JPS63102228A - 円弧照明装置 - Google Patents
円弧照明装置Info
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- JPS63102228A JPS63102228A JP61247731A JP24773186A JPS63102228A JP S63102228 A JPS63102228 A JP S63102228A JP 61247731 A JP61247731 A JP 61247731A JP 24773186 A JP24773186 A JP 24773186A JP S63102228 A JPS63102228 A JP S63102228A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Optical Systems Of Projection Type Copiers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、反射型投影露光装置等の円弧照明装置に関す
るものである。
るものである。
従来の技術
第４図は、例えば１：１反射型投影露光装置の投影光学
系の構成を示したものである。凹面鏡１゜凸面鏡２から
成シ、マスク３に円弧スリット照明光４を照射し、マス
ク上のパターンをウェハ６上に投影し、マスク３とウェ
ハ５をＢ方向とその逆方向に走査し露光するものである
。
系の構成を示したものである。凹面鏡１゜凸面鏡２から
成シ、マスク３に円弧スリット照明光４を照射し、マス
ク上のパターンをウェハ６上に投影し、マスク３とウェ
ハ５をＢ方向とその逆方向に走査し露光するものである
。
この装置に必要な円弧スリット状照明光を作るには、円
弧状ランプの像を拡大する方法と、点光源ラングを回転
対称型の反射鏡を用いて円弧状にする方法とがある。特
に１後者は、遠紫外を用いる時にも有効であるが、この
種の光学系としては、球面鏡を用いた特開昭５４−１２
３８７７及び、楕円を回転させて作る４次曲面反射鏡を
用いた特開昭５６−８４３４９がある。第５図は、その
原理構成であシ、反射鏡ＩＱ、１１．１２が球面鏡ない
し、４次曲面反射鏡となっている。ここで、７は点光源
ランプ、８情、スリット位置、９は球面反射鏡、１３は
ピンホールである。
弧状ランプの像を拡大する方法と、点光源ラングを回転
対称型の反射鏡を用いて円弧状にする方法とがある。特
に１後者は、遠紫外を用いる時にも有効であるが、この
種の光学系としては、球面鏡を用いた特開昭５４−１２
３８７７及び、楕円を回転させて作る４次曲面反射鏡を
用いた特開昭５６−８４３４９がある。第５図は、その
原理構成であシ、反射鏡ＩＱ、１１．１２が球面鏡ない
し、４次曲面反射鏡となっている。ここで、７は点光源
ランプ、８情、スリット位置、９は球面反射鏡、１３は
ピンホールである。
発明が解決しようとする問題点
第６図（−）は、円弧スリット状照明光４近傍の光路を
示したものである。円弧に対して、接線方向Ａと半径方
向Ｂから、この光路を見ると、入方向から見ると第３図
中）に示すように１光のマスク面１４に対する入射角が
ある広がりを持ち、不可干渉性が大きいのに対し、Ｂ方
向から見ると、第３図（Ｃ）に示すように入射光がほぼ
平行であシ、不可干渉性が小さい。不可干渉性が小さい
と、投影したマスクパターンのウニ八面上でのコントラ
ストが低下し、従１て解像度が上がらないという欠点が
あった。
示したものである。円弧に対して、接線方向Ａと半径方
向Ｂから、この光路を見ると、入方向から見ると第３図
中）に示すように１光のマスク面１４に対する入射角が
ある広がりを持ち、不可干渉性が大きいのに対し、Ｂ方
向から見ると、第３図（Ｃ）に示すように入射光がほぼ
平行であシ、不可干渉性が小さい。不可干渉性が小さい
と、投影したマスクパターンのウニ八面上でのコントラ
