JPH0568846B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0568846B2
JPH0568846B2 JP60042724A JP4272485A JPH0568846B2 JP H0568846 B2 JPH0568846 B2 JP H0568846B2 JP 60042724 A JP60042724 A JP 60042724A JP 4272485 A JP4272485 A JP 4272485A JP H0568846 B2 JPH0568846 B2 JP H0568846B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light source
arcuate
circular
arc
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60042724A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61202433A (ja
Inventor
Takashi Komata
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP60042724A priority Critical patent/JPS61202433A/ja
Publication of JPS61202433A publication Critical patent/JPS61202433A/ja
Publication of JPH0568846B2 publication Critical patent/JPH0568846B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は集積回路製造用の微細パターン焼付け
装置に用いる照明光学系に関するものである。集
積回路を製造するため微細パターンをウエハに焼
付けるのに反射投影光学系を使用する。これは２
枚の凹凸の反射鏡を組み合わせ円弧スリツト状照
明光束を使用して焼付けを行なう光学系である。
本発明は特にこの反射投影光学系に使用する円弧
状照明光束をつくる光学装置に関するものであ
る。
［従来の技術］ 第３図に従来の弧状領域照明光学装置を示す。
図に示すように、光源（超高圧水銀ランプ）１、
集光レンズ２、円弧スリツト付遮光板６、結像レ
ンズ４およびマスク５をこの順に配列して成り、
光源１からの光は遮光板６の円弧スリツトを通つ
て結像レンズ４によりマスク５に円弧スリツトの
像を結像する。
［発明が解決しようとする問題点］ 従来の弧状領域照明光学装置では光源から遮光
板に集光した光束の一部しか利用されず、残りの
大部分の光束は遮断され、そのため光源からの光
の利用率は著しく低くなつている。
本発明の目的は、このような光量の損失をなく
し、高い照明効率を実現する弧状領域照明光学装
置を提供することにある。
［問題点を解決するための手段と作用］ この目的を達成するため本発明の照明装置は、
第１、第２の円形入射端面と弧状出射端面とを備
えるオプテイカルフアイバ束と、第１、第２光源
からの光束を前記第１、第２円形光入射端面に集
光する集光手段と、前記オプテイカルフアイバ束
の弧状出射端面からの光による弧状２次光源を被
照射面上に結像する結像手段とを備え、前記集光
手段は、前記第１光源からの光束を反射して前記
第１円形入射端面上に集光せしめる第１楕円鏡と
前記第２光源からの光束を反射して前記第２円形
入射端面上に集光せしめる第２楕円鏡とを有する
ことを特徴とする。
これによれば、第１、第２光源からの光束が第
１、第２楕円鏡により効率よく集光されて第１、
第２の円形入射端面に導入され、弧状出射端面よ
り射出されるため、非常に明るい弧状２次光源が
形成される。
［実施例］ 第２図は本発明の基礎となつた弧状領域照明光
学装置を示す。
第２図において、１はレジストの露光のための
光源で、例えば超高圧水銀ランプ等が使われる。
２は光源１より飛散する光束を所定の位置に集束
させるための集光光学系、３は細いオプテイカル
フアイバより成るオプテイカルフアイバ束で、そ
の一端は円形に束ねられ、その円形端に集光光学
系２により集束された光束が入射する。他端は、
円弧状に束ねられて、円弧状の２次光源を形成す
る。４はこの円弧状２次光源を照射面上に結像さ
せる光学系で、例えばレンズあるいは、ミラー光
学系等により構成される。５は被照射物で、例え
ば、IC製造用マスクであり、、この被照射物の細
い円弧状の領域のみが照明されることになる。
光源１より発散した光は集光光学系２によつて
収斂して微小スポツトを形成し、ほとんど全光束
がオプテイカルフアイバ束３の円形端に入射す
る。その後オプテイカルフアイバ束の円弧状端に
より円弧状の２次光源が形成されるが、このとき
も当然光量損失は発生しない。
第４図に本発明の基礎となつた他の例を示す。
第４図において、１は光源、７は楕円ミラーであ
る。その他の要素は第２図のものと同様である。
光源の発光部は楕円ミラー７の第１焦点に配置さ
れる。その結果、光源から発散した光束は楕円ミ
ラーによつて集められ、楕円ミラーの第２焦点位
置に微小スポツトを生じる。この微小スポツトを
オプテイカルフアイバ束３の円形端面に受け、円
弧状端面で円弧状の照明光を形成する。このよう
に楕円ミラーを用いると、光源から発散した光束
の大部分が第２焦点位置に集められるので、光源
の光束を損失なくフアイバ束に入射させることが
できる。
しかしながら、第２図や第４図の装置による照
明よりもさらに明るい照明を必要とする場合があ
る。第１図は、これを実現する本発明の一実施例
に係る弧状領域照明光学装置を示す。この実施例
においてはオプテイカルフアイバ束は２つの円形
入射端面を有する。２つの入射端面はフアイバ束
の射出側においてまとめられ、１つの円弧形状の
射出端を形成している。各入射端面は別個の光源
１および楕円ミラー７により照射され、これらの
光源からの光は単一のフアイバ射出端面において
合成され、明るい照明が得られる。当然ながら必
要に応じて入射端も３つまたはそれ以上に分ける
ことができる。
［発明の効果］ 以上説明したように本発明によれば、第１、第
２光源からの光束が第１、第２楕円鏡により効率
よく集光されて第１、第２の円形入射端面に導入
され、弧状出射端面より射出されるため、非常に
明るい弧状２次光源を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例に係る弧状領域照明
光学装置の略図である。第２図は本発明の基礎と
なつた弧状領域照明光学装置の略図である。第３
図は従来の弧状領域照明光学装置を示す略図であ
る。第４図は本発明の基礎となつた他の弧状領域
照明光学装置の略図である。 図中：１：光源、２：集光光学系、３：オプテ
イカルフアイバ束、４：結像光学系、５：マス
ク、６：円弧状開口付遮光板、７：楕円ミラー。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 第１、第２の円形入射端面と弧状出射端面と
    を備えるオプテイカルフアイバ束と、第１、第２
    光源からの光束を前記第１、第２円形光入射端面
    に集光する集光手段と、前記オプテイカルフアイ
    バ束の弧状出射端面からの光による弧状２次光源
    を被照射面上に結像する結像手段とを備え、前記
    集光手段は、前記第１光源からの光束を反射して
    前記第１円形入射端面上に集光せしめる第１楕円
    鏡と前記第２光源からの光束を反射して前記第２
    円形入射端面上に集光せしめる第２楕円鏡とを有
    することを特徴とする照明装置。
JP60042724A 1985-03-06 1985-03-06 弧状領域照明光学装置 Granted JPS61202433A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60042724A JPS61202433A (ja) 1985-03-06 1985-03-06 弧状領域照明光学装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60042724A JPS61202433A (ja) 1985-03-06 1985-03-06 弧状領域照明光学装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61202433A JPS61202433A (ja) 1986-09-08
JPH0568846B2 true JPH0568846B2 (ja) 1993-09-29

