렵다. 또한 페데스탈 또는 주행 빔으로부터 떨어진 디스크가 장치에 끼이기 쉽다.

미합중국, 캘리포니아 써니베일에 소재하는 가텍회사에 의해 생산된 스퍼터링 시스템은 정지 상태의 디스크를 스퍼터링하는 개념이 도입되어 있는 것이다. 가텍의 시스텝은 여러가지 처리 스데이션을 포함하는 인-라인 처리실을 통해 연장된 U형 채널이 포함되어 있다. 디스크는 U형 채널에서 활주하는 일련의 받침 캐리어에 의해 처리실을 통해 전달이 된다. 각 캐리어는 U형 채널에 삽입되는 사각 로드(rod)를 포함하고 있으며, 디스크를 유지하고 있는 상방향으로 연장하는 암을 포함하고 있다. 5개의 캐리어는 배치(batch)주행의 개시점에 있는 출입실 내로 로드된다. 입구실이 진공으로 된 다음 캐리어는 처리실로 밀려들어 가며, 상기 개리어는 앞에 있는 다른 캐리어를 다음 처리대로 밀며, 가장 앞에 있는 캐리어를 출구실로 밀어낸다, 캐리어가 정지 상태에 있는 동안, 처리 작업이 수행된다. 5개의 캐리어가 처리실내로 이송된 다음, 2개의 게이트 벨브는 입구실과 출구실로부터 처리실을 차단시키기 위해 폐쇄된다. 출구실과 입구실은 대기와 통하게 되며, 처리된 디스크는 출구실에 있는 캐리어로 부터 인출이 되고, 다른 처리되지 않은 디스크가 캐리어상에 배치되어 입구실내로 들어간다. 배치 모드 작업은 입구실과 출구실에 장착 및 인출에 필요한 시간과, 장착과 인출의 방해에 의해 스퍼터링 작업의 불연속성으로 인해 가텍 시스템의 중요한 결점이 존재한다. 또다른 중요한 결점은 U형 채널이 캐리어에 의해 벗겨지고 처리실을 오염시키며, 캐리어가 채널에 끼이도록 스퍼터된 입자를 모으는 경향이 있다.

미합중국 캘리포니아 소재의 프레몬트 소재의 써킷트 프로세싱 어프레이투스, 독일연방공화국의 레이볼트-헤라에우스, 캘리포니아, 시미벨리 소재의 토르박 회사에 의해 생산된 시스템을 포함하여, 정지 상태의 스퍼터링 소스를 통과하여 연속적으로 디스크를 이송시키는 여러가지 스퍼터링 시스템이 있다. 상기 시스템은 하나 이상의 인-라인 처리 스테이션을 포함하는 처리실을 통해 전달이 되도록 팰릿(pallet)상에 디스크를 수직으로 배치한다. 팰릿이 정지 상태의 스퍼터링 소스를 통해 연속적으로 이동될때 디스크상에 재질이 스퍼터된다. 상기와 같은 몇몇의 스퍼터링 시스템은 배치 모드로 작동을 하며, 각 처리 싸이클을 여러개의 팰릿을 입구 에어로크로 장착하고, 각 팰릿을 처리하며 출구 에어로크에서 처리된 팰릿을 저장하고, 다음 모든 팰릿이 처리된 다음 출구 에어로크를 해제하는 단계로 구성이 된다. 배치 모드에서의 작업은 에어로크가 부가되거나 해제되는 동안의 실제 시간을 포함하고 있기 때문에, 다른 스퍼터링 시스템은 처리실에 또는 처리실로부터 자동적으로 단일 팰릿을 장착 또는 인출하는 에어로크를 통과하는 시간과 시스템의 출구축으로 부터 입구측으로 팰릿을 복귀시키는 팰릿 자동 복귀 시간을 합한 시간이 제공된다. 연속적인 형태의 스퍼터링 시스템에 사용되는 이송 장치는 전형적으로 처리실에서 입자를 발생시키는 경향이 있는 체인 또는 기어 구동 컨베이어를 이용한다 또다른 입자 소스는 전형적으로 안내를 위해 사용되고 팰릿의 상부를 지지하는 상부 안내 룰러가 있다.

이송 장치에 의한 입자 발생은 제외하고도, 연속적인 스퍼터링 시스템은 자성층의 변조와 같은 기본적인 문제가 있다. 스퍼터된 자성층을 가진 메모리 디스크는 동심 트랙에서 디지탈 데이타를 자기적으로 기억하는 디스크 드라이브에서 사용된다. 트랙상에 기록된 데이타 신호의 강도가 변조되는 경우, 즉 디스크가 회전할때 주기적으로 변하는 경우, 데이타 신호의 데이타 내용은 정확히 검출하기가 훨씬 어려워진다. 연속적인 스퍼터링 공정에 의해 인가된 자성층은 층의 두께 변화와 불균일한 자성 입자 때문에 자성층을 스퍼터하기 위해 사용된 스트립 소스가 증착 비율의 감소 또는 증가를 일으키는 길이를 통해 불균일성을 갖는 경우, 증가되거나 감소된 층 두께의 선이 디스크상에서 생길 수 있다. 디스크가 회전할때, 상기 선은 1회전 동안 자기 픽-업을 두번씩 통과하여 자기 신호를 변조시킨다. 또한, 자기 입자 위치는 신호 변조의 원인이 된다. 자성 입자의 반경 방향으로 경사지게 된다. 왜냐하면, 스트립 소스에 의해 스퍼터된 입자는 표면이 스트립 소스에 대해 수직이 되기 전에 디스크의 표면과 먼저 접촉하기 때문이다. 이는 자기 입자를 팰릿의 주행 방향쪽으로 배치시킨다. 상기와 같은 디스크가 회전할때, 자기 입자의 위치는 자기-퍽업에 대해 연속적으로 변하며, 그래서 신호 변조의 요인이 된다.

발명의 요약

예시된 양호한 실시예에 있어서, 본 발명은 인-라인 진공 분위기 처리 시스템에서 사용하기 위한 이동-일시정지식 및 방법을 제공한다. 특히, 본 발명은 각각이 평면 물체상에 처리 작업을 수행할 수 있는 하나이상의 처리대를 통과하는 디스크와 같은 핑면 물체를 단속적(일시정지식)으로 이송하기 위한 이송 장치를 제공한다. 본 발명은 각 처리대를 통과하여 연장된 레일과, 레일상에 열로 배치된 여러개의 받침 셔틀을 포함하며, 각 셔틀은 각 처리대에 인접하게 평면 물체를 위치시켜 레일을 따라 이동될 수 있으며, 각 셔틀은 레일상에 입자가 누적되는 것을 방지하기 위해 레일을 포함하고 있고, 셔틀중의 하나를 전진시켜 레일을 따라 받침 셔틀의 열이 주기적으로 진행하게 하는 수단을 포함한다.

또한 본 발명은 평면 물체상에서 순차적인 작업을 실행하는 방법을 제공하며, 상기 방법은 다음 단계를 포함한다. 처리실내에 하나 이상의 처리대 각각에 인접하게 평면 물체를 순차적으로 배치시킬 수 있는 셔틀상에 처리될 평면 물체를 장착하는 단계와, 처리실을 통해 연장된 받침 셔틀의 첫번째 열에 있는 수단위치에 셔틀을 배치하는 단계와, 받침 셔틀의 제 1열을 다음 처리대로 전진시키고, 처리실로 부터 제1열의 선단 셔틀을 배출시키기 위해 후단 셔틀을 주기적으로 전진시키는 단계와, 첫번째 열의 받침 셔틀이 정지상태에 있는 동안 처리대에 인접하게 배치된 평면 물체상에서 처리 작업을 수행하는 단계와, 처리실로부터 셔틀이 방출된 다음 제2열에 있는 후단 위치를 제1열의 선단 셔틀을 재배치하는 단계와, 상기 셔틀의 후단 셔틀을 전진시켜 제2열을 주기적으로 전진시키는 단계와, 제2열에 있는 셔틀로부터 처리된 평면 물체를 인출하는 단계와, 제1열 및 제2열을 통해 셔틀을 연속적으로 재순환시키는 단계를 포함한다.

본 발명의 양호한 실시예는 2개의 평행 레일을 따라 일렬로 장치된 다수의 셔틀을 이용하는 이송 장치를 포함한다. 각 셔틀은 여러개의 인-라인 처리대 쌍을 포함하는 처리실을 통해 하나 이상의 디스크, 평면 물체를 이송한다. 레일중의 하나 즉, 처리 레일은 처리실을 통해 돌출 셔틀의 제1열을 안내하는 반면, 다른레일은 즉, 복귀 레일은 제 2 열의 돌출 셔틀에 대해 재순환 경로 또는 복귀 경로로 작용한다. 셔틀은 각 레일을 따라 이동하며, 레일을 따른 이동은 열에 있는 후단 셔틀을 밀어 전진시키는 공기 압축 실린더와 연결부에 의해 이루어진다. 전달 장치는 한 레일의 단부로부터 다른 레일의 시작부까지 개개 셔틀을 전달하기 위해 상기 장치의 각 단부에 위치된다. 셔틀은 에어로크를 통해 처리 레일과 인-라인으로 한번에 하나씩 처리실에 제공 또는 처리실로부터 회수된다. 상기 에어로크는 처리 시스템의 작동을 가속화시키기 위해 공기가 유입되거나 진공으로 될 수 있는 기체의 체적을 최소화시킬 수 있도록 설계되어 있다.