ストが低下し、従１て解像度が上がらないという欠点が
あった。
また、多数の大型凹面鏡を用いるので製作が困難で高コ
ストであり、照度の均一性を得るための調整が困難であ
るという問題点を有していた。
ストであり、照度の均一性を得るための調整が困難であ
るという問題点を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、解像度が高く、製作が容易
で、低コストであシ、調整の容易な反射型投影露光装置
の円弧照明装置を提供するものである。
で、低コストであシ、調整の容易な反射型投影露光装置
の円弧照明装置を提供するものである。
装置は、光源と、光源の周囲を回転可能な１つ又は複数
のスポット照明光学系とその回転駆動装置とを備え、ま
たさらには光の均一化をはかるフィルタを備えたもので
ある。
のスポット照明光学系とその回転駆動装置とを備え、ま
たさらには光の均一化をはかるフィルタを備えたもので
ある。
作 用
本発明は上記した構成によって、回転軸に平行な光軸を
有する、スポット照明が回転軸のまわりを回転走査する
ことばより円弧スリット照明を行い、スポット照明が回
転の接線方向ても半径方向にも等しく十分な光の入射角
の広が９を有するので解像力が高く、多数の大型凹面鏡
を用いるので裏作が容易で低コストであシ、照度の均一
性を得るための調整が容易となる。
有する、スポット照明が回転軸のまわりを回転走査する
ことばより円弧スリット照明を行い、スポット照明が回
転の接線方向ても半径方向にも等しく十分な光の入射角
の広が９を有するので解像力が高く、多数の大型凹面鏡
を用いるので裏作が容易で低コストであシ、照度の均一
性を得るための調整が容易となる。
実施例
以下本発明の一実施例の円弧照明装置について、図面を
参照しながら説明する。
参照しながら説明する。
第１図は本発明の第１の実施例〈おける円弧照明装置の
たて断面図を示すものである。第１図において、２ｏは
光源の水銀灯、２１はその電画間アーク、２２は球面反
射鏡、２３ａは補助集光レンズ、２４ａは照明視野絞シ
、２５ａは熱線透過型平面鏡、２６ａは明るさ絞シ、２
７ａは集光レンズである。以上の位置関係は、電極間ア
ーク２１の補助集光レンズ２３ａによる像は明るさ絞り
２６ａの位置に生じ、集光レンズ２了ａの前側並点はや
は９明るさ絞９２６ａの位置にあって、視野絞り２４ａ
の像をマスク２８の下面に結び、いわゆるケーラー照明
光学系を成している。２３ａ〜２７ａの光学系部品は回
転筺体３１に取付けられておシ、回転筐体３１は軸受３
２により回転可能に支持され、モーター３３とプーリー
３３．３５とベルト３６とで結合されている。ここで水
銀灯２０と球面反射鏡２２は固定されており回転しない
。
たて断面図を示すものである。第１図において、２ｏは
光源の水銀灯、２１はその電画間アーク、２２は球面反
射鏡、２３ａは補助集光レンズ、２４ａは照明視野絞シ
、２５ａは熱線透過型平面鏡、２６ａは明るさ絞シ、２
７ａは集光レンズである。以上の位置関係は、電極間ア
ーク２１の補助集光レンズ２３ａによる像は明るさ絞り
２６ａの位置に生じ、集光レンズ２了ａの前側並点はや
は９明るさ絞９２６ａの位置にあって、視野絞り２４ａ
の像をマスク２８の下面に結び、いわゆるケーラー照明
光学系を成している。２３ａ〜２７ａの光学系部品は回
転筺体３１に取付けられておシ、回転筐体３１は軸受３
２により回転可能に支持され、モーター３３とプーリー
３３．３５とベルト３６とで結合されている。ここで水
銀灯２０と球面反射鏡２２は固定されており回転しない
。
第２図は本発明の第１０実施例における円弧スリット照
明装置の平面レイアウト模式図であり、２３ａ〜２７ａ
の光学系部品と同じ光学系部品２３ｂ〜２７ｂ 、２３
Ｇ−２７ｃ 、２３ｄ−２７ｄが円周方向に４つの照明
光学系として回転筐体３１（図示せず）内に配置されて
いる。３０は照度補正フィルターであシ、円弧スリット
