JPS6329713B2 - - Google Patents

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JPS6329713B2
JPS6329713B2 JP14201080A JP14201080A JPS6329713B2 JP S6329713 B2 JPS6329713 B2 JP S6329713B2 JP 14201080 A JP14201080 A JP 14201080A JP 14201080 A JP14201080 A JP 14201080A JP S6329713 B2 JPS6329713 B2 JP S6329713B2
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JP
Japan
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group
general formula
carbon atoms
film
emulsion
Prior art date
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Application number
JP14201080A
Other languages
English (en)
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JPS5767664A (en
Inventor
Kaoru Komya
Kazumi Aoki
Shinichi Nagai
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Adeka Corp
Original Assignee
Asahi Denka Kogyo KK
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Publication date
Application filed by Asahi Denka Kogyo KK filed Critical Asahi Denka Kogyo KK
Priority to JP14201080A priority Critical patent/JPS5767664A/ja
Publication of JPS5767664A publication Critical patent/JPS5767664A/ja
Publication of JPS6329713B2 publication Critical patent/JPS6329713B2/ja
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  • Paints Or Removers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はビニル系モノマーを重合して得られる
ビニル重合体の水系エマルジヨン(以下エマルジ
ヨンと略称する)用の造膜助剤組成物に関するも
のである。 エマルジヨンは、媒体が水であるため引火性、
毒性の点で安全であることから、接着剤、塗料な
ど広範囲に使用される。一般にエマルジヨンが乾
燥して連続的な皮膜を形成する最低温度を最低造
膜温度という。最低造膜温度はポリマーの種類、
組成によつて異なるが、一般的に使用されるもの
のそれは5〜30℃である。このため、特に冬期に
エマルジヨンを使用する場合、最低造膜温度以下
の温度で乾燥するため透明な連続皮膜を形成せず
白化し、皮膜は脆弱で充分な接着力を得られない
という欠点を有する。 この様な欠点を防ぎエマルジヨンの造膜性を良
くするために、可塑剤や、高沸点溶剤を造膜助剤
として添加するのが一般的である。可塑剤として
は、ジブチルフタレート、ジメチルフタレート、
トリクレジルホスフエートなど、また高沸点溶剤
としては、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトー
ルなどを添加するのが一般的である。特に、ジブ
チルフタレートは価格も安く、可塑化したエマル
ジヨンの安定性も良好なため一般的に用いられて
いるが、造膜性能は余りすぐれておらず3℃以下
の低温で造膜するエマルジヨンを得るためには多
量に使用しなければならず、形成した膜は過度に
可塑化され、膜の耐熱性が低下し、荷重下に容易
にクリープする欠点がある。 また、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール
などの高沸点溶剤は、特有の臭気があり、また形
成した膜の耐水性を低下させるという欠点を有し
ており、造膜性についてはジブチルフタレートよ
りはすぐれているものの充分な性能を有している
とはいえない。 特公昭46―35493号及び、特公昭46―28653号公
報には、フエノール類、グリコールモノフエニル
エーテル類、フエニルアルコール類、フエニルカ
ルボン酸オキシエステル類、オキシカルボン酸フ
エニルエステル類等が酢ビ系エマルジヨンの造膜
性改良剤として記載されている。これら化合物は
すぐれた造膜性は有しているものの、造膜剤の添