작동시에, 고팅이 될 디스크 또는 평면 물체는 복귀 레일의 단부 부근에서 셔틀상에 배치된다. 셔틀의 복귀 열의 전진은 복귀 레일과 일치된 입구 전달 레일상에 하나의 셔틀을 밀어낸다. 다음 입구 전달 레일은 처리 레일과 함께 라인에 있는 셔틀을 측면으로 배치시킨다. 다음, 입구 에어로크에 대한 게이트 밸브는 개방이 되고, 셔틀은 입구 에어로크내로 밀려들어 가며, 입구 전달 레일은 또다른 셔틀을 대기하기 위해 복귀레일과 인-라인 상태로 셔틀을 복귀시킨다. 다음 케이트 벨브는 폐쇄되고, 에어로크는 진공으로 만들기 위해 공기를 배출시킨다. 적당한 진공 상태가 된후, 또다른 게이트 밸브는 에어로크를 처리실에 연결시키기 위해 개방이 된다. 상기 후단 셔틀을 처리실내로 밀어넣으면, 다음 처리대에 대해 셔틀의 길이와 같은 거리로 처리 레일상에 다른 셔틀이 밀려 들어가며, 선단 셔틀을 출구 에어로크내로 방출시킨다. 셔틀이 처리실내에서 정지 상태로 있는 동안, 처리 작업이 수행된다. 각 디스크는 셔틀상에서 수직으로 위치되어, 상기 디스크의 양쪽 표면상에서 스퍼터링 또는 다른 처리 작업이 동시에 수행된다. 그래서 이송 장치의 작동은 이동-일시정지식 작동이며, 각 단계는 셔틀의 처리 순서는 하나의 작업대식 진행이 되며, 각 일시 정지 동작에서는 스퍼터링 또는 다른 처리 작업이 진행되는 동안 셔틀을 정지 상태로 유지한다. 셔틀이 양호한 처리실을 통과할때쯤이면, 연속적인 하부 피복층, 자성층 및 상부 피복층이 디스크의 양표면상에 스퍼터된다. 처리 열의 선단 셔틀이 출구 에어로크내로 밀려 들어간 다음, 제네바 크랭크 장치는 방출된 셔틀을 제거하고 게이트 밸브가 폐쇄되게 하여 처리실로부터 출구 에어로크를 차단시킨다.

다음 출구 에어로크에는 공기가 유입되고 처리 레일과 정렬이 되어 있는 출구 전달 레일로 셔틀이 이동된다. 다음 출구 전달 레일은 측면으로 이동하여 셔틀을 복귀 레일과 인-라인 상태로 배치시킨다. 2개의 전달 레일이 복귀 레일과 일직선이 되었을때, 셔틀은 출구 전달 레일로부터 밀려나와 복귀 레일상에 위치되며, 다음, 처리시롤의 연속적인 장착을 위해 복귀 열의 선단부로부터 선단 셔틀을 밀어서 출구 전달 레일상에 위치되게 한다. 복귀 레일상에 있는 동안, 방금 처리된 디스크는 셔틀로부터 제거가 되고 처리될 또다른 디크가 셔틀에 정착이 된다.

본 발명의 중요한 특징은, 이송 장치의 배치 및 단순성으로 인해 처리실내에서 발생되는 입자의 최소화, 코팅될 정지 디스크 또는 다른 물체 스퍼터하기 위한 원형 스퍼터링 소스의 사용, 처리실을 통한 디스크의 연속적인 방출, 처리 레일과 인 라인 상태로 최소화된 에어로크의 사용 크기카 다른 디스크 또는 다른 평면 물체를 수용할 수 있는 능력, 다른 처리대를 부가하여 처리 작업의 수를 확장할 수 있는 능력, 스퍼터링동안 디스크를 회전시킬 수 있는 능력, 스퍼터링 이외의 처리 작업을 수용할 수 있는 융통성 등을 포함한다.

본 명세서에서 설명된 특징 및 장점뿐만 아니라 본 기술에 숙련된 사람은 도면, 명세서 및 특허청구의 범위에 비추어볼때 그외 여러가지 장점 및 특징을 분명히 알 수 있을 것이다.

양호한 실시예의 상세한 설명

도면의 제1도 내지 제14도는 설명 용도로 본 발명의 여러가지 양호한 실시예를 도시한다. 본 분야의 기술에 숙련된 사람은 다른 실시예의 구조 및 예시된 방법은 본원에 기술된 본 발명의 원리로부터 벗어나지않고 사용하고 있다는 사실을 알 수 있을 것이다.

본 발명의 양호한 실시예는 제1도에 도시된 인-라인 디스크 스퍼터링 시스템(10) 이동-일시정시식 이송 장치 및 방법에 관한 것이다. 스퍼터링 시스템(10)의 4개의 정지 부품, 처리실(12), 입구대(14), 축구대(14), 복귀 레일(18), 스퍼터링 시스템을 통해 주기적으로 순환되는 다수의 이동 셔틀(20)로 구성이된다. 스퍼터링 시스템(10)은 편리한 작업 높이로 지지 구조물(도시하지 않았음)에 의해 지지된다. 셔틀(20)은 입구 전달 및 공급 장치(22)와 출구 전달 및 인출 장치(24)에 의해 이동-일시정시식(스텝-드웰) 이동으로 스퍼터링 시스템(10)을 통해 순환된다. 셔틀(20)은 스퍼티링과 같은 처리 작업이 이루어지는 처리실(12)을 통해 디스크(26) 또는 다른 평면 물체를 운반하며, 처리실로부터 방출된 셔틀로부터 처리된 디스크(28)가 인출되고, 처리되지 않은 디스크(30)가 셔틀상에 장착되어 처리실로 들어가게 하는 복귀 레일(18)을 따라 디스크를 운반한다.

도시된 실시예에서, 처리실(12)은 수평으로 장치된 6개의 처리대(32)를 구비한다. 처리실내의 개스 분위기의 조성 및 압력은 진공 펌프와 개스 후방 충전 장치(도시하지 않았음)에 의해 제어된다. 처리대는 셔틀(20)의 길이만큼 간격을 두고 등거리로 분리되는 것이 바람직하다. 첫번째 2개의 처리대는 이중 스테이션 모듈(34)내에 들어있으며, 반면 마지막 4개의 처리대는 4중 스테이션모듈내에 들어있다. 셔틀(20)은 방향(38)을 따라 처리실(12)의 내부를 통해 이송이 되며 제2도에 도시된 처리 레일(40)에 의해 안내된다. 처리 레일(40)은 처리실(12)의 하부 부분을 통해 수평으로 연장되어 있으며, 지지 구조물(42)에 의해 처리실(12)의 바닥으로부터 지지된다. 처리 레일(40)은 처리실(12)의 길이를 통해 연장된 연속적인 레일이 바람직하다. 한편, 처리 레일(40)은 세그먼트로 분할되어 있으며 세그먼트 사이의 갭은 층분히 짧아서 셔틀이 처리실을 통해 진행할때 갭을 걸쳐질 수 있어야 한다.

각 처리대(32)에서, 2개의 포트(Port)(44)가 처리실(12)의 양 측벽에 있다. 각 포트(44)는 덮개판(46)에 의해 어느 하나가 덮히며, 스퍼터링과 처리 작업을 수행하기 의한 수단을 포함한다. 제2도는 장착판(50)에 설치되어 포트(44)을 통해 내부쪽으로 처리실(12)의 내부로 돌출된 2개의 스퍼터링 소스(48)을 도시한다. 덮개판(46) 또는 장착판(50)은 스퍼터링 소스의 설치 및 제거를 용이하게 하는 클램프(52)에 의해 제위치에 고정이 된다. 스퍼터 차폐부(53)는 인접 처리대의 입자 오염을 감소시키기 위해 스퍼터된 입자를 모우도록 스퍼터링 소스(48)의 상부 및 하부에 있는 처리실(12)내에 설치된다.

이송 장치의 첫째 목적은 이동 및 일시 정지 동작에 있어 처리실(12)을 통해 디스크(26)가 장착된 셔틀(20)을 이송하는 것이다. 제1도에 도시된 입구대(l4)는 복귀 레일(18)로 부터 처리실(12)까지 셔틀(20)을 이송하는 작용을 한다. 제5도 및 6도와 연관하여 보다 상세히 기술되는 입구 전달 및 공급 장치(22)는 복귀 레일(18)로부터의 셔틀(20)로부터 수용하고 처리 레일(40)과 인 라인 위치로 셔틀을 전달하는 입구 전달레일(54)을 포함한다. 셔틀이 처리 레일(40)과 일직선이 되었을때 제 1 게이트 벨브(56)는 개방되고 셔틀 장착 실린더(58)은 셔틀을 입구 에어로크 또는 입구실(60)내로 장착시키도록 작동된다. 다음 제1게이트 밸브(56)은 폐쇄되고 입구 에어로크(60)은 진공 펌프(도시하지 않았음)에 의해 진공으로 된다. 입구 에어로크(60)가 처리실(12)내의 압력과 대응하는 압력으로 진공 상태가 된 다음 제2게이트 밸브(62)은 개방이 되어 입구 에어로크를 처리실에 연결시킨다. 적절한 시간에 입구 에어로크(60)에 있는 셔틀(20)은 처리열 진행실린더(64)의 작동에 의해 처리실(12)내로 밀려들어 간다.

