JPS63293918A - 円弧照明装置 - Google Patents

円弧照明装置

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Publication number
JPS63293918A
JPS63293918A JP62130518A JP13051887A JPS63293918A JP S63293918 A JPS63293918 A JP S63293918A JP 62130518 A JP62130518 A JP 62130518A JP 13051887 A JP13051887 A JP 13051887A JP S63293918 A JPS63293918 A JP S63293918A
Authority
JP
Japan
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illumination
optical system
mask
light
spot
Prior art date
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Pending
Application number
JP62130518A
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English (en)
Inventor
Masaki Suzuki
正樹 鈴木
Hiroyuki Nagano
寛之 長野
Takeo Sato
佐藤 健夫
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Priority to KR1019880006108A priority patent/KR920002820B1/ko
Priority to EP88108440A priority patent/EP0292976A3/en
Priority to US07/199,078 priority patent/US4844568A/en
Publication of JPS63293918A publication Critical patent/JPS63293918A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
    • G03F7/70366Rotary scanning

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、反射型投影露光装置等の円弧照明装置に関す
るものである。
従来の技術 第4図は、例えば1:1反射型投影露光装置の投影光学
系の構成を示したものである。凹面鏡1゜凸面鏡2から
成シ、マスク3に円弧スリット照明光4を照射し、マス
ク上のパターンをウェハ6上に投影し、マスク3とウェ
ハ6をB方向とその逆方向に走査し露光するものである
この装置に必要な円弧スリット状照明光を作るには、円
弧状ランプの像を拡大する方法と、点光源ランプを回転
対称型の反射鏡を用いて円弧状にする方法とがある。特
に、後者は、遠紫外を用いる時にも有効であるが、この
種の光学系としては、球面鏡を用いた特開昭54−12
3877及び、楕円を回転させて作る4次曲面反射鏡を
用いた特開昭58−84349がある。第5図は、その
原理構成であり、反射鏡10,11.12が球面鏡ない
し、4次曲面反射鏡となっている。ここで、7は点光源
ランプ、8はスリット位置、9は球面反射鏡、13はピ
ンホールである。
発明が解決しようとする問題点 第6図(a)は、円弧スリット状照明光4近傍の光路を
示したものである。円弧に対して、接線方向Aと半径方
向Bから、この光路を見ると、A方向から見ると第3図
(b)に示すように、光のマスク面14に対する入射角
がある広がりを持ち、不可干渉性が大きいのに対し、B
方向から見ると、第3図(C)に示すように入射光がほ
ぼ平行であり、不可干渉性が小さい。不可干渉性が小さ
いと、投影したマスクパターンのウェハ面上でのコント
ラストが低下し、従って解像度が上がらないという欠点
があった。また、スリット8で円弧を作るので光の利用
効率が低く、マスク3に到達する光は、点光源ランプ了
を出た光の2%程度しかないものであった。さらに、多
数の大型凹面鏡を用いるので製作が困難で高コストであ
り、照度の均一性を得るための調整が困難であるという
問題点を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、解像度が高く、また照度が
高く、製作が容易で、低コストであり、調整の容易な反
射型投影露光装置の円弧照明装置を提供するものである
問題点を解決するだめの手段 上記問題点を解決するために本発明の円弧照明装置は、
光源と、集光光学系と、回転可能な射出端が一つ又は複
数に分岐した光ファイバー束と、同じく回転可能な一つ
又は複数のスポット照明光学系とその回転駆動装置とを
備えたものである。
作  用 本発明は上記した構成によって、回転軸に平行な光軸を
有する、スポット照明が回転軸のまわりを回転走査する
ことにより円弧スリット照明を行い、スポット照明が回
転の接線方向にも半径方向にも等しく十分な光の入射角
の広がりを有するので解像力が高く、スリットで円弧を
作らないので光の利用効率が高く、製作が容易で低コス
トであり、照度の均一性を得るだめの調整が容易となる
O実施例 以下本発明の一実施例の円弧照明装置について、図面を
参照しながら説明する。
第1図は本発明の第1の実施例における円弧照明装置の
縦断面図である。第1図において、20は光源の水銀灯
、21はその電極間アーク、22は熱線透過型楕円面反
射鏡、23は分岐光ファイバーであり、入射端24にお
いて円形に束ねられており、他端に8つの射出端26を
有する。前記光ファイバー射出端26は補助集光レンズ
26の光軸上にファイバー固定金具31により固定され
ている。27は明るさ絞り、28は集光レンズであり、
26〜2了はいわゆるケーラー照明光学系によるスポッ
ト照明光学系40を成し回転筐体29の同一円周上に回
転軸3oに平行に8組配列されている。32は回転軸受
、33は大プーリ一部、34は回転モーター、35は小
プーリ−,36は回転ベルト、37はマスク、38は回
転筐体に形成された円周溝、39はその中に設置された
固定スリットである。第2図は第1図のA−A断面矢視
図であり、固定スリット39のスリット間隔は、各スポ
ット照明光学系4oの回転角度θに対し半径方向にco
sθのスリット間隔割合を有する。
以上のように構成された円弧照明装置について以下第1
図及び第2図を用いてその動作を説明する。光源の水銀
灯2Qの電極間アーク21より出た光は楕円面反射鏡2
2で反射され集光して、光ファイバー23の入射端24
に入り、分岐して8つの射出端26より出て、補助集光
レンズ26に入る。光はさらに、明るさ絞り27の位置
に各光源25の像を結び、さらに集光レンズ28により
マスク37の下面に集光して照明スポット41を形成す
る。このとき、射出端25の集光レンズ28による像は
無限遠にできるので照明する面にムラを生ぜず固定スリ
ット39の像をマスク37の下面に生ずる。各スポット
照明光学系4oは回転筐体29と共に、モーター34に
より、小プーリ=36と回転ベルト36と太プーリー3
3を介して、第2図における矢印Bの方向に回転される
。この時、各照明スポット41の軌跡は、円弧スリット
照明42となる。回転筐体29には8つのスポット照明
光学系40が配置されているので、1回転で8回の走査
を行う。マスク37は、第2図の矢印Cの方向に直線走
査されるので円弧スリット照明42は、マスク37の全
面を密に走査する。例えば、円弧スリット照明中41E
I、マスク37の直線走査速度をsosm/sec、回
転筐体290回転速度を469Orpm  とすれば、
4IllIの間を60回スポット41が円弧走査するこ
ととなシ、照度ムラを2%以下とすることができる。
次に1本発明の第2の実施例について第3図を参照しな
がら説明する。第3図は本発明の第2の実施例の部分模
式図であシ、その基本構成は第1の実施例と同様である
が、水銀灯20及び楕円面反射鏡22の光軸43と、光
ファイバー23及び回転筐体29の回転軸44がdだけ
ずれている。
そして楕円面反射鏡22による、光ファイバー入射端2
4における集光スポット46の径を元ファイバー入射端
24の径よシ小さくしである。この構成によって動作時
には、元ファイバー23の射出端から出る光は、マスク
37上にファイバーの射出端がある位置46,47.4
8では強く光が出て、63.49の位置では弱くなり、
50,51゜52の位置ではほとんど光は出ない。この
ことによって水銀灯20から出た光の利用率を高めるこ
とができ、露光装置における露光時間を短縮して処理能
力を増す効果を有する。
また、さらに本発明の変形応用例として水銀灯と楕円面
反射鏡22のいづれか一方又は両方を光ファイバー23
と回転筐体29と共に回転させれば、光ファイバーの入
射端24における照度ムラを解消し、より均一なマスク
370面上における照度分布を得ることができる。
発明の効果 以上のように本発明によれば、光源と、その集光光学系
と、その集光位置に入射端を有し、一つ又は複数に分岐
した射出端を有する光ファイバー束と、各射出端から出
た光をマスク上にスポット照明する、回転筐体の同一円
周上に配置された一つ又は複数のスポット照明光学系で
円弧スリット照明を作ることにより、反射型投影露光装
置において、円弧スリット照明の接線方向にも、半径方
向にも十分な光の入射角を有する照明光を得ることがで
き、高い解像力が得られ、またスポット照明光の回転に
よって円弧照明を作るので照度が均一で光の利用率が高
くなシ、露光装置の露光時間を短縮でき、処理能力が高
くなシ、さらに多数の凹面鏡を用いないので製作が容易
で低コストである等、大なる効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例における円弧照明装置の
縦断面図、第2図は第1図におけるA−A断面矢視図、
第3図は本発明の第2の実施例における円弧照明装置の
部分模式図、第4図は1:1反射型投影露光装置の投影
光学系の原理図、第6図は従来の照明光学系の一例を示
す構成図、第6図(a) 、 (b) 、 CC)は従
来の照明光の不可干渉性を示す説明図である。 20・・・・・・水銀灯、22・・・・・・楕円面反射
鏡、23・・・・・・分岐光ファイバー束、29・・・
・・・回転筐体、37・・・・・・マスク、39・・・
・・・固定スリット、40・・・・・・スポット照明光
学系。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第 
5 図 第6図 (【l、ン