加により塗膜の乾燥を遅くさせ、接着工程の合理
化への阻害を起し、また、塗料においてはタツク
の長期にわたる残存によるホコリ等での汚染障害
が発生する欠点を有している。またエマルジヨン
との混合安定性が充分でなく、使用時にスプレー
ガンへの目詰りを生じさせ、接着力を低下させる
等の欠点をも有している。 近年エマルジヨンの多方面への用途拡大が盛ん
であり、その使用還境、所要物性等が非常に厳し
くなつており、これら欠点を解決した、すぐれた
低温造膜剤が待望されていた。 本発明者らはこれらの欠点を解決した造膜剤、
特に充分な低温造膜性を有し、かつ乾燥性にすぐ
れ、工程の合理化に寄与しうる低温造膜剤を得る
ため、鋭意検討を行なつた結果、本発明を完成す
るに至つた。すなわち、本発明はビニル重合体水
系エマルジヨン用造膜剤組成物であつて、 一般式: (式中R1,R2は水素原子または炭素数1〜6
のアルキル基で、互いに同一であつても異なつて
いてもよく、R1,R2の少くとも1つはアルキル
基である。R3は炭素数2〜6のアルキレン基ま
たはフエニル置換エチレン基で、nは平均の付加
モル数を示し1〜10の数である) で示される化合物の1種または2種以上であつ
て、下記の(イ)〜(ハ)の要件を満足するものを必須成
分として含有することを特徴とする。 (イ) 一般式(1)においてR1が水素原子、R2がメチ
ル基またはエチル基であり、R2の核置換位置
がメタ―位である化合物と一般式(1)によつて
R1が水素原子、R2がメチル基またはエチル基
であり、R2の核置換位置がパラ―位である化
合物との、100:0〜30:70(重量基準、以下同
じ)特に80:20〜50:50の割合からなるもの。 (ロ) 一般式(1)においてR1,R2がメチル基または
エチル基であり、R1,R2の核置換位置が2,
5―位および2,6―位である化合物と一般式
(1)においてR1,R2がメチル基またはエチル基
であり、R1,R2の核置換位置が2,5―位ま
たは2,6―位以外である化合物との、0:
100〜20:80の割合からなるもの。 (ハ) R1,R2のいずれかが炭素数3〜6のアルキ
ル基であり、他のもう1つが水素原子または炭
素数1〜3のアルキル基であり、R1とR2の炭
素数の合計が3〜6である化合物からなるも
の。 本発明における上記限定は非常に重要であり、
例えば上記の一般式(1)においてR1が水素原子、
R2がメチル基またはエチル基である場合R2の核
置換位置がオルト―位である化合物はエマルジヨ
ンの乾燥速度を遅くし、またパラ―位にメチル基
およびエチル基が置換された化合物はオルト―位
置換の化合物よりは乾燥性が良好であるがなお不
充分であり、メタ―位置換の化合物が最も乾燥性
にすぐれていて、しかもパラ―位置換の化合物は
メタ―位置換の化合物との一定割合の混合物にす
れば乾燥性においてメタ―位置換の化合物と同等
またはそれ以上の効果を発揮する。また一般式(1)
においてR1,R2がメチル基またはエチル基であ
る場合、R1,R2の核置換位置が2,5―位また
は2,6―位である化合物がそれ以外の核置換位
置の化合物より乾燥性が著しく劣るが、前者と後
者の0:100〜20:80の割合からなるものはすぐ
れた乾燥性を発揮し、さらに一般式(1)において
R1,R2のいずれかが炭素数3〜6のアルキル基
である場合は他の1つが水素原子または炭素数1
〜3のアルキル基であつてR1,R2の炭素数の合
計が3〜6でないと充分な低温造膜性が得られな
い。さらにアルキレンオキサイドの付加モル数が
10を越えるとアルキレンオキサイドがエチレンオ
キサイドの場合、乾燥性が遅くなり、その他のア
ルキレンオキサイドの場合、低温造膜性エマルジ
ヨンへの混和性が劣り、アルキレンオキサイドが
付加していない化合物はエマルジヨン混和時エマ
ルジヨンのゲル化がおこり使用できない。 本発明の造膜剤組成物に使用される化合物は 一般式:
【式】 (式中、R1,R2は上記の一般式(1)と同じ) で示されるフエノール化合物の1種または2種以
上の混合物と炭素数2〜6のアルキレンオキサイ
ド、例えばエチレンオキサイド、プロピレンオキ
サイド、ブチレンオキサイド、ヘキシレンオキサ
イドまたはスチレンオキサイドなどの1種または
2種以上の混合物とを常法により反応させること
によつて製造することができる。 本発明の造膜剤組成物はその必須成分として使
用しうる化合物を互いに混合した形で含有してい
てもよく、本発明の目的、効果がそこなわれない
ように従来公知の造膜剤として使用される化合物
とを混合した形で含有していてもよい。 本発明の対象となるエマルジヨンは、酢酸ビニ
ル系エマルジヨン(酢酸ビニルの単独重合エマル
ジヨンならびに、エチレン、アクリル酸エステ
ル、脂肪酸ビニルエステルなどとの共重合エマル
ジヨンなど)、アクリル系エマルジヨン(アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステルの単独重合
ならびに共重合エマルジヨン、更に酢酸ビニル、
スチレン、アクリロニトリル、アクリロアミド、
アクリル酸などとの共重合エマルジヨンなど)そ
の他ビニル系モノマーの単独重合または共重合エ