처리실(12)내의 셔틀(20)은 받침 셔틀의 열 또는 트레인을 형성한다. 바꾸어 말하자면 처리 레일(40)상에 위치된 셔틀(20)은 앞뒤가 접촉되어 셔틀중의 후단 셔틀이 처리 레일(40)을 따라(38) 방향으로 밀려갈때 모든 셔틀은 일치되어 이동한다 셔틀(20)을 입구 에어로크(60)내로 장착하는 작용은 처리 열에서 셔틀을 후단 위치내 배치하는 것이다. 후단 셔틀이 입구 에어로크(60)으로부터 전진되어 처리실내로 위치되었을때 후단 셔틀은 셔틀의 길이와 같은 거리로 셔틀의 처리열을 민다. 후단 셔틀을 처리실(12)내로 진행하는 작용은 처리 열에서 셔틀의 각각을 다음 순서의 처리대로 진행시킨다. 이동-일시정지(스텝-드웰) 사이클의 드웰부분 동안 셔틀(20)과 디스크(26)은 정지 상태로 유지되며, 디스크가 정지 상태로 유지되는 동안 스퍼터링 및 다른 처리 작업이 수행된다. 스퍼터링 작업동안 디스크(26) 양측은 스퍼터링 소스(48)로부터 스퍼터 재질의 코팅이 동시에 이루어진다. 셔틀(20)은 포트(44)와 스퍼터링 소스(48)에 동심 상태로 디스크를 배치시킨다. 처리 작업이 완료된 다음 또 다른 셔틀(20)은 입구 에어로크(60)을 통해 처리 열의 후단부로 전달된다. 처리열은 한번에 하나씩 진행되어 셔틀을 다음 순서의 처리대에 재배치시킨다. 셔틀(20)이 처리 열에서 선단 위치에 왔을때 셔틀은 최종 처리대에 배치된다. 상기 처리대에서 처리가 한번 이루어지면 디스크(26)은 모든 처리 작업이 완료된다. 처리 열의 다음 처리에 따라 상기 열의 선단 셔틀은 제3개방 케이트밸브(66)을 통해 처리실(12)로부터 출구 에어로크 또는 출구실(68)내로 방출이 된다. 다음에 설명된 셔틀 전진 장치(176)은 선단 셔틀읕 출구 에어로크내로 완전히 끌어당겨 제3게이트 밸브(66)이 폐쇄될 수 있도록 한다. 셔틀이 한번 출구 에어로크(68)에 배치되면 제3게이트 밸브(66)은 출구 에어로크를 처리실(12)로부터 차단시키도록 폐쇄되고 출구 에어로크는 공기가 유입된다.

다음 제4게이트 밸브(70)이 개방되고 셔틀이 제7도 및 8도와 연관하여 보다 상세히 설명되는 출구 전달 및 인출 장치(24)에 의해 출구 에어로크로부터 인출이 된다. 출구 전달 및 인출 장치(24)은 출구 에어로크(68)로부터 셔틀을 인출하고 셔틀(20)을 복귀 레일(18)과 인 라인 상태인 제1도의 72에 도시된 위치로 전달한다. 적당한 시간에 복귀 열 전진 실린더(74)가 작동되고 복귀 열 전진 실린더(74)의 피스톤에 접속된바(76)는 셔틀을 (78)방향에 있는 복귀 레일(18)상으로 민다. 셔틀의 상기 이동은 셔틀의 전체 복귀 열을 전진시키고 복귀 열에 있는 선단 셔틀을 전체 전말 레일(54)상으로 밀어 처리실내로 연속 장착이 되도록 한다.

그래서 본 이송 장치는 처리실(12)로 통해 디스크의 연속 방출이 가능하게 하는 처리 및 복귀 열을 통해서 틀의 연속적인 재순환을 제공한다. 처리실을 통한 디스크의 연속적인 방출은 처리 작업이 성능의 평형 상태를 유지하게 하여 처리의 고도 지속성이 이루어질 수 있는 이점이 있다.

스퍼터링 시스템(10)의 양호한 실시에 있어서 일련의 5개 스퍼터링 침착이 발생된다. 첫번째 처리대(32)에서 디스크는 제1처리대의 포트(44)를 통해 설치된 방사 가열기(도시하지 않았음)에 의해 방사상으로 가열된다. 제2 및 제3처리대에서 하부 고팅층은 디스크(26)상에 스퍼터된다. 제4처리대에서 자성 재질의 층이 디스크상에서 스퍼터된다. 제5 및 6처리대는 상부 고팅층은 디스크에 인가한다.

나열된 처리 작업이 양호한 것이긴 하지만, 다른 작업 및 다른 순차가 적용될 수 있다. 예를들면, 하나이상의 처리 작업은 스퍼터 에칭으로 구성할 수 있다. 일반적으로 처리 작업은 제어된 분위기에서 평면 물체상에서 실행되는 광범위한 가열, 클리닝, 침착, 제거 작업등을 포함한다. 반도체 웨이퍼, 마스크 및 평면패널 디스플레이와 같은 디스크 이외의 다른 물체가 처리될 수도 있다

처리대의 여러가지 치수 그룹은 스퍼터링 시스템(10)이 크기에 있어 쉽게 확장되거나 줄어를 수 있게 한다. 예를들어 두개의 부수적인 처리대(32)가 필요한 경우, 다른 이중 스테이션 모듈(34)가 설치되어 두 개의 처리대를 처리실에 부가시킬 수 있다. 그래서 처리실이 길어졌을때 복귀 레일(18)도 길어져야 한다. 입구및 출구대(14, 16)는 상기와 같은 변화에 의해 영향을 받지 않는다. 처리 레일(40)과 복귀 레일(18)은 셔틀에 의해 어떤 캡이 걸쳐지는 한 연속적일 필요는 없다. 어떤 경우 처리 레일(40)은 인접 레일 세그먼트 사이에 갭을 남겨두어 세그먼트로 전기적 절연이 되도록 분리시키는 것이 바람직하다. 예를들어 처리대중의 하나에 있는 디스크에 전압을 인가하기 위해 처리 레일의 상기 같은 절연이 필요할 수도 있다.

셔틀(20)은 제3 및 4도에 도시되어 있으며, 처리 레일(40)과 복귀 레일(18)상부에 있는 레일 결합부(80)와, 디스크(26)을 지지하는 디스크 지지부(82)로 구성된다. 레일 결합부(80)은 세개의 스페이서(86)에 의해 분리 결합된 두개의 금속 시트로 구성되는 것이 바람직하다. 핑거부는 셔틀의 각 단부에서 측면(84)의 상부를 지나서 연장된다. 범퍼(90)은 셔틀의 전단부와 후단부로부터 외방으로 연장이 되며 인접하여 위치한 셔틀에 부착된 상기와 같은 다른 범퍼와 접촉한다. 만약 셔틀이 전기적으로 절연되어야 하는 경우 범퍼(90)은 절연 재질로 형성된다. 두개의 슬롯(92, 94)은 셔틀 전진 장치(제7도 및 제10a도 내지 10c도에 도시된)와」속을 위해 셔틀의 한 단부에서 하방으로 개방된다. 슬롯(92, 94)은 대칭을 의해 셔틀(20)의 각 단부에서 반대측면에 포함되어 있다. 금속 측면(84)의 하부 연부 (95)는 셔틀이 레일로부터 벗어나 상부로 상승되는것을 방지하기 위해 레일의 하부를 둘러싸도록 내측으로 굽혀져 있다. 금속 측면(84)사이에는 4개의 롤러(96)가 배치되어 있으며 레일의 상부에서 셔틀을 지지하는 작용을 한다. 레일 접속부는 수직 연장된 슬롯(98)을 포함한다. 레일 접속부(80)의 양 측면(84)은 슬롯(92, 94, 98)을 포함하여 셔틀(20)이 대칭이 되게 하고, 위치에 관계없이 레일상에 장착되게 한다. 제4도에 도시된 바와같이 셔틀(20)의 레일 접속부(80)은 처리 레일(40)을 거의 둘러싼다. 이러한 특징은 스퍼터링 입자가 처리 레일상에 축적되는 것을 방지하여 오염의 잠재 소스를 제거하고 셔틀이 레일상에 끼이는 것을 방지한다. 만약 입자가 처리레일(40)상에 축적되도록 방치한다면 레일을 따라 이동하는 서틀(20)은 입자 일부를 나중에 분산시켜 스퍼터링 처리를 오염시킨다 . 셔틀(20)이 처리 레일(40)을 거의 포함하기 때문에 입자는 레일상이 아니라, 셔틀상에 축적된다.

