JPS63275187A - 二層構造を有する透明導電膜体 - Google Patents
二層構造を有する透明導電膜体Info
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- JPS63275187A JPS63275187A JP62111471A JP11147187A JPS63275187A JP S63275187 A JPS63275187 A JP S63275187A JP 62111471 A JP62111471 A JP 62111471A JP 11147187 A JP11147187 A JP 11147187A JP S63275187 A JPS63275187 A JP S63275187A
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
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- H01L31/022466—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は酸化錫を主成分とする二層構造をもった透明導
電膜、特に太@電池用透明導電膜に関する。
電膜、特に太@電池用透明導電膜に関する。
近年、透明導電基板に非晶質シリコン(a−8i)を用
いた光電変換素子を形成し、次いでA1等の電極を形成
した低コストの太陽電池が知られている。かかるa−8
i太陽電池は光電変換効率が他の結晶半導体を用いた太
陽電池に比べて低いことから、それを大にするため種々
の対策が施されている0 その一つとして光入射側の透明電極の透過率を最大限に
大きくシ、かつ面積抵抗を下げることが考えられる。こ
れまで面積抵抗の小さい透明ib膜として酸化錫にフッ
素をドープした膜(以下5n02 : F膜と記す)が
提案されていた。しかしながら一方で酸化錫膜にフッ素
をドープすることにより、膜の光透過率が低下する現象
が明らかになり、低抵抗・高透過率透明導電膜を得るた
めの障害となっている。
いた光電変換素子を形成し、次いでA1等の電極を形成
した低コストの太陽電池が知られている。かかるa−8
i太陽電池は光電変換効率が他の結晶半導体を用いた太
陽電池に比べて低いことから、それを大にするため種々
の対策が施されている0 その一つとして光入射側の透明電極の透過率を最大限に
大きくシ、かつ面積抵抗を下げることが考えられる。こ
れまで面積抵抗の小さい透明ib膜として酸化錫にフッ
素をドープした膜(以下5n02 : F膜と記す)が
提案されていた。しかしながら一方で酸化錫膜にフッ素
をドープすることにより、膜の光透過率が低下する現象
が明らかになり、低抵抗・高透過率透明導電膜を得るた
めの障害となっている。
これを解決する手段の一つとして、特願昭J/−tpp
gg号では第2図に示されるように透明基板上ニ5n0
2 : F Iif+’4を形成し、その拶、該5n0
2:F膜上に、塩素以外のハロゲンを含まない酸化銅膜
(以下5n02 : OJ膜と記す)を形成した二層構
造を有する透明導電膜体(以下5n02 :Cl/5n
02 : F二層膜と記す)を透明電極として用いるこ
とが提案されている。透明導電膜体全体の厚みに対する
フッ素ドープ酸化錫膜の厚みの割合を50%未満とする
ことで、同じ厚みの5n02ClIIf−より面積抵抗
が小さく、また同じ厚みの5n02 : F膜より透過
率の高い透明導電膜体か得られるので、5n02 :
Gll / 5n02:F二層膜を透明電極として用い
た場合には、同じ厚みの5n02 : (J膜または5
n02 :F膜の単層膜を透明電極として用いるよりも
太陽電池の光電変換効率が大となる。
gg号では第2図に示されるように透明基板上ニ5n0
2 : F Iif+’4を形成し、その拶、該5n0
2:F膜上に、塩素以外のハロゲンを含まない酸化銅膜
