JPS63280206A - 光接続回路 - Google Patents

光接続回路

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JPS63280206A
JPS63280206A JP11454587A JP11454587A JPS63280206A JP S63280206 A JPS63280206 A JP S63280206A JP 11454587 A JP11454587 A JP 11454587A JP 11454587 A JP11454587 A JP 11454587A JP S63280206 A JPS63280206 A JP S63280206A
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JP
Japan
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light emitting
optical waveguide
optical
emitting element
substrate
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Pending
Application number
JP11454587A
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English (en)
Inventor
Toshiya Miyagawa
俊哉 宮川
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPS63280206A publication Critical patent/JPS63280206A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
    • G02B6/4249Packages, e.g. shape, construction, internal or external details comprising arrays of active devices and fibres

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、発・受光素子その他の光デバイスと光導波路
の光接続のための光接続回路に関するものである。
〔従来の技術〕
光通信の発展に伴い、基板上に半導体レーザー(以下L
Dと略す)や光スィッチ等の光機能素子をハイブリッド
に集積し、これらの素子間を光導波路で結ぶ光回路が開
発されている。そして、光通信の利用度、重要性が高ま
るにつれ、これらの光導波路と光機能素子あるいは光導
波路アレイと光機能素子アレイの光接続回路では、特に
高精度で低損失かつ生産性のよい光接続回路が必要とさ
れてきている。
従来、この種の光接続回路としては、多数の方法による
ものが提案されているが、この一方法として、次のよう
な方法が知られている。第4図のように、この方法では
、シリコン基板1上に多モードの光導波路2を有し、か
つ光導波路端部3近傍にLDガイド4が形成されている
ものを用意し、これをLD5と組み合わせる。この場合
、横方向の位置合わせは、LD5のp側を上にしてLD
ガイド4の側面とLD5の端面を突き合わせ、LDガイ
ド4に平行にずらし、LD5の受光チャンネルを埋め込
んだ際に、LD5のp側にできる活性層ストライプ6を
目安として、LD発光チャンネルと光導波路2の位置合
わせを行い融着する。
また、上下方向の位置合わせについては、LD5のn側
を研磨することにより活性層が導波路の中央に位置する
ように調整しておく。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、この従来例では、横方向の位置合わせについて
は、幅数10μmの光導波路2と幅1μm程度の活性層
ストライプ6を目安とするため、LD発光チャンネルを
光導波路2の中心に正確に合わせるためには熟練が必要
とされる。
特に、単一モード光導波路では、接続損失を低減するた
めに±1μmの位置合わせ精度が要求され、従来例の方
法では不可能である。
また、単一モード光導波路では、シリコン基板1から光
導波路2中心までの高さは、5〜10μm程度と多モー
ド光導波路に比べ非常に小さく、LDをこの厚さまで研
磨することは不可能である。
この問題はLDの成長層であり、発光チャンネルに近い
p側を下にして融着することにより解決できる。しかし
、p側を下にするときは、活性層ストライプはp側にし
かないため、これでは横方向の位置合わせの目安がなく
なってしまい、従来例の方法では位置合わせすることが
できない。
本発明の目的は、手間のかかる調整を行わずに簡単かつ
容易に実装が可能で、生産性の向上も図れる光接続回路
を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の光接続回路は、 発光チャンネルを有する突起部が一面に形成された発光
素子と、 基板上に形成された光導波路と、 この光導波路の一端側において前記突起部と等しい幅で
前記基板に形成されていて、前記突起部とかみ合わされ
ている案内溝とを有することを特徴としている。
〔作用〕
本発明の構成をとることにより、発光素子の突起部と基
板上に形成した案内溝をかみ合わせることにより、発光
素子実装時の発光チャンネルと光導波路の高さ方向、横
方向、及び基板面内の傾きの位置合わせが無調整で行え
る。
発光素子および光導波路と案内溝の加工はフォトリソグ
ラフィ法により、同時にまとめて大量に作製でき、本発
明によれば、光接続回路の実装にかかる時間の大部分を
占めていた調整が不要となるため、大幅な生産性の向上
が実現できる。
また、位置合わせの目安が必要でないため発光素子のp
側及びn側のどちらを下にして実装することも可能であ
る。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の構造を示す斜視図であり、
また、第2図はその基本的構造の説明図である。
本実施例は、LDアレイと複数の光導波路を接続する場
合の光接続回路に適用したもので、各図に示すように、
シリコン基板1上には複数の光導波路2及び各光導波路