셔틀(20)의 디스크 지지부(82)는 디스크 또는 다른 평면 물체를 지지하는 크레이들(100)과 셔틀의 레일결합부(80)와 결합시키는 베이스(102)를 포함한다. 베이스(102)는 디스크 지지부를 위치시키는 스페이서(86)와 연동하는 3개의 슬롯(104)을 포함한다. 제4도에 도시된 바와같이 크레이들(100)은 디스크(26)를 지지하는 V형 홈(106)이 주연에 연장되어 있다. 홈(106)의 형태는 열 팽창을 수용하며 디스크의 수축을 수용한다. 홈(106)의 연부 연부는 디스크의 연부상에서 크레이들의 새도우 효과를 최소화시킨다. 크레이들(100)은 디스크(26)의 장착 및 인출을 용이하게 하는 반원보다는 약간 작게 연장된다.

제3도에 도시된 또다른 디스크 지지부(108)는 보다 작은 직경의 디스크를 수용할 수 있는 크레이들(110)을 갖는다. 디스크 지지부(108)는 디스크 지지부를 레일 결합부(80)에 접속시키는 3개의 슬롯(112)을 포함한다. 디스크 지지부(82, 108)는 레일 결합부로부터 쉽게 제거될 수 있으며, 크기가 다른 디스크 및 여러개의 디스크를 처리하는데 융통성을 제공하도록 상호 교환될 수 있다. 디스크 지지부의 제거는 또한 스퍼터된입자를 제거하기 위해 셔틀(20)을 청소하는데 용이하다. 또한 디스크 지지부의 크레이들은 비원형 평면 물체를 수용할 수 있도록 다른 형태로 제조될 수 있다.

처리 레일(40)의 2개 세그먼트(40a, 40b)가 제3도에 도시되어 있다. 만약 셔틀(20)이 인접 셔틀로부터 전기적으로 절연될 필요가 있을 경우, 처리 레일(40)은 세그먼트화되어 셔틀은 례일을 통해 전기적으로 결합된다. 그래서, 레일 세그먼트(40a)상에 배치된 셔틀은 레일 세그먼트(40b)상에 배치된 셔틀로부터 전기적으로 절연된다. 테이퍼된 리드-인(114)이 세그먼트(40b)의 선단 연부에 제공되어 두개 세그먼트 사이에서 셔틀 전달을 용이하게 한다

제5도 및 6도에 도시된 바와같이 입구 전달 및 공급장치(22)는 복귀 레일(18)로부터 처리 레일(40)까지 셔틀(20)을 전달하는 역할을 한다. 특히 입구 전달 및 공급장치(22)는 3가지 기능을 수행한다. 첫째 복귀레일(18)과 정렬이 된 위치로부터 처리 레일(40)과 정렬이 된 위치까지 입구 전달 레일(54)상에서 셔틀(20)을 절단하는 기능과, 둘재 개방된 제1게이트 밸브(56)를 통해 입구 에어로크(60)로 셔틀을 장착하는 기능과, 셋째 셔틀의 처리 열을 전진시키기 위해 개방된 제2게이트 밸브(62)을 통해 처리실로 셔틀을 진행시키는 기능을 한다.

상기 첫번째 기능은 제1도에 도시된 바와같이 복귀레일(18)과 인 라인 상태의 위치로 입구 전달 레일(54)을 주기적으로 연장시키며, 제5도에 도시된 바와같이 셔틀이 입구 전달 레일상이 밀려들어간 다음 처리 레일(40)과 인 라인 상태의 위치로 입구 전달 레일을 후퇴시켜서 이루어진다. 입구 전달 레일(54)은 레일 지지부(120)에 장착이 되며, 베이스판(124)의 상부에 위치에 있는 롤러(122)에 의해 지지된다. 베이스판(124)의 상부에 장착된 입구 전달 실린더(126)는 레일 지지부(120)에 접속이 된다. 그리고 적당한 시간에 입구 전달 레일(54)을 후퇴시킨다. 2개의 안내 레일(128)은 입구 전달 레일(54)의 측방에 인접하여 있으며, 셔틀(20)이 입구 전달 레일상에서 적당한 위치에 유지되게 한다. 이송장치의 모든 실린더는 로드가 없는 공기 압축 실린더이며, 공간을 절약하는 관점에서 종래의 공기 압축 실린더가 바람직하다.

두번째 기능 입구 전달 레일(54)로부터 셔틀(20)을 밀어서 입구 에어로크(60)내에 배치된 입구 에어로크레일(130)상에 올리기 위해 셔틀 로드 실린더(58)을 주기적 작동시켜서 이루어진다. 셔틀 장착 실린더(58)의 피스톤은 돌출부(134)를 포함하는 슬라이드(132)에 접속된다.

제16도에 도시된 바와같이, 셔틀 장착 실린더(58)가 후퇴될때, 돌출부(134)는 셔틀(20)의 후단부를 제거시킨다. 제1게이트 밸브(56)의 게이트(136)가 개방된 후, 셔틀 장착 실린더(58)가 작동되고 슬라이드(132)를 입구 에어로크(60)쪽을 향해 배치시킨다. 돌출부(134)는 셔틀(20)의 후단부와 접촉하며, 입구 에어로크레일(130)상으로 올려놓는다. 제5도에 도시된 바와같이, 셔틀 장착 실린더(58)가 완전히 연장되었을때, 돌출부(134)는 개방된 제1게이트 밸브(56)를 통해 입구 에어로크내로 돌출이 되어 제1게이트 밸브의 게이트(136)에서 셔틀을 분명히 제거하게 한다. 입구 에어로크 레일(130)의 선단 연부는 테이퍼되어 레일 사이에서 셔틀의 전달을 용이하게 한다. 셔틀(20)이 입구 에어로크(60)내에 장착이 된 다음, 셔틀 장착 실린더는 제6도에 도시된 위치로 후퇴된다.

세번깨 기능은 입구 에어로크 레일(130)로부터 밀어내기 처리 레일(40)에 을려두기 위해 처리 열 전진 실린더(64)를 주기적으로 작동시켜 처리 열 전진 장치에 의해 이루어진다. 로드(140)가 접속되어 로드 홀더(142)를 통해 처리 열 전진 실린더의 위치로 이동된다. 로드(140)의 전단부는 압력 밀폐부와 선형 베어링(143)을 통해 입구 에어로크(60)내로 연장된다. 하나의 핀(144)이 로드(140)의 전단부로부터 측면으로 연장되어 있으며, 반면 또다른, 핀(146)은 로드의 후단부로부터 측면으로 연장된다. 홀더(148)와 로터리 실린더(158)은 로드(140)를 1/4 회전시키는 수단을 제공한다. 로터리 실린더는 브래킷(152)에 장착이 되고, 홀더(l48)에 접속이 된다. 홀더는 로드(140)가 후퇴될때, 후단 핀(146)을 수용하는 V형 슬롯을 갖는다. 제6도에 도시된 바와같이, 로드(140) 및 처리 열 전진 실린더(64)가 후퇴될때, 전단 핀(144)은 셔틀(20)을 입구에어로크(60)내로 장착시키기 위해 깨꿋한 제거를 제공하기 위해 하방으로 향한다. 셔틀이 입구 에어로크내로 장착된 후 로터리 실린더(150)는 전단 핀(144)을 셔틀 후방의 위치로 가져가기 위해 1/4 회전에 의해 흘더(148)와 로드(140)을 회전시킨다. 처리 열 전진 실린더 로드(140)를 연장시키기 위해 작동되며 제 2 게이트 밸브(62)의 개방 게이트(156)를 통해 셔틀을 처리 레일(40)로 밀어올리며(제5도에 도시된), 셔틀의 처리열을 처리실(12)내로 전진시킨다. 그 다음 처리 열 전진 실린더(64)는 후퇴가 되며, 핀(146)은 홀더(148)와 결합된다. 다음 로더리 실린더(150)는 로드(140)를 제6도에 도시된 제거 위치로 다시 가져가기 위해 회전시킨다.

처리 열 전진 장치는 처리실 외부에 위치되어 처리실내의 입자 발생이 최소화시키는 장점이 있다. 또한처리 열 전진 장치는 배치(batch) 작업이라기보다는 셔틀을 연속적으로 재순환시키는 것이기 때문에 가텍시스템에 비해 유리하다.

셔틀의 연속적인 재순환은 입구 에어로크(60)를 통과하는 것에 의해 가능하게 된다. 처리 열 전진 장치의 측면 옵셋 배치는 인 라인 게이트 벨브를 갖는 에어로크의 사용을 가능하게 하며, 이는 에어로크의 내부 체적을 최소화시키며, 그래서 에어로크를 작동시키는 시간을 최소화시킨다.

입구 에어로크(60)에서 장착된 셔틀상의 디스크의 존재를 검출하는 광학 디스크 감지기(158)가 제5도에 도시되어 있다. 디스크 검출 감지기(158)은 광원(160)과 입구 에어로크의 반대측에 장치된 검출기(162)를 포함한다. 광원에 의해 방출된 광은 입구 에어로크에 있는 셔틀상에 장치된 디스크(26)가 없을때 2개의 포트(164)를 통해 검출기에 전달이 되고, 그렇지 않은 경우는 광이 차단된다. 다음에서 기술되는 바와같이, 스퍼터링 시스템 제어 시스템은 디스크가 없는 셔틀이 처리실(12)에 들어갔을때 처리 작업의 수행을 선택적으로 금지시킨다.