(以下5n02 : OJ膜と記す)を形成した二層構
造を有する透明導電膜体(以下5n02 :Cl/5n
02 : F二層膜と記す)を透明電極として用いるこ
とが提案されている。透明導電膜体全体の厚みに対する
フッ素ドープ酸化錫膜の厚みの割合を50%未満とする
ことで、同じ厚みの5n02ClIIf−より面積抵抗
が小さく、また同じ厚みの5n02 : F膜より透過
率の高い透明導電膜体か得られるので、5n02 :
Gll / 5n02:F二層膜を透明電極として用い
た場合には、同じ厚みの5n02 : (J膜または5
n02 :F膜の単層膜を透明電極として用いるよりも
太陽電池の光電変換効率が大となる。
しかしながら、5no2 :CIJ膜は5n02:
F膜よりも面積抵抗が大きいため、最表面が5n02
:Cl 膜であるような構造の前記二層膜を透明電極
として用いた太陽電池では、光電変換効率の向上に限度
があった。
F膜よりも面積抵抗が大きいため、最表面が5n02
:Cl 膜であるような構造の前記二層膜を透明電極
として用いた太陽電池では、光電変換効率の向上に限度
があった。
本発明は前記問題点を解決するためになされたものであ
って、光電素子の光電変換効率を高めるのに好適な光電
素子用透明導電膜体を提供することを目的としている。
って、光電素子の光電変換効率を高めるのに好適な光電
素子用透明導電膜体を提供することを目的としている。
この目的を達成するために、この発明は、透明基板上に
設けられたフッ素を含まない酸化銅を主成分とする透明
導電膜上にフッ素を含む酸化錫を主成分とする透明導電
膜を設けてなる二層構造を有する透明導電膜体である。
設けられたフッ素を含まない酸化銅を主成分とする透明
導電膜上にフッ素を含む酸化錫を主成分とする透明導電
膜を設けてなる二層構造を有する透明導電膜体である。
すなわち本発明は、(1)まず高温に加熱した透明基板
上に塩素以外のハロゲンを含まず、塩素を含む錫化合物
を接触させるか、またはハロゲンを含まない錫化合物と
HO2等の塩素を含む化合物を接触させて熱分解酸化反
応により、該透明基板上に5n02 :CIJ膜を形成
し、(2)次いでこの5n02:C/ g!を堆積した
透明基板を加熱し、錫化合物及びフッ素を含む化合物を
接触させて熱分解酸化反応により該5n02 : Ol
膜上に5n02:F膜を堆積させた二層構造を有する透
明導電膜体(以下5n02 : F/ 5n02 ’C
1二層膜と記す)である。
上に塩素以外のハロゲンを含まず、塩素を含む錫化合物
を接触させるか、またはハロゲンを含まない錫化合物と
HO2等の塩素を含む化合物を接触させて熱分解酸化反
応により、該透明基板上に5n02 :CIJ膜を形成
し、(2)次いでこの5n02:C/ g!を堆積した
透明基板を加熱し、錫化合物及びフッ素を含む化合物を
接触させて熱分解酸化反応により該5n02 : Ol
膜上に5n02:F膜を堆積させた二層構造を有する透
明導電膜体(以下5n02 : F/ 5n02 ’C
1二層膜と記す)である。
本発明中、5n02°C1膜の形成に用いることのでき
る錫化合物は塩素以外のハロゲンを含まない錫化合物、
特に塩素を含む錫化合物が好ましいが、塩素を含まない
銅化合物を用いる場合にはHCl等の塩素を含む化合物
を原料中に混入すればよい。
る錫化合物は塩素以外のハロゲンを含まない錫化合物、
特に塩素を含む錫化合物が好ましいが、塩素を含まない
銅化合物を用いる場合にはHCl等の塩素を含む化合物
を原料中に混入すればよい。
塩素を含む錫化合物としてはC4Hg5n(J3 、5
n(314及び(OH3)2SnO12等を用いること
かでき、塩素を含まない錫化合物としては(CnH2n
+1)4Sn (但しn=/−1I) 、 (OH3)
2SnH2、(C4Hg)3SnH,及び(CaI2)
asn(CCIOCH3)a等を用いることかできる。
n(314及び(OH3)2SnO12等を用いること