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光源と、その光の集光光学系と、その集光位置に
    入射端が面し、射出端が一つ又は複数に分岐し、一つの
    円周上に配列された光ファイバー束と、前記各射出端か
    ら出た光をマスク上に集光する円周上に配列された一つ
    又は複数のスポット照明光学系と、前記光ファイバー束
    とスポット照明光学系を一体に回転させる回転駆動装置
    より成る円弧照明装置。
  2. (2)集光光学系による集光位置に光ファイバーの入射
    端の一部分のみが面している特許請求の範囲第1項記載
    の円弧照明装置。
  3. (3)スポット照明光学系内に回転しない円弧状視野絞
    りが挿入されている特許請求の範囲第1項又は第2項記
    載の円弧照明装置。
  4. (4)光源とその集光光学系のいづれか一方又は両方が
    回転する特許請求の範囲第1項乃至第3項のいずれかに
    記載の円弧照明装置。
JP62130518A 1987-05-27 1987-05-27 円弧照明装置 Pending JPS63293918A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62130518A JPS63293918A (ja) 1987-05-27 1987-05-27 円弧照明装置
KR1019880006108A KR920002820B1 (ko) 1987-05-27 1988-05-25 주사형 투영 노광장치
EP88108440A EP0292976A3 (en) 1987-05-27 1988-05-26 Scanning type projection exposure system
US07/199,078 US4844568A (en) 1987-05-27 1988-05-26 Scanning type projection exposure system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62130518A JPS63293918A (ja) 1987-05-27 1987-05-27 円弧照明装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63293918A true JPS63293918A (ja) 1988-11-30

Family

ID=15036212

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62130518A Pending JPS63293918A (ja) 1987-05-27 1987-05-27 円弧照明装置

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JP (1) JPS63293918A (ja)

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