제7도 및 8도에 도시된 바와 같이 출구 전달 및 인출 장치(24)는 처리 레일(40)로부터 복귀 레일(18)까지 셔틀(20)을 전달하는 역할을 한다. 특히, 출구 전달 및 인출장치(24)는 다음 3가지 기능을 수행한다. 첫째 기능은 처리실(12)로부터 출구 에어로그(68)은 선단 셔틀을 완전히 이동시켜 제3게이트 밸브(66)가 폐쇄되도록 제거되게 하는 기능이다. 두번째 기능은 개방된 제4게이트 밸브(70)를 통해 출구 전달 레일(170)상으로 셔틀을 인출하는 기능이다. 세번째 기능은 처리 레일(40)과 정렬된 위치로 부터 복귀 레일(18)과 일치된 위치로 출구 전달 레일(170)상에 셔틀은 전달하는 기능을 한다.

셔틀(20)이 처리실(12)의 길이를 따라 진행한 다음, 출구 에어로크(68)에 있는 출구 에어로크 레일(172)상에 방출이 된다. 그러나, 셔틀이 처리 열만큼 출구 에어로크 내로 일부만 밀려들어가기 때문에 셔틀은 제3게이트 밸브(66)의 게이트(174)를 페쇄하도록 제거시키는 출구 에어로크내로 후퇴된다. 제7도 및 10도에 도시된 셔틀 전진 장치(176)는 셔틀(20)을 출구 에어로크(68)내로 완전히 이동시키기 위해 셔틀(20)의 레일결합부(80)상에서 슬롯(92, 94)을 결합시키는 제네바 크랭크이다. 셔틀 전신 장치(176)는 처리실(12)외부에 배치된 로터리 모터(178)와, 처리실을 벽을 통해 연장되고 모터에 접속된 축(180)과, 축의 반대쪽 단부에 접속된 크랭크(182)와, 크랭크의 자유단의 지지된 롤러(184)로 구성이 된다. 로터리 모터(178)는 크랭그(182)를 회전시켜 위치시킬 수 있다.

선단 셔틀(20)이 출구 에어로크내로 방출이 되었을때 크랭크(182)는 제10a도에 도시된 바와같이 위치되며 내려오는 셔틀쪽으로 향하게 하여(38)방향으로 이동된다. 제10도는 스퍼터링 시스템이(10)의 후면으로부터 보았을때와 같이 위치 된다. 셔틀 측면(84)의 선연부는 축(180), 그랭크(182) 및 롤러(184)에 대해 깨끗한 제거가 제공된다. 받침 셔틀의 처리 열의 전진은 선단 셔틀을 부분적으로 출구 에어로크(68)내로 방출시키며 상기 셔틀은 롤러(184)의 바로 상부에 위치된 슬롯과 정지 상태로 유지된다. 크랭크 및 롤러는 셔틀이전방으로 너무 이동되는 것을 방지한다. 로터리 모터(1780은 축(180)과 크랭크(182)를 1/2회전시키며 이는 롤러(184)가 슬롯(92)과 결합되게 하며, 셔틀이 제10b도에 도시된 위치로 이동되게 한다. 다음 롤러(184)은 슬릇(92)로부터 분리가 되고 축과 크랭크는 또다시 1/2회전이 계속되고 따라서 롤러는 슬롯(94)과 결합한다. 위치(186)로 축과 크랭크의 1/2 회전은 셔틀이 제10c도에 도시된 위치로 이동되게 하여 제 3 게이트 밸브가 폐쇄되도록 깨끗한 제거를 제공한다. 크랭크(182)는 위치(186)에 유지되고 셔틀(20)을 제자리에 로크시키며, 멈춤쇠(194)가 출구 에어로크(68)에 삽입되어 셔틀의 선단부에 있는 핑커(88) 뒤편에서 래치시킨다. 멈춤쇠 (194)가 셔틀을 파지한 다음 로터리 모터(178)로 크랭크 (182)가 제10c도에 도시된 제거 위치(188)에 정질될 때까지 축(180)을 회전시킨다. 셔틀이 출구 에어로크로부터 인출된 다음 크랭크는 제10a도에 도시된 위치로 회전되어 다음 셔틀을 위한 준비 상태가 된다. 셔틀 전진 장치는 슬롯(92, 94)의 간격의 2배만큼의 거리로 셔틀을 전진시키고 이 거리는 제3게이트 밸브를 클리어시키는 셔틀을 위해 충분한 거리이다.

출구 전달 및 인출 장치(24)의 두번째 기능은 출구 에어로크 레일(172)로부터 출구 전달 레일(172)로 셔틀을 끌어 올리는 셔틀 인출 실린더(190)을 주기적으로 작동하여 이루어진다. 셔틀 인출 실린더(190)의 피스톤은 돌출부(196)의 단부에 위치된 멈춤쇠(194)를 포함하는 슬라이드(192)에 접속된다. 제9도에 도시된 바와같이 멈춤쇠(194)은 돌출부(196)의 단부에 추축 상태로 연결이 되며 상기 멈춤쇠의 정확한 위치는 나사(198)에 의해 조정이 된다. 제4게이트 밸브(70)의 게이트(200)가 개방된 후 셔틀 인출 실린더(190)는 연장이 되고 이는 슬라이드(192)를 출구 에어로크쪽으로 변위시킨다. 셔틀 인출 실린더(192)가 연장되기 때문에 돌출부(196)은 개방된 제4게이트 밸브(70)를 통해 출구 에어로크내로 돌출된다. 멈춤쇠(194)의 연부가 셔틀의 핑거(88)를 때릴때 멈춤쇠는 상방으로 반발한다. 멈춤쇠가 핑거(88)를 한번 제거하면 핑거와 디스크지지부(82)의 단부 사이의 개구내로 선회되어 내려간다. 크랭크(182)가 위치(188)로 회전된 다음, 셔틀 인출 실린더(190)는 후퇴되고 멈춤쇠 (194)는 출구 에어로크로부터 셔틀을 끌어내어 출구 전달 레일(170)상에 올려놓는다. 셔틀이 출구 에어로크(68)로부터 제거된후, 제4게이트 밸브(70)는 처리실로부터 다음 셔틀을 수용하기 의한 준비로 진공 펌프에 의해 진공 상태로 된다.

출구 전달 및 인출 장치의 세번쩨 기능은 셔틀이 출구 전달 레일상으로 끌려온 후 제7도에 도시된 바와같이 처리 레일(40)과 인 라인 상태의 위치로 출구 전달 레일(170)을 주기적으로 후퇴시키고, 제1도에 도시된 바와 같이 복귀 레일(18)을 인 라인 위치로 출구 전달 레일을 연장시켜서 이루어진다. 출구 전달 레일(170)을 연장시키는데 있어서, 셔틀은 멈춤쇠(194)의 파지부 외부의 측방으로 이동된다. 축구 전달 레일(170)은 레일 지지부(202)에 장착이 되고, 다음 베이스판(206)의 상부에 놓여있는 롤러(204)에 의해 지지된다. 베이스판(206)에 장착된 출구 전달 실린더(208)는 레일 지지부(202)에 접속이 되며, 연장이 되고 적당한 시간에 출구 전달 레일(170)을 후퇴시킨다. 2개의 안내 레일은 출구 전달 레일(170)측방에 위치하며, 셔틀(20)이 출구 전달 레일상의 적정 위치에 유지되게 한다.

입구 및 출구 에어로크(60 및 68)는 디스크와 처리를 가속시키기 위해 에어로크에 공기 유입 또는 진공상태로 만들기 위해 필요한 개스의 양이 최소가 될 수 있는 크기로 된다. 제5, 6, 7 및 8도의 크기는 명료성을 위해 확대 도시되어 있다.

이송 장치를 위한 제어 시스템이 제11도에 블럭형태로 도시되어 있다. 컴퓨터로 이루어지는 것이 바람직한 제어기(212)는 이송 장치의 작동을 제어하기 위해 여러가지 실린더에 대해 일련의 제어 신호를 발생한다. 입구 전달실린더(54) 및 출구 전달 실린더(208)는 감지기(214, 216)에 의해 모니터되어 전달 레일이 정확한 위치에 있지 않는 경우 셔틀의 이동이 발생되지 않는다. 이송 장치의 제어 작동에 부가하여 제어기(212)는 스퍼터링 시스템(10)의 전체 작동을 제어하는데 사용될 수 있다.

요약하면, 처리실(12)을 통한 셔틀의 이송 과정은 입구 에어로크(60)와 출구 에어로크(68)가 대기 분위기에 있으며 디스크(26)를 갖는 셔틀(20)이 입구 에어로크 외부에서 대기하고 있는 것으로부터 시작하여 다음 단계를 구비한다.

