JPS63282911A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ヘッド、特に高透磁率材ブロック上に高飽
和磁束密度膜を形成した磁気コアを有する磁気ヘッドに
関するものである。

〔従来の技術〕

従来、メタル塗布テープ、金属蒸着テープ等の高抗磁力
磁性媒体に適する磁気ヘッドとして、いわゆるＭ　Ｉ　
Ｇ　（Ｍ　ｅ　ｔ　ａ　１　　ｉ　ｎ　　Ｇ　ａ　ｐ　
）　ヘッドと呼ばれるものがあり、既に実用に供されて
いる。

ＭＩＧヘッドは、コアの大部分にフェライト等の高透磁
率材を用いギャップ近傍の磁極先端部を高飽和磁束度付
、即ちパーマロイ、センダスト、アモルファス等の合金
磁性材で形成した構造となっている。ＭＩＧヘッドには
、摺動面上における金属磁性材とフェライトとの境界が
、作動ギャップに平行なタイプ（これをＰタイプと呼ぶ
ことにする。

たとえば特開昭５１−１４０７０８号公報等が開示され
ている）と、前記境界が作動ギャップと非平行でアジマ
スが付いたタイプ（これをＡタイプと呼ぶことにする。

たとえば、特開昭５４−９６０１３号公報、特開昭６０
−３２１０７号公報等に開示されている。）とがあり、
現在までのところＡタイプのＭＩＧヘッドが実用化され
ている。

ところで上述の如きＭＩＧヘッドにあっては、作励磁気
キャップは、いわゆるツキ合わせ工程に依り形成されて
いた。このように従来のツキ合わせ工程により作動キャ
ップを形成したヘッドは、キャップ幅のバラツキが多く
、結果としてはヘッド間の特性のバラツキも大きかった
。このバラツキを無くす目的でツキ合わせ工程を経ずに
ギャップを形成したＭＩＧヘッドも提案されている。こ
の種のヘッドでは金属磁性膜上に磁気ギャップとなるキ
ャップ材となる絶縁膜を形成して、更にこの絶縁膜上に
更に金属磁性膜が形成されている。

この様なツキ合わせ工程を含まないＭＩＧヘッドとして
はＡタイプのものが特開昭６０−１７７３１４号公報に
開示され、Ｐタイプのものとしては本出願人に係る特願
照６０−１８７４８６号に開示している。

第７図はツキ合わせ工程を含まないＰタイプのＭＩＧヘ
ッドの例を示す図であり、１はフェライト等の高透磁率
材ブロック、２，７はセンダスト等の高飽和磁束密度材
よりなる磁性膜、３は巻線窓用溝、６は磁気ギャップ、
９，１０はカラス等の非磁性材で　ある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、上述の如きツキ合わせ工程を含まないＰ
タイプＭＩＧヘッドに於いては金属磁性膜とフェライト
との境界が疑似ギヤアップとして作用し、これに伴うコ
ンタ−効果により、周波数出力特性にＰｅａｋ−ｔｏ−
Ｐｅａｋ値で数ｄＢ程度のリップルが現われ実用上の問
題があった。

またツキ合わせ工程を含まない従来のＡタイプＭＩＧヘ
ッドは総じて構成が複雑であり、これに伴ってトラック
幅を正確に規定することが困難であった。

本発明は上述の如き問題に鑑み極めて簡単な構成で製造
でき、かつトラック幅も正確に規定できると共に、磁気
特性が良好なコア構造を有する低コストの磁気ヘッドを
提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

かかる目的下に於いて本発明の磁気ヘッドにあっては、
巻線用溝が形成されている高透磁率材ブロックと、該ブ
ロックの前記巻線用溝の形成されている側の前記巻線用
溝内及び該溝より媒体摺動面側に形成された高飽和磁束
密度材よりなる第１の磁性膜と、該第１の磁性膜上に形
成され磁気ギャップとなる絶縁膜と、該絶縁膜上に形成
された高飽和磁束密度材よりなる第２の磁性膜と、夫々
前記第１及び第２の磁性膜の両端に接する一対の非磁性
部とを具え、前記第１の磁性膜と前記高透磁率材との境
界を媒体摺動面に於いて前記絶縁膜と非平行とした。