照明装置の直線走査中心線Ｃに対し照明光学系光軸のな
す回転走査角度θに応じてｃｏｓθの光の透過率分布を
有する。
明装置の平面レイアウト模式図であり、２３ａ〜２７ａ
の光学系部品と同じ光学系部品２３ｂ〜２７ｂ 、２３
Ｇ−２７ｃ 、２３ｄ−２７ｄが円周方向に４つの照明
光学系として回転筐体３１（図示せず）内に配置されて
いる。３０は照度補正フィルターであシ、円弧スリット
照明装置の直線走査中心線Ｃに対し照明光学系光軸のな
す回転走査角度θに応じてｃｏｓθの光の透過率分布を
有する。
以上のように構成された円弧照明装置について、以下第
１図及び第２図を用いてその動作を説明する。光源の水
銀灯２０の電極間アーク２１よシ出た光は、後方の球面
反射鏡２２で反射されたものも加えて前方の補助集光レ
ンズ２３ａで集光され、照明視野絞り２４ａで絞られて
、明るさ絞５２６ａの位置に光源像を結び、さらに集光
レンズ２７ａにより、マスク２８の下面に集光して照明
を行う。
１図及び第２図を用いてその動作を説明する。光源の水
銀灯２０の電極間アーク２１よシ出た光は、後方の球面
反射鏡２２で反射されたものも加えて前方の補助集光レ
ンズ２３ａで集光され、照明視野絞り２４ａで絞られて
、明るさ絞５２６ａの位置に光源像を結び、さらに集光
レンズ２７ａにより、マスク２８の下面に集光して照明
を行う。
この時、光源の集光レンズ２７ａによる像は無限遠にで
きるので、照明する面に照明ムラを生ぜず、視野絞５２
４ａの像をマスク２８の下面に生じ、照明視野のシんか
くをはっきシと定め照明スポット２９を生じる。照明光
学系は回転筐体３１と共にモーター３３によシプーリ−
３４とベルト３６とプーリー３５により上から見て反時
計回りに回転走査されるので、マスク２８下面の照明ス
ポット２９の軌跡は第２図に示されるよつに、円弧スリ
ット照明光３７ａとなる。回転筺体３１には本実施例で
は４つの照明光学系を配しであるので１回転で４回の回
転走査を行う。マスク２８は走査中心線Ｃに沿ってＤの
方向に直線走査されるので、円弧スリット照明はマスク
２８上を３了す、ｓ７ｃ。
きるので、照明する面に照明ムラを生ぜず、視野絞５２
４ａの像をマスク２８の下面に生じ、照明視野のシんか
くをはっきシと定め照明スポット２９を生じる。照明光
学系は回転筐体３１と共にモーター３３によシプーリ−
３４とベルト３６とプーリー３５により上から見て反時
計回りに回転走査されるので、マスク２８下面の照明ス
ポット２９の軌跡は第２図に示されるよつに、円弧スリ
ット照明光３７ａとなる。回転筺体３１には本実施例で
は４つの照明光学系を配しであるので１回転で４回の回
転走査を行う。マスク２８は走査中心線Ｃに沿ってＤの
方向に直線走査されるので、円弧スリット照明はマスク
２８上を３了す、ｓ７ｃ。
３７ｄの如く走査し、マスク２８の全面を密に走査する
。実際の露光例では、円弧スリット幅４１１８゜マスク
２８に対するＤ方向の直線走査速度をｓ ｏ ｒｕｂ／
ｓｔｘ、とすれば、回転筐体３１を９３７５ｒｐｍで回
転させれば、スリット幅４Ｂの間を５０回の円弧走査を
する割合で直線走査することとなシ、円弧走査による露
光照度ムラを、２係以下とすることができる。
。実際の露光例では、円弧スリット幅４１１８゜マスク
２８に対するＤ方向の直線走査速度をｓ ｏ ｒｕｂ／
ｓｔｘ、とすれば、回転筐体３１を９３７５ｒｐｍで回
転させれば、スリット幅４Ｂの間を５０回の円弧走査を
する割合で直線走査することとなシ、円弧走査による露
光照度ムラを、２係以下とすることができる。
また第２図において直線走査中心線Ｃからｈだけ離れた
Ｅ線上では相当する回転走査角度θに応じて走査密度が
中心線Ｃ上に対し１／ｃＯｓθだけ大きくなるが、照度
補正フィルター３０により周辺ではｃｏｓθの割合で照
明が減衰されて、マスク２８上で全面均一な照明を得る
ことができる。
Ｅ線上では相当する回転走査角度θに応じて走査密度が
中心線Ｃ上に対し１／ｃＯｓθだけ大きくなるが、照度