첫째, 제1게이트 밸브(56) 및 제4게이트 밸브(70)가 개방이 되고, 둘째, 셔틀 장착 실린더(58)가 입구전달 레일(54)로부터 셔틀을 입구 에어로크내로 밀어넣고, 셔틀 인출실린더(190)는 출구 에어로크로부터 셔틀을 출구 전달 레일(170)상에 끌어올린다. 셋째, 제1 및 제4게이트 밸브가 폐쇄되고, 넷째 입구 및 출구 에어로크는 펌프로 공기를 배출시켜지고, 다섯째, 처리 작업은 처리실(12)내로 위치된 디스크상에서 수행이되며, 여섯째, 제2게이트 밸브(62)와 제3게이트 밸브(66)가 개방되고, 일곱째로, 처리 열 실린더(64)는 입구 에어로크로부터 후단 셔틀을 처리실에 밀어넣으면 처리실내의 모든 셔틀이 다음 처리대로 진행되게 하고 선단 셔틀은 출구 에어로크내로 일부가 밀려들어간다. 여덟번째로 로드(140)는 처리 열 전진 실린더에 의해 후퇴가 되고, 로터리 실린더(150)에 의해 1/4회전되며, 셔틀 전진 장치(176)는 선단 셔틀을 출구 에어로크내로 끌어넣는다. 아홉번째, 제2 및 제3게이트 밸브는 폐쇄되고, 열번재 입구 및 출구 에어로크는 공기가 유입되며, 마지막 열한번째 단계는 상기 사이클이 반복되는 것이다.

셔틀의 재순환 공정은 두번째 단계가 완료된 다음 그리고 두번째 다음의 단계가 실행되기 전에 이루어진다. 재순환 공정은 다음 단계를 포함한다. 첫째, 입구 및 출구 전달 실린더를 입구 및 출구 전달 레일이 복귀 레일(18)과 인 라인 상태로 되는 위치로 연장시키는 단계와, 둘째, 복귀 열 전진 실린더(74)는 셔틀을 출구 전달 레일로부터 벗어나게 밀어 복귀 레일에 올리고 복귀 레일상에 있는 모든 셔틀이 전진되게 하며, 선단 셔틀이 입구 전달 레일상으로 밀려 올려가게 되는 단계와, 셋째, 입구 및 출구 전달 실린더를 입구 및 출구 전달 레일이 처리 레일(40)과 라인이 되는 위치로 후퇴하는 단계를 포함한다.

제12도에 도시된 셔틀(220)의 다른 실시예는 처리실(12)을 통해 2개의 등을 맞댄 평면 물체(222)를 운반하도록 구성되어 있어서, 처리 작업은 각 물체의 한쪽면에서만 이루어진다. 예를들어 물체(222)는 금속층을 웨이퍼의 부품측면상에 증착시키는데 사용되는 반도체 웨이퍼일 수도 있다.

제13도 및 14도에 도시된 처리대의 다른 실시예는 자성층이 균일하게 스퍼터되도록 하기 위해 디스크가 디스크 회전장치(232)에 의해 회전되는 동안 디스크(230)의 한 측면에 스퍼터링이 되게 한다. 디스크 회전장치(232)는 디스크를 파지하기 위해 3개의 암을 가진 후퇴 가능한 척(234)과 척과 디스크를 선회시키기 위한 수단(도시하지 않았음)과, 추축 운동을 허용하는 동안 디스크 회전 장치를 밀폐시키기 위한 주름 상자밀폐부(238)와, 디스크를 회전시키기 위한 로터리 모터(240)를 포함한다. 척이 연장되었을때, 암은 디스크의 중심 구멍에 삽입되어 디스크를 파지하기 위해 방사상으로 확장된다. 척과 디스크는 디스크가 크레이들(100)로부터 분리시키고 디스크가 모터에 의해 회전되게 하기 위해 상부로 선회되며, 그동안 스퍼터링이 실행된다. 스퍼터링 작업이 완료된 후 회전은 정지되고 척(234)은 디스크를 다시 크레이들에 배치시키기 위해 하방으로 신호된다. 다음 암(236)과 척(234)은 다음대(스테이션)로 이동되기 위해 셔틀을 제거하도록 후퇴되고, 또다른 디스크 회전 장치는 디스크의 다른 측면을 스퍼터링하는 동안 디스크를 회전시킨다.

디스크 및 셔틀을 디스크 회전 장치와 적당히 정렬시키기 위해, 테이퍼된 핀(242)은 구동 장치(246)에 의해 수직 연장 슬롯(98)을 통해 처리 레일(40)에 있는 결합구멍(244)내로 연장된다. 테이퍼된 펀(242)은 셔틀이 진행되도록 하기 위해 디스크가 재배치된 후 후퇴된다.

상기 설명으로부터, 여기에 설명된 본 발명은 인-라인 스퍼터링 시스템에 사용하기 위한 신규의 이동-일시정지식(스텝-드웰) 이송장치 및 방법을 제공하는 것이 명백하다. 상술된 설명은 단지 본 발명의 실시예와 방법을 예를들어 설명한 것에 지나지 않는다. 본 분야의 기술에 숙련된 사람은 다음 청구범위에 기술된 본 발명의 사상과 범위를 벗어나지 않고도 여러가지 변형이 이루어질 수 있다는 것을 알 수 있을 것이다. 예를들면 처리대는 셔틀의 길이와 동일한 거리 대신에 셔틀 길이의 배수와 동일한 거리로 간격을 두고 배치될 수 있다. 따라서, 본원의 설명은 단지 예시 목적으로 기술되었으며, 다음 청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다.