かでき、塩素を含まない錫化合物としては(CnH2n
+1)4Sn (但しn=/−1I) 、 (OH3)
2SnH2、(C4Hg)3SnH,及び(CaI2)
asn(CCIOCH3)a等を用いることかできる。
また5n02 : F膜の形成には・、前記全ての錫化
合物を用いることができ、フッ素を含む化合物としては
CH30H2F2.0H3CCj?F2 、CHG11
F2+CHF3+0F2CI12+CF3G1.CF3
Brを用いることができる。
合物を用いることができ、フッ素を含む化合物としては
CH30H2F2.0H3CCj?F2 、CHG11
F2+CHF3+0F2CI12+CF3G1.CF3
Brを用いることができる。
本発明において、これらの錫化合物を加熱した透明基板
に接触させて熱分解酸化反応をさせるには錫化合物蒸気
と酸化性ガスを高温の透明基板にか 接触させる気相化学反応法(CVD法)′Pil化合物
の溶液をスプレーで高温の透明基板に吹き付けるスプレ
ー法等により行うことができる。中でもpoo″c−t
oo”cに加熱された透明基板に錫化合物の蒸気、酸化
性ガス等の混合気体を接触させて、5n02:Cl膜と
5n02 : F膜からなる二層構造を有する透明導電
膜体を付着させるCVD法が好んで用いられる。
に接触させて熱分解酸化反応をさせるには錫化合物蒸気
と酸化性ガスを高温の透明基板にか 接触させる気相化学反応法(CVD法)′Pil化合物
の溶液をスプレーで高温の透明基板に吹き付けるスプレ
ー法等により行うことができる。中でもpoo″c−t
oo”cに加熱された透明基板に錫化合物の蒸気、酸化
性ガス等の混合気体を接触させて、5n02:Cl膜と
5n02 : F膜からなる二層構造を有する透明導電
膜体を付着させるCVD法が好んで用いられる。
本発明において、5n02 :F / 5n02 :
Gl二層膜全体の厚みは014μm乃至へ〇μmとする
のであるが、特に光電変換効率を高くするためには全体
の膜厚に対する5n02 : F膜の膜厚の割合を!%
以上r。
Gl二層膜全体の厚みは014μm乃至へ〇μmとする
のであるが、特に光電変換効率を高くするためには全体
の膜厚に対する5n02 : F膜の膜厚の割合を!%
以上r。
%未満、好ましくはIO%以上SO%未満とすることが
望ましい。前記膜厚の割合がオ%未満では光電素子の変
換効率が著しく低くなる。
望ましい。前記膜厚の割合がオ%未満では光電素子の変
換効率が著しく低くなる。
二層構造をもつ透明電極において、最表面の透明導電膜
を5n02:Flgとすることで、透明導電膜体全体の
膜厚が同じでかつ全体の膜厚に対する5n02 : F
膜厚の割合の等しい3n02 :Ol/5n02 :l
j’二層膜と比べて透過率が等しく、より面積抵抗が低
い透明導電膜体が得られるので光電素子の変換効率を高
めることができる。
を5n02:Flgとすることで、透明導電膜体全体の
膜厚が同じでかつ全体の膜厚に対する5n02 : F
膜厚の割合の等しい3n02 :Ol/5n02 :l
j’二層膜と比べて透過率が等しく、より面積抵抗が低
い透明導電膜体が得られるので光電素子の変換効率を高
めることができる。
大きさが、2.t(am)x30(mm) 、厚味/、
/(mm)の酸化珪素被膜付ソーダライムガラスを十分
に洗浄、乾燥しガラス基板とした。このガラス基板上に
以下のようにして透明導電膜を付着した。
/(mm)の酸化珪素被膜付ソーダライムガラスを十分
に洗浄、乾燥しガラス基板とした。このガラス基板上に
以下のようにして透明導電膜を付着した。
モノブチル錫トリクロライドの蒸気、水蒸気、酸素ガス
および窒素ガスの劇忙された混合気体を用いCVD法に
よりsso”cに加熱されたガラス基板上に3n02
: C1l膜を形成した。
および窒素ガスの劇忙された混合気体を用いCVD法に
よりsso”cに加熱されたガラス基板上に3n02
: C1l膜を形成した。
この5no2: C1)膜を堆積させたガラス基板を!