〔作　用〕

上述の如き構成の磁気ヘッドによれば媒体摺動面に於い
て磁気ギャップに対し高透磁率材と高飽和磁束密度材と
の境界が非平行であるためコンタ−効果による電磁変換
特性への悪影響は小さく、かつ媒体摺動面に於いて第１
．第２の磁性膜の磁気ギャップに接する幅は同時に切削
により決定できるのでトラック幅を正確に決定できる。

〔実施例〕

第１図は、本発明の最も典型的な構成を有するヘッドの
実施例につき、その概略を示す斜視図である。

第１図において、ｌは単結晶フェライト等の高透磁率材
ブロック、４は高透磁率材１上に、たとえばスパッタ等
の物理蒸着によって成膜されたパーマロイ、センダスト
、アモルファス等の高飽和磁束密度を有する第１の磁性
膜として合金磁性材、７はＳｉＯ３などのギャップ材で
、高飽和磁束密度材２上に同じくスパッタ等により成膜
され、８は第２の磁性膜としての合金磁性材で、ギャッ
プ材７上に同じくスパッタ等により成膜される。９はト
ラック幅規制用、５は低融点ガラス、１３は低融点ガラ
ス５と同程度か低い融点を有する低融点ガラス、１０〜
１２は保護板で、１０は非磁性フェライトあるいは結晶
化ガラスなどの耐摩耗性の高い非磁性材、１１はたとえ
ばフェライト単結晶の如き高透磁率材で、１２は低融点
ガラス１３と同程度かより高い融点を有する接着剤であ
り、１６は巻線窓である。本ヘッドの製造上、構造上の
特徴をいくつか示す。先ずヘッドとしての基本構造であ
る磁極−ギャップ−磁極の要素機能は、高透磁率材基板
１上に次々に成膜される第１の磁極としての高飽和磁束
密度材４と、キャップ材７、第２磁極としての高飽和磁
束密度材８とによって満たされる。ヘッド摺動面上にお
いて、高透磁率材基板１と高飽和磁束密度材４との境界
は、キャップ６に対し非平行になって治り、コンタ−効
果の出現を抑圧できる。

第１図から明らかな様に本例の磁気ヘッドは突合せのな
い従来のＰタイプＭＩＧヘッドと殆んど同様の構造を有
し、製造工程が容易である上にトラック幅の決定も正確
に行える。

以上のような構造上の特徴を有するヘッドの製造法を第
２図〜第９図を用いて説明する。

先ずフェライト単結晶などの直方体状のブロックｌの一
つの稜部に複数の切溝２を設ける（第２図（Ａ））。こ
れらの切溝２はその先端の幅がトラック幅と等しいかも
しくは太き（なるように加工される。

次いで、第２図（Ｂ）に示すように切溝２に直交する巻
線窓用溝３をブロックｌの両端面に貫通するように設け
た後、スパッタ等の薄膜形成技術を用いて、ブロック１
の切溝２、巻線窓用溝３側の全面に金属磁性膜４を被着
する。この金属磁性膜４は第２図（Ｃ）に示すように、
ブロック１の平面部だけでなく、切溝２２巻線窓用溝３
の壁面にも及ぶ全域にわたって形成する。

次にアルミ等の細線６またはガラス等の非磁性体から成
る中空パイプを巻線窓用溝３に落とし込み、金属磁性膜
４が成膜された切溝２９巻巻線窓用溝３側、融点が５５
０°Ｃ〜６００°Ｃ程度の第１の低融点ガラス５で埋め
込む。尚、ガラスの中空パイプを用いる場合には、第１
の低融点ガラス５よりも高融点のカラスを使う必要が有
る（第２図（Ｄ））。

第２図（Ｅ）では切溝２と巻線窓用溝３を第１の低融点
ガラス５で埋め込んだ後、ギャップ面を形成するため平
面ラップし、ＳｉＯ２等のギャヤップ材７を所定の膜厚
付成膜した状態を示す。

続いて第２図（Ｆ）に示すように第２の金属磁性膜８を
成膜する。第２図（Ｇ）ではギャップ近傍のトラック幅
を規制するための切溝９を加工した状態を示す。尚、溝
を低融点ガラスで埋める際には、金属磁性膜と低融点ガ
ラスとの反応を防ぐため、溝面に現われた金属磁性膜面
上にＣｒ、ＣｒＯ２等の金属膜、金属酸化膜を薄く成膜
しておくと良い。