Claims

처리실(12)을 통해 평면 물체(26)를 단속적으로 이송시키고 상기 평면 물체상에 처리 작업을 수행할수 있는 하나 이상의 처리대(32)를 통과하는 이송 장치에서, 상기 처리실과 처리대는 스퍼터링 또는 다른 유사한 물질침착 작업에 의해 평면 물체상에 물질을 침착하기 위한 작업을 할 수 있으며, 상기 장치는 처리실을 통하여 상기 각 처리대를 통과하여 연장된 제1정지 레일(40)을 구비하며, 여기서 최소한 하나의 처리대는 인접하여 배치된 평면 물체상에 스퍼터링 또는 다른 유사한 물질침착 작업을 실행할 수 있고, 상기 제1레일 상부의 위치로부터 상기 제1레일에만 결합되고, 상기 제1레일을 따라 연장된 제1열의 받침셔틀을 형성하는 다수의 셔틀(20)을 구비하며, 상기 셔틀 각각은 상기 각각의 처리대에 인접한 평면 물체를 순차적으로 배치할 수 있으며, 상기 각 셔틀은 상기 제1레일에 의해서만 처리실을 통해 안내되어지고, 상기 셔틀 각각은 물질침착 작업에 의해 발생된 입자가 상기 제1레일상에 축적되는 것을 방지하기 위해 상기 제1레일을 둘러싸고 있으며, 상기 셔틀중의 후단 셔틀을 전진시켜 상기 제1레일을 따라 상기 제1열의 받침 셔틀을 주기적으로 전진시키는 수단(22)을 구비하는 것을 특징으로 하는 물체 이송 장치.
제1항에 있어서, 상기 제1레일은 거의 장방형 형태를 가지며, 상기 셔틀 각각은 상기 제1레일의 상부와 측면상으로 연장되어 결합시키는 레일 결합부(80)와, 상기 제1레일상에서, 하나이상의 평면 물체를 지지하도록 구비된 물체 지지부(82)를 포함하며, 상기 셔틀의 상기 레일 결합부는 상기 제1레일의 상부와 측면을 덮어서, 물질침작 작업에 의해 발생된 입자가 침착되지 않도록 상기 제1레일을 차폐시키는 것을 특징으로 하는 물체 이송 장치.
제2항에 있어서, 상기 셔틀의 상기 물체 지지부는 상기 레일 결합부로부터 분리가능하고, 물체의 하면부와 결합하며 평면 물체를 지지하는 크레이들(100)를 포함하며, 상기 크레이들은 평면 물체를 상기 크레이들내로 낮추어 상기 셔틀상에 평면 물체를 장착할 수 있게 하고 상기 크레이들로부터 평면 물체를 상승시켜 상기 셔틀로부터 평면 물체를 인출할 수 있게 하는 것을 특징으로 하는 물체 이송 장치.
제2항에 있어서, 상기 셔틀의 상기 레일 결합부는 상기 셔틀을 수직으로 지지하기 위해 상기 제1레일의 상부에 놓여있는 롤러(96)를 포함하며, 상기 셔틀이 상기 제1레일로부터 상향 상승하는 것을 방지하기 위해 상기 제 1레일의 하부 아래에서 내측으로 굴곡된 상기 제1레일의 하단 연부와 상기 제1레일의 측면이 측방으로 이웃하는 측면(84)을 포함하는 것을 특징으로 하는 물체 이송 장치.
제2항에 있어서, 받침 셔틀의 상기 제1열에 있는 인접 셔틀들을 전기적으로 절연시키기 위한 절연수단(90)을 더 구비하며, 상기 제1레일은 인접 셔틀 사이의 전기 전위차의 발생을 허용하도록 전기적으로 절연된 세그먼트로 분할이 되어 있는 것을 특징으로 하는 물체 이송 장치.
제1항에 있어서, 상기 제1열의 받침 셔틀을 주기적으로 전진시키는 상기 수단은 상기 셔틀중의 후단 셔틀을 전진시키는 변위수단(22, 64)을 포함하며, 상기 셔틀이 정지 상태일때 처리작업을 활성화시키고 처리 작업이 완료된 다음 상기 변위수단을 활성화시키는 제어 수단(212)을 포함하는 것을 특징으로 하는 물체 이송 장치.
제6항에 있어서, 상기 제어 수단 상기 셔틀에 의해 운반되는 평면 물체의 존재를 검출하기 위한 감지 수단(158)을 포함하며, 처리대에 인접한 셔틀이 평면 물체를 운반하고 있지 않을때 처리 작업의 실행을 금지시키는 수단(212)을 포함하는 것을 특징으로 하는 물체 이송 장치.
제1항에 있어서, 상기 제1레일의 출구 단부로부터 상기 제1레일의 입구 단부까지 상기 셔틀을 재순환시키는 수단을 더 구비하며, 여기서, 상기 재순환 수단은 제2열의 돌출 셔틀을 운반하는 제2레일(18)과, 상기 제1레일로부터 상기 제2레일로 처리된 평면 물체를 운반하는 셔틀을 전달하기 위해 상기 제1레일의 상기 출구 단부와 제2레일의 입구 단부 사이에 접속된 출구대(16, 24)와 상기 제2레일로부터 상기제1레일로 예비 처리된 평면 물체를 운반하는 셔틀을 전달하기 위해 상기 제2레일의 출구 단부와 상기 제1레일의 입구 단부 사이에 접속된 입구대(14, 22)와, 상기 제2레일을 따라 상기 제2열의 받침 셔틀을 주기적으로 진행시키는 수단(74, 76)을 포함하고, 상기 제2레일은 상기 셔틀로부터 처리된 평면 물체를 인출시키고 상기 예비 처리된 평면 물체를 상기 셔틀상에 장착시키는 영역을 한정하는 것을 특징으로 하는 물체 이송 장치.
평면 물체(26)상에 스퍼터링하거나 또는 다른 유사한 물질침착 작업을 포함하는 일련의 처리 작업을 실행하기 위한 장치에 있어서, 인접하여 배치된 평면 물체상에 처리 작업을 각각 실행할 수 있는 처리대(32)를 갖는 처리실(12)을 구비하며, 상기 처리대중의 최소한 하나는 인접하여 배치된 평면을 물체상에 스퍼터링 또는 다른 유사한 물질침착 작업을 실행할 수 있으며; 상기 처리실을 통해 각각의 상기 처리대를 통과하여 연장된 제1정지 레일(40)을 구비하며; 상부로부터 상기 제1레일에만 결합되고, 상기 처리실을통해 연장된 제1열의 받침 셔틀을 형성하는 다수의 셔틀(20)을 구비하며, 상기 각 셔틀은 상기 처리실을 통해 평면 물체릍 운반하고 각 처리대에 대해 평면 물체를 순차적으로 배치시키도록 작동될 수 있으며, 상기 셔틀은 상기 제1레일에 의해서만 안내되고, 상기 각 셔틀은 상기 물질침착 작업에 의해 발생된 입자가 제1레일상에 누적되는 것을 방지하기 위해 상기 제1레일을 둘러싸고 있으며, 상기 처리대는 상기 셔틀의 길이의 정수배와 같은 거리만큼 공간을 두고 있으며; 상기 처리대의 각각에 인접한 셔틀을 제위치시키기 위해 상기 셔틀중의 후단 셔틀을 상기 셔틀의 길이와 같은 거리만큼 전진시켜 상기 제1열의 받침 셔틀을 주기적으로 전진시키기 위한 변의 수단(22)과; 상기 셔틀이 정지 상태에 있을때 상기 처리 작업을 실행하고 상기 처리 작업이 완료되었을때 상기 변위 수단을 활성화시키는 제어 수단(212)을 구비하는 것을 특징으로 하는 처리 작업 실행 장치.
제9항에 있어서, 상기 처리실의 내부는 외부 대기로부터 밀폐되고, 상기 장치는 예비 처리된 평면물체를 운반하는 셔틀이 상기 처리실로 들어가는 입구 에어로크(60)의 처리된 평면 물체를 운반하는 셔틀이상기 처리실로부터 나오는 출구 에어로크(68)를 구비하며, 상기 셔틀은 상기 제1레일과 인 라인 상태의 방향으로 상기 에어로크로 들어가거나 나오는 것을 특징으로 하는 처리 작업 실행 장치.
제10항에 있어서, 상기 입구 에어로크는 개방되었을때 셔틀이 상기 제1레일과 인 라인 상태로 상기입구 에어로크로 들어가게 하며 폐쇄되었을때 상기 입구 에어로크가 외부 대기로부터 밀페되게하는 제1게이트 밸브(56)를 포함하며, 또한 개방시에 셔틀이 제1레일과 인 라인 상태로 상기 입구 에어로크로부터 방출되어 처리실로 들어가게 하고 폐쇄되었을때 상기 입구 에어로크를 상기 처리실로부터 밀폐시키는 제2게이트 브(62)를 포함하며, 상기 장치는 상기 제 1 게이트 밸브가 개방되고 상기 제 2 게이트 밸브가 폐쇄되었을때, 상기 제1레일과 인 라인 상태로 상기 셔틀을 상기 입구 에어로크내로 전달하는 수단(50)을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 처리 작업 실행 장치.
제11항에 있어서, 상기 입구 에어로크는 상기 제1레일과 인 라인 상태로 배치된 상기 제1 및 제2게이트 밸브 사이의 입구 레일(130)을 포함하며, 상기 셔틀을 상기 입구 에어로크내로 전달하는 수단은 상기 셔틀중의 하나를 상기 제1게이트 밸브를 지나 상기 입구 레일상으로 전진시키는 수단(132, 134)을 포함하는 것을 특징으로 하느 처리 작업 실행 장치.
제12항에 있어서, 상기 변위 수단은 상기 제1게이트 밸브가 폐쇄되고 상기 제2게이트 밸브가 개방되었을때, 상기 입구 레일로부터 상기 제1레일까지 셔틀을 전진시켜 상기 받침 셔틀의 상기 제1열을 주기적으로 전진시키도록 작동하는 것을 특징으로 하는 처리 작업 실행 장치.
제13항에 있어서, 상기 변위 수단은 상기 입구 에어로크내로 연장되고 상기 입구 에어로크 외부에 배치된 작동 수단(64, 146, 148, 150)에 접속되어 있는 로드(140, 144)를 포함하고, 상기 작동수단은 상기 셔틀이 상기 입구 에어로크내로 장착되도록 제거 위치에 상기 로드를 위치시키고, 상기 로드를 상기 셔틀에 접속시키는 위치로 상기 로드를 회전시키며, 상기 셔틀이 상기 처리실내로 전진하도록 상기 로드를 연장시키며, 상기 로드를 상기 제거위치로 후퇴시키도록 작동하는 것을 특징으로 하는 처리 작업 실행 장치.