Family

ID=12644011

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60042724A Granted JPS61202433A (ja) 1985-03-06 1985-03-06 弧状領域照明光学装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61202433A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2513874Y2 (ja) * 1991-02-08 1996-10-09 象印マホービン株式会社 液体容器
CN103680078B (zh) * 2013-12-11 2016-08-17 京东方科技集团股份有限公司 预警系统及光学设备

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61202433A (ja) 1986-09-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4497015A (en) Light illumination device
JP2655465B2 (ja) 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置
JP3707060B2 (ja) 照明光学装置
JPS597359A (ja) 照明装置
JPS60232552A (ja) 照明光学系
USRE34634E (en) Light illumination device
JPH032284B2 (ja)
JP3278277B2 (ja) 投影露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法
JP2997351B2 (ja) 照明光学装置
US5218660A (en) Illumination device
JPS62115719A (ja) 照明光学系
JPS5949514A (ja) 環状照明装置
JP3517573B2 (ja) 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
JPH0629189A (ja) 投影式露光装置およびその方法並びに照明光学装置
JPS622539A (ja) 照明光学系
JPH08203803A (ja) 露光装置
JPH0568846B2 (ja)
JPS63114186A (ja) 照明装置
JP3367569B2 (ja) 照明光学装置、露光装置、及び該露光装置を用いた転写方法
JP3188764B2 (ja) 照明光学系
JPH01913A (ja) 照明装置
JPS6380243A (ja) 露光装置用照明光学装置
JPH0769576B2 (ja) 照明光学装置
JP7068659B2 (ja) 露光用光源装置
JPS6381420A (ja) 照明装置

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term