補正フィルター３０により周辺ではｃｏｓθの割合で照
明が減衰されて、マスク２８上で全面均一な照明を得る
ことができる。
以下本発明の第２の実施例について図面を参照基本的構
成は第１の実施例と同様であるが照明光学系の構成がい
わゆるクリティカル照明光学系を成しており、水銀灯２
ｏの電極間アーク２１から出た光は補助集光レンズ４１
を経て平行光束となシ、明るさ絞り４２で絞られ、熱線
透過型平面鏡４３で回転筐体３１の回転軸に平行に折れ
曲シ、集光レンズ４４によりマスク２８の下面に集束し
て光源である電極間アーク２１の像を結ぶ。この照明系
では、照明視野のりんかくを明確に定めに＜＜、光源に
ムラがあると照明ムラとなる欠点があるが明るい照明を
容易に得ることができる。
成は第１の実施例と同様であるが照明光学系の構成がい
わゆるクリティカル照明光学系を成しており、水銀灯２
ｏの電極間アーク２１から出た光は補助集光レンズ４１
を経て平行光束となシ、明るさ絞り４２で絞られ、熱線
透過型平面鏡４３で回転筐体３１の回転軸に平行に折れ
曲シ、集光レンズ４４によりマスク２８の下面に集束し
て光源である電極間アーク２１の像を結ぶ。この照明系
では、照明視野のりんかくを明確に定めに＜＜、光源に
ムラがあると照明ムラとなる欠点があるが明るい照明を
容易に得ることができる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、光源の周囲を回転、駆動
装置によシ回転し、回転軸に平行な光軸を有する１つの
照明スポットを作る照明光学系を円周方向に複数配置し
、円弧スリット照明の接線方向にも半径方向にも十分な
光の入射角の広がりを有する照明光を得ることができる
ので解像力が高く、多数の大型凹面鏡を用いないので製
作が容易で、低コストである。
装置によシ回転し、回転軸に平行な光軸を有する１つの
照明スポットを作る照明光学系を円周方向に複数配置し
、円弧スリット照明の接線方向にも半径方向にも十分な
光の入射角の広がりを有する照明光を得ることができる
ので解像力が高く、多数の大型凹面鏡を用いないので製
作が容易で、低コストである。
また、さらに第２の発明では、加えて照度の均一性を得
るための調整が容易な反射型投影露光装置の円弧スリッ
ト照明装置を提供することができる。
るための調整が容易な反射型投影露光装置の円弧スリッ
ト照明装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の第１の実施例における円弧スリット照
明装置のたて断面図、第２図は同平面レイアウト模式図
、第３図は本発明の第２の実施例における円弧スリット
照明装置のたて断面図、第４図は１：１反射型投影露光
装置の投影光学系の原理図、第５図は従来の照明光学系
の一例を示す構成図、第６図（ａ） 、 （ｂ） 、
（Ｃ）は従来の照明光の不可干渉性を示す図である。 １・・・・・・凹面鏡、２・・・・・・凸面鏡、３・・
・・・・マスク、４・・・・・・円弧スリット照明、５
・・・・・・ウェハー、２゜・・・・・水銀灯、２１・
・・・・・電極間アーク、２２・・・・・・球面反射鏡
、２３・・・・・・補助集光レンズ、２４・・・・・・
照明視野絞り、２５・・・・・・熱線透過型平面反射鏡
、２６・・・・・・明るさ絞シ、２７・・・・・・集光
レンズ、２８・・・−・マスク、２９・・・・・・照明
スポット、３１・・・・・・回転筐体、３３・・・・・
モーター、３７・・・・・・円弧スリット照明光。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名２０
− 永ｊす丁 ２ｌ−１ｊｉ版間アーク ２２−一工玉面反Ｖｉａ ’−−舖３’Ｊ＋’ｌｅ、Ｌノｆ ２７−−−裏尤レシス゛ ２１！−−７２７ ｚｑ−−−、ｓｊ朗又、ｌ’；’、、 Ｌ第 ２ 図゛ ２−凸・・ ４−御一同５広（又リプＬ陳１１月尤 ５−−−ウェ７、− ７−−−七、７ｆｉｉ只ランア 第６図 ４− Ｆ＋！威又ソ、にアシ月−− １４−−マスク面 （ａ／） ＜ｂ）（Ｃ） 手続補正書 昭和６２年 ９月７ 日 １事件の表示 昭和６１年特許願第２４７７３１ 号２発明の名称 円弧照明装置 ３補正をする者 事件との関係 特 許 出 願