マルジヨンである。 参考例 酢酸ビニルエマルジヨンの合成例 (反応処方)(重量部) 酢酸ビニルモノマー 82 水 100 プルロニツク―F68 2.5 プルロニツク―L61 1.5 PVA(1) 2.0 ピロリン酸カリウム 0.5 EDTA(4Na)(2) 0.28 過硫酸アンモン 0.075 註:(1) ポリビニルアルコール (2) エチレンジアミンテトラ酢酸ナトリウム (反応) コンデンサー、温度計、撹拌棒、滴下フラスコ
を備えた14ツ口フラスコ中に酢酸ビニル、
F68,L61,PVA以外の組成物を秤量し、窒素雰
囲気下にて撹拌、加熱を開始する。滴下フラスコ
中に別に酢酸ビニルモノマー中にF68,L61,
PVAを可溶化させておき、65〜75℃にて徐々に
添加、反応を開始する。添加は3時間を要して行
ない、この時温度は65〜75℃に保持する。全モノ
マー液を添加した後、90℃に昇温30分保持し反応
を完結させる。固型分濃度46〜47%、粘度2400セ
ンチポイズ(CP)、残存モノマー0.3%のエマル
ジヨンが得られ、実施例1のエマルジヨンとして
供試した。同エマルジヨンの最低造膜温度は約15
℃である。 実施例 1 参考例で得られた酢酸ビニルエマルジヨン100
重量部に対して本発明による化合物2.5重量部を
添加し、混和性を観察しながら、充分に撹拌し、
24時間以上放置し、JISK―6804に基き最低造膜
温度、接着力を測定した。乾燥性についてはガラ
ス板上に試験エマルジヨンをアプリケータにて
0.25mm(10ミル)厚に塗布し、25℃及び2℃恒温
槽中に放置し、経時による塗膜表面のベタツキ程
度を試験した。塗膜表面のベタツキ程度の評価法
としては塗膜表面を指にて軽く押し、下記の5段
階: 〓 全体にベタツキ多く明らかに未乾燥 × 指先がガラス板に付着し、1cm程度持ち上
る △ 指先がガラス板に付着し、わずかに持ち上
る 〇 指先にややベトツキが感じられるがガラス
板は持ち上らない ◎ 完全乾燥し、指先に全然付着しない で評価し、結果を表―1に示した。
【表】
【表】 実施例 2 市販のポリアクリル酸エステルエマルジヨン
「ブイマルAC―61」(日本アクリル化学製、純分
46%、最低造膜温度18℃)100重量部に対して、
本発明の化合物3重量部を添加し実施例1と同様
に混和性、最低造膜温度について試験した。また
完全に乾燥(実施例1の◎に相当)するまでの時
間を測定し、その結果を表―2に示した。
【表】
【表】 実施例 3 市販のスチレン―アクリル酸エステル共重合樹
脂エマルジヨン「モビニールDM―60」(ヘキス
ト合成製、純分50%、最低造膜温度10℃)に対し
て本発明の化合物2.5重量部を添加し、実施例1
と同様に混和性、最低造膜温度について試験し
た。また25℃、2時間後の塗膜乾燥状態について
試験し、評価法は実施例1に準拠して行ない、結
果を表―3に示した。
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式: (式中、R1,R2は水素原子または炭素数1〜
    6のアルキル基で、互いに同一であつても異なつ
    ていてもよく、R1,R2の少くとも1つはアルキ
    ル基であり、R3は炭素数2〜6のアルキレン基、
    フエニル置換エチレン基、nは平均の付加モル数
    を示し1〜10の数である) で示される化合物の1種または2種以上であつて
    下記の(イ)〜(ハ)の要件を満足するものを必須成分と
    して含有するビニル重合体水系エマルジヨン用造
    膜剤組成物。 (イ) 一般式(1)においてR1が水素原子、R2がメチ
    ル基またはエチル基であり、R2の核置換位置
    がメタ―位である化合物と一般式(1)において
    R1が水素原子、R2がメチル基またはエチル基
    であり、R2の核置換位置がパラ―位である化
    合物との100:0〜30:70(重量基準)の割合か
    らなるもの、 (ロ) 一般式(1)においてR1,R2がメチル基または
    エチル基であり、R1,R2の核置換位置が2,
    5―位および2,6―位である化合物と一般式
    (1)においてR1,R2がメチル基またはエチル基
    であり、R1,R2の核置換位置が2,5―位ま
    たは2,6―位以外である化合物との、0:
    100〜20:80(重量基準)の割合からなるもの、 (ハ) 一般式(1)においてR1,R2のいずれかが炭素
    数3〜6のアルキル基であり、他のもう1つが
    水素原子または炭素数1〜3のアルキル基であ
    り、R1とR2との炭素数の合計が3〜6である
    化合物からなるもの。
JP14201080A 1980-10-13 1980-10-13 Film forming assistant composition for vinyl polymeric aqueous emulsion Granted JPS5767664A (en)

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JPH0415064U (ja) * 1990-05-25 1992-02-06

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