JPS632836A - 光伝送用ガラスフアイバの製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光伝送用ガラスファイバの製造装置に関し、と
くにプリフォームから線引した光ファイバに塗布した紫
外線硬化樹脂を硬化する紫外線照射装置に関するもので
ある。

〔従来の技術〕

光ファイバの被覆材としては熱硬化シリコンゴムと紫外
線硬化樹脂が使用される。このうち紫外線硬化樹脂（以
下ＵＶ樹脂という。）を光ファイバに被覆する場合、従
来は第６図に示すインラインで紫外線硬化樹脂を塗布し
、紫外線照射装置（以下ＵＶ炉という、）で硬化する光
フアイバ線引装置が用いられている。プリフォーム１の
先端を加熱炉５で溶融し、光ファイバ２に線引するとと
もに、塗布ダイス４および８によりＵＶ樹脂３を塗布し
、塗布ダイス４および８の下方に配置したＵＶ炉６．７
および９から紫外線を照射してＵＶ樹脂を硬化する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

−般にＵＶ樹脂は、硬化するために一定の紫外線エネル
ギを必要とするので、製造ラインで使用するＵＶ炉の出
力エネルギと製造線引速度（以下線引速度という。）と
は密接な関係にあり、線引速度に対してＵＶ炉の出力エ
ネルギを一定に保持しなければならない。しかしながら
、ＵＶ炉は１台あたりの出力エネルギには限界があり、
線引速度を向上させるためには第６図に示したＵＶ炉６
および７のように数台を設置し、線引速度に応じて使用
するＵＶ炉の台数を変えて紫外線エネルギを一定に保持
する装置構成が採られている。

従来のこの種のＵＶ炉は、光波長が２００ｎｍ乃至１２
００ｎｍという広範囲の波長域光を発光するので、ＵＶ
樹脂の硬化に必要な紫外域の光だけでなく赤外域の光ま
でＵＶ樹脂塗布の光ファイバに照射することから、光フ
ァイバを不要に加熱する。

このため第６図に例示したように、線引速度に対してＵ
Ｖ炉の使用台数を増やしていくと光ファイバはさらに加
熱され、塗布ダイス８に入る際の光ファイバの温度が高
くなり、塗布ダイス８におけるＵＶ樹脂の塗布径が変り
均一にならない。このため、所定の被覆外径およびＵＶ
樹脂の硬化度が得られる線引速度およびＵＶ炉台数の条
件下に達するまでは良好な光ファイバは得られず、生産
性が低下するという問題がある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は従来の問題点を解決するため、ＵＶ樹脂を線引
した光ファイバに塗布し、ＵＶ炉により硬化して光伝送
用ガラスファイバを製造する製造装置において、ＵＶ炉
は、ランプから発光する広範囲波長域光のうち、ＵＶ樹
脂を硬化させるのに必要な５００ｎｍ以下の光波長の光
のみを光ファイバに塗布したＵＶ樹脂に照射するフィル
タを備えた構成を特徴とする。

〔作　用〕

本発明はランプから発生した広範囲波長光のうち紫外線
のみを光ファイバに塗布したＵＶ樹脂に照射することに
より、光ファイバの加熱を防止し、線引速度に対応して
ＵＶ炉の使用台数が変化しても、塗布ダイスにおける光
ファイバの温度５は常に一定に保持され、均一な被覆を
形成できる。以下図面にもとづき実施例について説明す
る。

〔実施例〕

第１図は本発明に係るＵＶ炉の第１の実施例の要部断面
図である。ランプ１０から発生した広範囲の波長域の光
１３は反射板１２で集光され、本発明の特徴である赤外
線反射フィルタ１１を通して光ファイバ２に照射される
。赤外線反射フィルタ１１では、５００ｎｍ以上の波長
の赤外光は通過できず反射される。したがって赤外線反
射フィルタ１１を通過した５００ｎｍ以下の波長の紫外
光１４のみが光ファイバ２に照射されることになり、光
ファイバ２は加熱されることはない。

第２図および第３図は、いずれも本発明に係るＵＶ炉の
第２および第３の実施例の要部断面図で、赤外線反射フ
ィルタ１１の配置を異にした例である。

第１図と同じ符号は同じ部分を示す。

第４図は本発明に係るＵＶ炉の更に他の第４の実施例の
要部断面図である。第１図と同じ符号は同じ部分を示す
。本実施例は第１図乃至第３図の第１乃至〜第３の実施
例における反射板１２を紫外線反射フィルタ１５で形成
した構造で、光ファイバ２にはランプ１０から直接照射
される広範囲波長域光１３′以外は紫外線反射フィルタ
１５で反射された５００ｎｍ以下の紫外光１４シか照射
されず、第１図に示した実施例１と同等の効果が得られ
る。