大佐 所 大阪府門真市大字門真１００６番地名
称 （５８２）松下電器産業株式会社代表者
谷 井 昭 雄 ４代理人 〒５７１ 住 所 大阪府門真市大字門真１００６番地松下電器産
業株式会社内 λ 四 → ６、補正の内容 （１）明細書第８頁第１３行と第１４行の間に以下の文
を挿入補正します。 「以下本発明の第３の実施例について図面を参照しなが
ら説明する。第７図は本発明の第３の実施例を示す円弧
スリット照明装置のたて断面図であるうその基本構成は
第２の実施例と似ているが、光線の９ｄ’反射と、補助
集光レンズの作作用を、固定された熱線透過型放物面鏡
４５によって行い、機械的回転走査を行うのは、集光レ
ンズ４６と、これを収納した回転筐体４７のみによって
行うものである。その作用は水銀灯２０の電極間アーク
２１から出た光は放物面鏡４５で反射して平行光束とな
シ、回転走査する集光レンズ４ｅにより、照度補正フィ
ルター３０を透過して、マスク２８の下面に集束する。 この照明系では、回転筐体４了の円周上に多数の集光レ
ンズ４６を配置し、回転走査による露光ムラを減少させ
る効果を有する。」 （２）同第９頁第１５行の「示す図である。」を「示す
図、第７図は本発明の第３の実施例の縦断面図である。 」に補正します。 （３）図面第７図を別紙の通り追加します。 央−づ文物面童地 会−集光、ッズ ４７−−−凹に筐イネ 第７図
明装置のたて断面図、第２図は同平面レイアウト模式図
、第３図は本発明の第２の実施例における円弧スリット
照明装置のたて断面図、第４図は１：１反射型投影露光
装置の投影光学系の原理図、第５図は従来の照明光学系
の一例を示す構成図、第６図（ａ） 、 （ｂ） 、
（Ｃ）は従来の照明光の不可干渉性を示す図である。 １・・・・・・凹面鏡、２・・・・・・凸面鏡、３・・
・・・・マスク、４・・・・・・円弧スリット照明、５
・・・・・・ウェハー、２゜・・・・・水銀灯、２１・
・・・・・電極間アーク、２２・・・・・・球面反射鏡
、２３・・・・・・補助集光レンズ、２４・・・・・・
照明視野絞り、２５・・・・・・熱線透過型平面反射鏡
、２６・・・・・・明るさ絞シ、２７・・・・・・集光
レンズ、２８・・・−・マスク、２９・・・・・・照明
スポット、３１・・・・・・回転筐体、３３・・・・・
モーター、３７・・・・・・円弧スリット照明光。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名２０
− 永ｊす丁 ２ｌ−１ｊｉ版間アーク ２２−一工玉面反Ｖｉａ ’−−舖３’Ｊ＋’ｌｅ、Ｌノｆ ２７−−−裏尤レシス゛ ２１！−−７２７ ｚｑ−−−、ｓｊ朗又、ｌ’；’、、 Ｌ第 ２ 図゛ ２−凸・・ ４−御一同５広（又リプＬ陳１１月尤 ５−−−ウェ７、− ７−−−七、７ｆｉｉ只ランア 第６図 ４− Ｆ＋！威又ソ、にアシ月−− １４−−マスク面 （ａ／） ＜ｂ）（Ｃ） 手続補正書 昭和６２年 ９月７ 日 １事件の表示 昭和６１年特許願第２４７７３１ 号２発明の名称 円弧照明装置 ３補正をする者 事件との関係 特 許 出 願
大佐 所 大阪府門真市大字門真１００６番地名
称 （５８２）松下電器産業株式会社代表者
谷 井 昭 雄 ４代理人 〒５７１ 住 所 大阪府門真市大字門真１００６番地松下電器産
業株式会社内 λ 四 → ６、補正の内容 （１）明細書第８頁第１３行と第１４行の間に以下の文
を挿入補正します。 「以下本発明の第３の実施例について図面を参照しなが
ら説明する。第７図は本発明の第３の実施例を示す円弧
スリット照明装置のたて断面図であるうその基本構成は
第２の実施例と似ているが、光線の９ｄ’反射と、補助
集光レンズの作作用を、固定された熱線透過型放物面鏡