りOoCに加熱し、モノブチル錫トリクロライドの蒸気
、水蒸気、酸素ガス、/、/−ジフルオロエタンガスお
よび窒素ガスの調整された混合気体を用いCVD法によ
り塩素以外のハロゲンを含まない酸化錫膜上に5r10
2:F膜を形成した。
りOoCに加熱し、モノブチル錫トリクロライドの蒸気
、水蒸気、酸素ガス、/、/−ジフルオロエタンガスお
よび窒素ガスの調整された混合気体を用いCVD法によ
り塩素以外のハロゲンを含まない酸化錫膜上に5r10
2:F膜を形成した。
第1図に本発明による5n02 ; F / 5n02
: 013二層膜を有する透明導電膜体の構造を示す
。
: 013二層膜を有する透明導電膜体の構造を示す
。
5n02 : C1膜及び5n02:F膜を形成する際
、それぞれの成膜時間を変えることで、透明導電膜体全
体の膜厚がO0♂jμmで、全体の膜厚に対する5no
2:F膜の膜厚の割合Xが、O2り、 /LJ 、27
、 jJ 。
、それぞれの成膜時間を変えることで、透明導電膜体全
体の膜厚がO0♂jμmで、全体の膜厚に対する5no
2:F膜の膜厚の割合Xが、O2り、 /LJ 、27
、 jJ 。
ケタ、t 、 73及び100%であるようなr種類の
試料を得た。以下これらの試料をAと呼ぶ。
試料を得た。以下これらの試料をAと呼ぶ。
比較のためにSnO2:C1膜と5n02 :F膜の形
成の順序を逆にした5n02 : Ol/ 5n02
:li’二層膜を形成した。上述の膜厚比Xの値が/3
,2t、!;、30.tjおよび7t、3%であるよう
な5種類の試料を得た。
成の順序を逆にした5n02 : Ol/ 5n02
:li’二層膜を形成した。上述の膜厚比Xの値が/3
,2t、!;、30.tjおよび7t、3%であるよう
な5種類の試料を得た。
以下これらの試料をBと呼ぶ。
これらの試料について可視光透過率および面積抵抗を測
定した。第3図に、得られた測定結果を示す。図より明
らかなようにXによらずAとBの透過率は等しく、同じ
XではAの方がBよりも面積抵抗が小さい。
定した。第3図に、得られた測定結果を示す。図より明
らかなようにXによらずAとBの透過率は等しく、同じ
XではAの方がBよりも面積抵抗が小さい。
本発明によれば実施例からも明らかなとおり、低抵抗高
透過率を有する透明導電膜体を得ることができる。特に
低抵抗であることから、本発明を大面積太陽電池用透明
導電膜体として用いた場合にその効果が大きい。
透過率を有する透明導電膜体を得ることができる。特に
低抵抗であることから、本発明を大面積太陽電池用透明
導電膜体として用いた場合にその効果が大きい。
また本発明は太陽電池以外の光電素子用透明導電膜体と
して利用できることは明らかである。
して利用できることは明らかである。
第1図は本発明による透明導電膜体の構造を示す断面図
であり、第2図は従来の透明導電膜体の構造を示す断面
図である。第3図は本発明の透明導電膜体と従来の透明
導電膜体について、透明導電膜体全体の膜厚に対する7
ソ素ドープ酸化錫膜の膜厚比と透過率、m1積抵抗との
関係を示すグラフである。 l・・・基体(カラス) A・・本発明によるもの2・
・・5n02 :01膜 B・・・・・従来のもの3・
・・・・5n02 :F膜 第1図 第2図
であり、第2図は従来の透明導電膜体の構造を示す断面
図である。第3図は本発明の透明導電膜体と従来の透明
導電膜体について、透明導電膜体全体の膜厚に対する7
ソ素ドープ酸化錫膜の膜厚比と透過率、m1積抵抗との
関係を示すグラフである。 l・・・基体(カラス) A・・本発明によるもの2・
・・5n02 :01膜 B・・・・・従来のもの3・
・・・・5n02 :F膜 第1図 第2図
Claims (4)
- (1)透明基板上に設けられたフッ素を含まない酸化錫
を主成分とする透明導電膜上にフッ素を含む酸化錫を主
成分とする透明導電膜を設けてなる二層構造を有する透
明導電膜体。 - (2)該フッ素を含まない酸化錫を主成分とする透明導
電膜が、塩素以外のハロゲンを含まない酸化錫を主成分
とする透明導電膜である特許請求の範囲第1項に記載の
二層構造を有する透明導電膜体。 - (3)該二層構造を有する透明導電膜体の膜厚が0.6
μm乃至1.0μmである特許請求の範囲第1項または
第2項に記載の二層構造を有する透明導電膜体。 - (4)該二層構造を有する透明導電膜体の膜厚に対する
フッ素を含む酸化錫を主成分とする透明導電膜の膜厚の
割合が5%以上、50%未満である特許請求の範囲第3
項に記載の二層構造を有する透明導電膜体。
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