第２図（Ｈ）はトラック幅加工用の溝９を利用し、予め
用意した保護ブロック１０〜１２を融点が５０００Ｃ〜
５５００Ｃ程の第２の低融点ガラス１３で溶着した様子
を示す。保護ブロックの上部、摺動面側は非磁性材１０
、下部はフェライト単結晶等の高透磁率材１１であり、
２つの部材は融点が５５０６Ｃ〜６００°Ｃ程の第３の
低融点カラス等の接着剤１２で接着されている。このコ
アブロックから点線Ｌ１〜Ｌ２で示したように切出した
チップをカセイソーダ水溶液に浸漬す゛るなどして巻線
窓用溝に埋められた金属棒６を溶解除去し、巻線窓を形
成する。ここで金属棒のかわりにカラス等の中空パイプ
を使用した場合には、上記の操作は必要ない。この後、
摺動面等の外形加工を終えたヘッドチップの概略斜視図
が第１図である。

アジマス記録用のヘッドの場合、第２図（Ｈ）のように
キャップ長さ方向に対し垂直に切出すのではなく必要な
角度をつけて切ればよい。

本発明の第１図と類似の他の実施例につき、その摺動面
上の構成を第３図（ａ）〜（ｆ）に示す。いずれも、（
１）高飽和磁束密度材磁極４と高透磁率材１の境界はギ
ャップ７と非平行で、（２）ギャップ長さ、従ってトラ
ック幅を規制するコア先端部境界線はほぼ平行で、（３
）第３の溝９の加工によって現われるフェライト表面に
は高飽和磁束密度材は成膜されていないという共通する
構成をもっている。

構成の一部が異なる他の実施例をヘッドの斜視図として
第４図〜第６図に示す。

第４図ではギャップ材７を下部コア側にまで形成してい
る。第５図では保護板全体が非磁性体１４で構成されて
いる。さらに第６図では保護板だけでな（コア自体もフ
ェライト等の高透磁率材ではなく非磁性体１５で構成さ
れている。

以上第４図〜第６図に示した実施例は第１図の実施例に
於ける構成の一部分を変更したものであるが、これらを
組合わせて実施することも可能である。

〔発明の効果〕

以上説明した様に本発明によれば、製造工程が容易でト
ラック幅を正確に決定でき、かつコンタ−効果による電
磁変換特性への悪影響を抑圧できる磁気ヘッドを得るこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例としての磁気ヘッドの構成を
示す斜視図、 第２図（Ａ）〜（Ｈ）は第１図に示す磁気ヘッドの製造
工程を示す図、 第３図（ａ）〜（ｆ）は夫々第１図に示す磁気ヘッドの
第１の磁性膜の形状の変形例を示す図、第４図〜第６図
は夫々第１図の磁気ヘッドとは異なる構造を有する更に
他の実施例としての磁気ヘッドを示す斜視図、 第７図は従来の磁気ヘッドの構造の一例を示す斜視図で
ある。 １はフェライト単結晶などの高透磁率材ブロック、４は
第１の磁性膜としての合金磁性材などの高飽和磁束密度
材、 ５．１３は低融点ガラス、 ７はキャップとなる絶縁膜、 ８は第２の磁性膜としての合金磁性材などの高飽和磁束
密度材、 １６は巻線窓である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 巻線用溝が形成されている高透磁率材ブロックと、該ブ
   ロックの前記巻線用溝の形成されている側の前記巻線溝
   内及び該溝より媒体摺動面側に形成された高飽和磁束密
   度材よりなる第１の磁性膜と、該第１の磁性膜上に形成
   された磁気ギャップとなる絶縁膜と、該絶縁膜上に形成
   され高飽和磁束密度材よりなる第２の磁性膜と、夫々前
   記第１及び第２の磁性膜の両端と接する一対の非磁性部
   とを具え、前記第１の磁性膜と前記高透磁率材との境界
   を媒体摺動面に於いて前記絶縁膜と非平行としたことを
   特徴とする磁気ヘッド。