４５によって行い、機械的回転走査を行うのは、集光レ
ンズ４６と、これを収納した回転筐体４７のみによって
行うものである。その作用は水銀灯２０の電極間アーク
２１から出た光は放物面鏡４５で反射して平行光束とな
シ、回転走査する集光レンズ４ｅにより、照度補正フィ
ルター３０を透過して、マスク２８の下面に集束する。 この照明系では、回転筐体４了の円周上に多数の集光レ
ンズ４６を配置し、回転走査による露光ムラを減少させ
る効果を有する。」 （２）同第９頁第１５行の「示す図である。」を「示す
図、第７図は本発明の第３の実施例の縦断面図である。 」に補正します。 （３）図面第７図を別紙の通り追加します。 央−づ文物面童地 会−集光、ッズ ４７−−−凹に筐イネ 第７図
Claims (3)
- （１）円周方向に光を放射する光源と、光源の周囲を回
転可能で、回転軸に平行な光軸を有する１つの照明スポ
ットを作る照明光学系と、照明光学系を回転させる回転
駆動装置とを有する円弧照明装置。 - （２）円周方向に複数の照明光学系を配した、特許請求
の範囲第１項記載の円弧照明装置。 - （３）円周方向に光を放射する光源と、光源の周囲を回
転可能で、回転軸に平行な光軸を有する１つの照明スポ
ットを作る照明光学系と、照明光学系を回転させる回転
駆動装置とを有し、さらに、光の走査中心線に対し、照
明光学系光軸のなす回転走査角度に応じて光の透過率分
布が異なる照度補正フィルターを光路中に設けた円弧照
明装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61247731A JPS63102228A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 円弧照明装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61247731A JPS63102228A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 円弧照明装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63102228A true JPS63102228A (ja) | 1988-05-07 |
Family
ID=17167832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61247731A Pending JPS63102228A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 円弧照明装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63102228A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5390044A (en) * | 1992-06-03 | 1995-02-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Circular arc illumination apparatus |
-
1986
- 1986-10-17 JP JP61247731A patent/JPS63102228A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5390044A (en) * | 1992-06-03 | 1995-02-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Circular arc illumination apparatus |
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