次に第６図の光フアイバ線引装置により、本発明の第１
図に示した実施例１の構造のＵＶ炉を用いて製造した光
ファイバと、従来のＵＶ炉を用いて製造した光ファイバ
について線引速度とファイバ温度および外被径の関係を
比較した。

すなわち、第６図の線引装置により、プリフォーム１を
加熱し、外径１２５μｍφの光ファイバ２を紡糸し、Ｕ
Ｖ樹脂３として日本合成ゴム＠製造９５０　Ｙ　１００
を塗布ダイス４で約３００μｍ、塗布ダイス８で約４０
０μｍの被覆径で２層に塗布した。

またＵＶ炉は、ＵＶ樹脂の硬化度、すなわち樹脂のヤン
グ率を合わせるため、線引速度１５０ｍ／分までは１台
、線引速度１５０ｍ／分〜３００ｍ／分では２台、線引
速度３００ｍ／分〜４５０　ｍ７分では３台というよう
に線引速度に対応して使用台数を変化して塗布した樹脂
を硬化した。

第５図は従来のＵＶ樹脂を使用した場合の線引速度に対
する被覆径および塗布ダイス８に入る際のファイバ温度
を示したものである。ＵＶ炉の台数を１台増すことによ
り、ファイバ温度が２０℃上界するとともに被覆径が１
０μｍｌ少しでしまい、被覆外径を一定に保持すること
ができなかった。

なおこのとき−層目の被覆径は３０１　μｍφで一定で
あった。

第７図は本発明の第１図の構造のＬＩＶ炉を使用した場
合の線引速度に対する被覆径および塗布ダイス８に入る
際のファイバ温度を示したものである。ＵＶ炉の台数を
変えても、ファイバ温度および被覆径は何ら影響を与え
ず、線引速度４５０ｍ／分まで均一な被覆外径の光ファ
イバが得られた。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によるＵＶ炉を使用した光
伝送用ガラスファイバの製造装置は、光ファイバに塗布
したＵＶ樹脂の硬化度を一定に保持し、製造時の線引速
度に対応してＵＶ炉の台数を変化させることによる光フ
ァイバの温度変化を防止することから、均一な被覆径の
光伝送用ガラスファイバの製造に供し、その効果顕著で
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第４図は本発明のＵＶ炉実施例１乃至実施例
４の要部断面図、第５図は従来のＵＶ炉による線引速度
とファイバ温度および被覆外径の関係を示す図、第６図
は光フアイバ線引装置の概略図、第７図は本発明のＵＶ
炉による線引速度とファイバ温度および被覆外径の関係
を示す図である。 ■・・・プリフォーム、２・・・光ファイバ、３・−・
ＵＶ樹脂、４．８・・・塗布ダイス、５・・・加熱炉、
６，７．９・・・ＵＶ炉、１０・・・ランプ、１１・・
・紫外線反射フィルタ、１２・・・反射板、１３．１３
’　　・・・広範囲波長域光、１４・・・紫外光、１５
−・・反射板兼用の紫外線反射フィルタ 特許出願人　　住友電気工業株式会社 代理人　弁理士　玉　蟲　久五部 本発明のＵＶ炉実施例１の要部′Ｄ面図口筒　１　　図 本発明のＵｖ炉実施例２の要部断面口 筒　２　　図 本発明のＵＶが実施例３の要部断面口 筒　３　　図 ｖＡ　　　遠　〔鳴／分〕 従末のＵｖ炉による線引速度とファイバ温度および被覆
外径の関係と示す図 第５図 １ｓ　　　浬　〔ｍ／分〕 本発明のＵｖす戸による線引速度とファイバ温度８よび
被覆外径の関係２示す図 第７図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 プリフオームの先端を加熱炉で溶融して線引した光ファ
   イバにインラインで紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線照
   射装置により紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化さ
   せる光伝送用ガラスファイバの製造装置において、 前記紫外線照射装置は、 ランプから発光する広範囲波長域光のうち、紫外線硬化
   樹脂を硬化させるのに必要な５００ｎｍ以下の光波長の
   光のみを、前記光ファイバに塗布した紫外線硬化樹脂に
   照射するフィルタを備えてなる ことを特徴とする光伝送用ガラスファイバの製造装置。