제10항에 있어서, 상기 출구 에어로크는 개방이 되었을때 셔틀이 제1레일과 인 라인 상태로 처리실로부터 상기 출구 에어로크로 들어가도록 하며 폐쇄 상태일때 상기 입구 에어로크가 상기 처리실로부터 밀폐되게 하는 제3게이트 밸브(66)를 포함하며, 또한 개방상태일때, 셔틀이 상기 제1레일과 인 라인 상태로 상기 출구 에어로크로부터 배출되게 하며, 폐쇄 상태일때, 상기 출구 에어로크를 외부 대기로부터 밀폐시키는 제4게이트 밸브(70)를 포함하며, 상기 장치는 상기 제3게이트 밸브가 폐쇄되고 상기 제4게이트 밸브가 개방되었을때 상기 출구 에어로크로부터 상기 셔틀을 제거하는 수단(24)을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 처리 작업 실행 장치.
제15항에 있어서, 상기 출구 에어로크는 상기 제3 및 제 4 게이트 밸브 사이에 배치되고 상기 제1레일과 정렬이 된 출구레일(172)을 포함하며, 상기 받침 셔틀 열의 선단 셔틀은 상기 제3게이트 밸브가 개방되고 제4게이트 밸브가 폐쇄되었을때 상기 제1열의 받침 셔틀을 전진시켜 상기 변위수단의 작용에 의해 상기 출구 레일에 전달이 되며, 상기 장치는 상기 제3게이트 밸브의 폐쇄를 위한 제거를 제공하기 위해 상기 선단 셔틀을 상기 출구 에어로크내로 전진시키는 수단(176, 178, 180, 182, 184)을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 처리 작업 실행 장치.
제16항에 있어서, 상기 선단 셔틀을 상기 출구 에어로크내로 전진시키는 수단은 상기 셔틀에서 하나 이상의 슬롯(92, 94)과 결합하는 제네바 크랭크 장치(176, 178 ,180, 182, 184)를 포함하는 것을 특징으로 하는처리 작업 실행 장치.
상기 출구 에어로크의 출구 단부로부터 상기 입구 에어로크의 입구 단부까지 상기 셔틀을 재순환시키는 수단을 구비하는 제12항의 장치에 있어서, 상기 수단은, 제2열의 받침 셔틀을 운반하는 제2레일(18)과, 상기 출구 에어로크에서 상기 제2레일로 처리된 평면 물체를 운반하는 셔틀을 전달하기 위해 상기 출구 에어로크의 출구 단부와 상기 제2레일의 입구 단부 사이에 배치된 출구대(16, 24)와, 상기 제2레일에서 상기 입구 에어로크로 예비 처리된 평면 물체를 전달하기 위해 상기 입구 에어로크의 입구 단부와 상기 제2래일의 출구 단부 사이에 배치된 입구대(14, 22)와, 상기 제2레일을 따라 받침 셔틀의 제2열을 주기적으로 전진시키는 수단(74, 76)을 포함하며, 상기 제2레일은 상기 처리실로부터 나오는 상기 셔틀에서 처리된 평면 물체를 인출하고 상기 처리실로 진행되는 상기 셔틀에 예비 처리된 평면 물체를 장착하는 영역을 한정하는 것을 특징으로 하는 처리 작업 실행 장치.
제10항에 있어서, 상기 제1레일은 거의 장방형 형태를 가지며, 여기서, 상기 셔틀 각각은 상기 제1레일의 상부와 측면상으로 연장되어 결합시키는 레일 결합부(80)와, 상기 제1레일상에서, 하나 이상의 평면 물체를 지지하도록 구비된 물체 지지부(82)를 포함하며, 상기 셔틀의 상기 레일 결합부는 상기 제1레일의 상부와 측면을 덮어서, 물질침착 작업에 의해 발생된 입자가 침착되지 않도록 상기 제1레일을 차폐시키는 것을 특징으로 하는 처리 작업 실행 장치.
제19항에 있어서, 상기 셔틀의 상기 물체 지지부는 상기 레일 결합부로부터 분리 가능하며, 물체의 하단 연부와 결합하여 평면 물체를 지지하는 크레이들(100)을 포함하며, 상기 크레이들은 평면 물체를 크레이들내로 하강시켜서 상기 셔틀에 평면 물체를 장착하게 하고, 상기 평면 물체를 상기 크레이들로부터 상승시켜, 상기 셔틀로부터 평면 물체를 인출하게 하는 것을 특징으로 하는 처리 작업 실행 장치.
제10항에 있어서, 상기 제1열의 받침 셔틀에 있는 인접 셔틀들을 전기적으로 절연시키는 절연수단(90)을 더 구비하여, 상기 제1레일은 전기적으로 절연된 세그먼트로 분할되어 인접 셔틀 사이에는 전기적 전위가 허용되는 것을 특징으로 하는 처리 작업 실행 장치.
제9항에 있어서, 상기 제어 수단은 셔틀에 의해 운반된 평면 물체의 존재를 검출하는 감지기 수단(158)을 포함하며, 처리대에 인접한 셔틀이 평면 물체를 운반하고 있지 않을때 처리 작업의 실행을 금지시키는 수단(212)을 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 작업 실행 장치.
스퍼터링 또는 다른 유사한 물질침착 작업을 포함하여 디스크형 물체(26)상의 일련의 처리 작업을 실행하는 장치에 있어서, 각각이 인접하여 배치된 디스크형 물체에 처리 작업을 수행할 수 있는 처리대(32)를 가진 처리실(12)을 구비하며, 여기서 적어도 하나의 상기 처리대는 인접하여 배치된 디스크형 물체에 스퍼터링 또는 다른 유사한 물질침착 작업을 실행할 수 있으며, 상기 처리실을 통하고 상기 각 처리대를 통과하여 연장된 제1정지 레일(40)과; 상기 제1정지 레일의 상부에만 결합되고 상기 처리실을 통해 연장된 제1열의 받침 셔틀을 형성하는 다수의 셔틀(20)을 구비하고, 상기 각 셔틀은 디스크형 물체의 하나를 운반할수 있도록 구비된 크레이들(100)을 가지며, 상기 각 셔틀은 상기 처리실을 통해 디스크형 물체를 운반하며 상기 각 처리대에 대해 디스크형 물체를 순차적으로 위치시키도록 작동하며, 상기 셔틀은 상기 제1레일에 의해서만 안내되어지고, 상기 각 셔틀은 물질침착 작업에 의해 발생된 입자가 상기 제1레일상에 축적되는것을 방지하기 위해 상기 제1레일을 거의 둘러싸고 있으며, 여기서 상기 각 셔틀은 상기 셔틀을 수직으로 지지하도록 상기 제1레일의 상부에 놓여있도록 롤러(96)를 포함하고, 상기 셔틀이 상승되는 것을 방지하기 위해 상기 제1레일의 하부 아래에서 내측으로 굴곡된 하단 연부를 갖는 상기 제1레일의 측면과 측방으로 이웃하는 면(84)을 포함하며, 상기 처리대는 상기 셔틀 길이의 정수배와 같은 거리만큼 분리된 공간을 가지며; 처리될 디스크형 물체를 운반하는 셔틀이 상기 제1레일과 인 라인 상태로 상기 처리실에 들어가게 되는 상기 처리실에 결합된 입구실(60)과; 상기 입구실내에 배치된 입구 레일(130)상으로 셔틀을 전달하는 상기 제1레일과 정열이 된 수단(132, 134)과; 처리된 디스크형 물체를 운반하는 셔틀이 상기 제 1 라인과 인 라인 상태로 나오는 처리실에 결합된 출구실(68)을 구비하며, 상기 출구실은 내부에 배치되어 상기 제1레일과 정렬이 된 출구 레일(172)을 포함하며; 상기 처리대의 각각에 인접한 셔틀을 재배치시키고 상기 처리실로부더 상기 셔틀중의 선단 셔틀을 상기 출구실내로 방출시키기 위해 상기 셔틀중의 후단 셔틀을 전진시켜 상기 셔틀의 길이와 같은 거리만큼 받침 셔틀의 제1열을 주기적으로 전진시키는 변위 수단(22)과; 상기 셔틀을 상기 제1레일과 인 라인 방향으로 상기 출구실로부터 제거하는 수단(24)과; 상기 제2열의 받침 셔틀을 운반하는 제2레일(18)을 포함하며, 상기 제2레일은 상기 처리실로부터 나오는 셔틀로부터 처리된 디스크형 물체를 인출하고 처리될 디스크형 물체를 상기 처리실내로 진행하는 상기 셔틀상으로 장착시키는 영역을 규정하며; 상기 출구실의 출구 단부와 상기 제2레일의 입구 단부 사이에 접속되어 상기 출구로부터의 디스크형 물체를 상기 제2레일로 운반하는 셔틀을 전달하는 출구대(16, 24)와; 상기 제2레일의 출구 단부와 상기 입구실의 입구 단부 사이에 배치되어 상기 제2레일로부터 상기 입구실로 처리될 디스크형 물체를 운반하는 셔틀을 전달하는 입구대(14, 22)와, 제2레일을 따라 제2열의 받침 셔틀을 주기적으로 전진시키는 수단(74, 76)과; 상기 셔틀이 정지 상태에 있을때 처리 작업을 활성화시키고 상기 처리 작업이 완료된 다음에는 상기 변위 수단을 활성화시키는 제어 수단(212)을 구비하는 것을 특징으로 하는 처리작업 실행 장치.
평면 물체(26)상에 물질을 침착시킬 수 있는 처리 장치에서, 상기 처리 장치는 출구 단부와 입구 단부를 갖는 선형으로 배치된 처리실(12)로 포함하며, 처리실의 입구 및 출구 단부에 배치된 에어로크 수단(60, 68)을 포함하고, 처리실을 통해 이송되는 평면 물체상에 여러가지 처리 작업을 실행할 수 있는 하나 이상의 처리대(32)를 포함하고, 여기서 최소한 하나의 처리대는 스퍼터링 또는 다른 유사한 물질 침착 작업을 실행할 수 있으며, 처리실을 통해 평면 물체를 이송하는 이송 수단을 포함하며, 상기 처리 장치는 이송 장치를 구비하고, 상기 이송 장치는 : 평면 물체를 이동시킬 수 있는 다수의 셔틀(20)과; 출구 및 입구 단부사이의 처리실을 통해 선형으로 연장된 정지 안내 레일(40)을 구비하며, 여기서 상기 셔틀은 상기 안내 레일상에 배치되며 상기 레일에 의해서만 안내되고 지지되며, 상기 셔틀은 상기 안내 레일을 따라 연장된 받침 셔틀의 열을 형성하며, 상기 셔틀 각각은, 스퍼터링 또는 다른 유사한 물질침착 작업에 의해 발생된 입자가 상기 안내 레일상에 누적되는 것을 방지하기 의해 상기 안내 레일을 둘러싸고 있으며; 상기 셔틀중의 후단 셔틀을 전진시켜 상기 안내 레일을 따라 받침 셔틀 열을 주기적으로 전진시키는 수단(22)을 구비하는것을 특징으로 하는 처리 장치.