2と中心軸を同じくする複数の案内溝7が形成されてい
る。
各光導波路2は、光導波路コア層12と光導波路バッフ
ァ層11から成り、各案内溝7はそれぞれこの光導波路
2の一端の延長線上に位置しており、またその底部には
融着用無電極取出し用の金属膜10が形成されている(
第1図)。
端面発光型発光素子としてのLD5のp側多こは、各発
光チャンネル8を中心に、両側を削り落とすことにより
、複数の突起部9が形成されている。
突起部9は、図示の場合は底面に形成されており、案内
溝7の幅と突起部9の幅とは等しく設定されている。こ
れら突起部9は、シリコン基板1例の各案内溝7とかみ
合わせることによりLD5の実装を行うためのもので、
案内溝7と突起部9とは正確にかみ合うように形成され
、かつかみ合わせた時、光導波路2の中心軸とLD5の
発光チャンネル8が一致するように形成されている。
このように、上面ないし底面に発光チャンネル8をはさ
んで発光チャンネル8に平行な稜線を有する突起部9を
持つ端面発光型発光素子と、基板1上に形成された光導
波路2及び基板1上の光導波路2の一端の延長線上に光
導波路2の中心軸と平行で、かつ突起部9と等しい幅の
案内溝7とから成り、突起部9の中心軸から発光チャン
ネル8までの横ズラシ量と光導波路中心から案内溝7の
中心軸までの横ズラシ量が等しく、光導波路中心から案
内溝7底部までの深さを、突起部9から発光チャンネル
中心までの高さと等しくして、発光素子と案内溝9をか
み合わせた構成となっている。
LD5の実装は次のようにして行う。
第2図に示すように、それぞれあらかじめ突起部9と案
内溝7を形成したものを用意し、突起部9を案内溝7に
かみ合わせるようにして両者を結合させる。この場合、
既述したように、案内溝7と突起部9を正確にかみ合う
ように形成し、かつかみ合わせた時、光導波路2の中心
軸とLD5の発光チャンネル8が一致するように形成し
てお(ことにより、横方向の位置合わせは不要となる。
横方向の位置合わせについては、LD5の突起部9端面
と光導波路2の端面を突き合わせることにより行う。案
内溝7と突起部9をかみ合わせることにより、基板面内
の傾きの調整が不要となることも明らかである。あらか
じめ突起部9を形成しておくことにより、LD5のp側
、n側どちらを下にして実装することも可能となる。
また、高さ方向の位置合わせは、案内溝7の底部のシリ
コン基板1上に形成したLD融融着蓋兼電極取出用金属
膜10の膜厚と光導波路バッファ層11の膜厚をあらか
じめ制御しておくことにより行う。
以上説明した方法によれば、シリコン基板1とLD5の
凹凸を組み合わせることにより、横方向、高さ方向及び
傾きを無調整でLD5の実装が行える。
さらに、LDアレイの各チャンネル間に凹部を作成する
ことにより、各チャンネル間の電気的な絶縁もとれる。
さらにまた、LDアレイを駆動するためには、従来例で
は各チャンネルのp側電極に電線をボンディングしなけ
ればならず、チャンネル数が増えると煩雑になるが、本
実施例では、融材を兼ねた電極パターン、すなわち金属
膜10を基板1側に作成するためこの手間がいらない。
なお、光導波路2と案内溝7は、シリコン基板1上に成
膜したバッファ層11及びコア層12を反応性イオンエ
ツチング等の方法によりパターン化し、さらに、フォト
レジストをマスクとして溝底部に融着層兼電極取出し用
金属膜10を蒸着することにより、同時に形成すること
ができる。
また、LDアレイの突起部9はLDの活性層ストライブ
を中心に金属膜をマスクとしてイオンミリング等の方法
により発光チャンネル間を堀り込むことにより作成する
ことができる。この場合、突起部9に残る金属膜はその
まま融材として利用することができる。
第3図は本発明の他の実施例を示す。本実施例では、ア
レイの各チャンネル間に凹凸を作成せずに、アレイ全体
を一組の凹凸で組み合わせた例であり、1つの幅広の突
起部9とこれに対応する1つの幅広の案内溝7とをかみ
合わせて実装している。
なお、以上の説明では、LDアレイについて説明したが
、本発明はこれに限定されるものではなく、単一チャン
ネルのLDについても、本発明を適用できるのは勿論で
ある。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、発光素子及び光
導波路基板にあらかじめ突起部や案内溝を設けておくこ
とにより、目合わせの印を利用したり、光導波路に入射
する発光素子の出力光をモニターしながら調整するとい
う手数がかからずに、無調整かつ精密に発光素子を実装
することが可能である。
また、突起部や案内溝の形成は、数10から数100個
の単位で一括して行うことができるから、この工程が増
えることを考慮に入れても、従来実装にかかる時間の大
部分を占めていた調整が不要となるため、大幅な生産性
の向上も可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す斜視図、第2図はその
実施例の基本的構造における実装説明図、 第3図は本発明の他の実施例を示す斜視図、第4図は従
来例の構成を示す斜視図である。 1・・・・・シリコン基板 2・・・・・光導波路 3・・・・・光導波路端部 4・・・・・LDガイド 5・・・・・LD 6・・・・・活性層ストライプ 7・・・・・案内溝 8・・・・・発光チャンネル 9・・・・′・突起部 10・・・・・金属膜 11・・・・・光導波路バッファ層 12・・・・・光導波路コア層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)発光チャンネルを有する突起部が一面に形成され
    た発光素子と、 基板上に形成された光導波路と、 この光導波路の一端側において前記突起部と等しい幅で
    前記基板に形成されていて、前記突起部とかみ合わされ
    ている案内溝とを有することを特徴とする光接続回路。
  2. (2)特許請求の範囲第1項に記載の光接続回路におい
    て、 前記発光素子は、端面発光型発光素子であることを特徴
    とする光接続回路。
JP11454587A 1987-05-13 1987-05-13 光接続回路 Pending JPS63280206A (ja)

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