JPS63275187A - 二層構造を有する透明導電膜体 - Google Patents

二層構造を有する透明導電膜体

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JPS63275187A
JPS63275187A JP62111471A JP11147187A JPS63275187A JP S63275187 A JPS63275187 A JP S63275187A JP 62111471 A JP62111471 A JP 62111471A JP 11147187 A JP11147187 A JP 11147187A JP S63275187 A JPS63275187 A JP S63275187A
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昌宏 平田
Masao Misonoo
雅郎 御園生
Hideo Kawahara
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は酸化錫を主成分とする二層構造をもった透明導
電膜、特に太@電池用透明導電膜に関する。
〔従来の技術〕
近年、透明導電基板に非晶質シリコン(a−8i)を用
いた光電変換素子を形成し、次いでA1等の電極を形成
した低コストの太陽電池が知られている。かかるa−8
i太陽電池は光電変換効率が他の結晶半導体を用いた太
陽電池に比べて低いことから、それを大にするため種々
の対策が施されている0 その一つとして光入射側の透明電極の透過率を最大限に
大きくシ、かつ面積抵抗を下げることが考えられる。こ
れまで面積抵抗の小さい透明ib膜として酸化錫にフッ
素をドープした膜(以下5n02 : F膜と記す)が
提案されていた。しかしながら一方で酸化錫膜にフッ素
をドープすることにより、膜の光透過率が低下する現象
が明らかになり、低抵抗・高透過率透明導電膜を得るた
めの障害となっている。
これを解決する手段の一つとして、特願昭J/−tpp
gg号では第2図に示されるように透明基板上ニ5n0
2 : F Iif+’4を形成し、その拶、該5n0
2:F膜上に、塩素以外のハロゲンを含まない酸化銅膜
(以下5n02 : OJ膜と記す)を形成した二層構
造を有する透明導電膜体(以下5n02 :Cl/5n
02 : F二層膜と記す)を透明電極として用いるこ
とが提案されている。透明導電膜体全体の厚みに対する
フッ素ドープ酸化錫膜の厚みの割合を50%未満とする
ことで、同じ厚みの5n02ClIIf−より面積抵抗
が小さく、また同じ厚みの5n02 : F膜より透過
率の高い透明導電膜体か得られるので、5n02 : 
Gll / 5n02:F二層膜を透明電極として用い
た場合には、同じ厚みの5n02 : (J膜または5
n02 :F膜の単層膜を透明電極として用いるよりも
太陽電池の光電変換効率が大となる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、5no2 :CIJ膜は5n02:  
F膜よりも面積抵抗が大きいため、最表面が5n02 
:Cl  膜であるような構造の前記二層膜を透明電極
として用いた太陽電池では、光電変換効率の向上に限度
があった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は前記問題点を解決するためになされたものであ
って、光電素子の光電変換効率を高めるのに好適な光電
素子用透明導電膜体を提供することを目的としている。
この目的を達成するために、この発明は、透明基板上に
設けられたフッ素を含まない酸化銅を主成分とする透明
導電膜上にフッ素を含む酸化錫を主成分とする透明導電
膜を設けてなる二層構造を有する透明導電膜体である。
すなわち本発明は、(1)まず高温に加熱した透明基板
上に塩素以外のハロゲンを含まず、塩素を含む錫化合物
を接触させるか、またはハロゲンを含まない錫化合物と
HO2等の塩素を含む化合物を接触させて熱分解酸化反
応により、該透明基板上に5n02 :CIJ膜を形成
し、(2)次いでこの5n02:C/ g!を堆積した
透明基板を加熱し、錫化合物及びフッ素を含む化合物を
接触させて熱分解酸化反応により該5n02 : Ol
膜上に5n02:F膜を堆積させた二層構造を有する透
明導電膜体(以下5n02 : F/ 5n02 ’C
1二層膜と記す)である。
本発明中、5n02°C1膜の形成に用いることのでき
る錫化合物は塩素以外のハロゲンを含まない錫化合物、
特に塩素を含む錫化合物が好ましいが、塩素を含まない
銅化合物を用いる場合にはHCl等の塩素を含む化合物
を原料中に混入すればよい。
塩素を含む錫化合物としてはC4Hg5n(J3 、5
n(314及び(OH3)2SnO12等を用いること
かでき、塩素を含まない錫化合物としては(CnH2n
+1)4Sn (但しn=/−1I) 、 (OH3)
2SnH2、(C4Hg)3SnH,及び(CaI2)
asn(CCIOCH3)a等を用いることかできる。
また5n02 : F膜の形成には・、前記全ての錫化
合物を用いることができ、フッ素を含む化合物としては
CH30H2F2.0H3CCj?F2 、CHG11
F2+CHF3+0F2CI12+CF3G1.CF3
Brを用いることができる。
本発明において、これらの錫化合物を加熱した透明基板
に接触させて熱分解酸化反応をさせるには錫化合物蒸気
と酸化性ガスを高温の透明基板にか 接触させる気相化学反応法(CVD法)′Pil化合物
の溶液をスプレーで高温の透明基板に吹き付けるスプレ
ー法等により行うことができる。中でもpoo″c−t
oo”cに加熱された透明基板に錫化合物の蒸気、酸化
性ガス等の混合気体を接触させて、5n02:Cl膜と
5n02 : F膜からなる二層構造を有する透明導電
膜体を付着させるCVD法が好んで用いられる。
本発明において、5n02 :F / 5n02 : 
Gl二層膜全体の厚みは014μm乃至へ〇μmとする
のであるが、特に光電変換効率を高くするためには全体
の膜厚に対する5n02 : F膜の膜厚の割合を!%
以上r。
%未満、好ましくはIO%以上SO%未満とすることが
望ましい。前記膜厚の割合がオ%未満では光電素子の変
換効率が著しく低くなる。
〔作 用〕
二層構造をもつ透明電極において、最表面の透明導電膜
を5n02:Flgとすることで、透明導電膜体全体の
膜厚が同じでかつ全体の膜厚に対する5n02 : F
膜厚の割合の等しい3n02 :Ol/5n02 :l
j’二層膜と比べて透過率が等しく、より面積抵抗が低
い透明導電膜体が得られるので光電素子の変換効率を高
めることができる。
〔実 施 例〕
大きさが、2.t(am)x30(mm) 、厚味/、
/(mm)の酸化珪素被膜付ソーダライムガラスを十分
に洗浄、乾燥しガラス基板とした。このガラス基板上に
以下のようにして透明導電膜を付着した。
モノブチル錫トリクロライドの蒸気、水蒸気、酸素ガス
および窒素ガスの劇忙された混合気体を用いCVD法に
よりsso”cに加熱されたガラス基板上に3n02 
: C1l膜を形成した。
この5no2: C1)膜を堆積させたガラス基板を!
りOoCに加熱し、モノブチル錫トリクロライドの蒸気
、水蒸気、酸素ガス、/、/−ジフルオロエタンガスお
よび窒素ガスの調整された混合気体を用いCVD法によ
り塩素以外のハロゲンを含まない酸化錫膜上に5r10
2:F膜を形成した。
第1図に本発明による5n02 ; F / 5n02
 : 013二層膜を有する透明導電膜体の構造を示す
5n02 : C1膜及び5n02:F膜を形成する際
、それぞれの成膜時間を変えることで、透明導電膜体全
体の膜厚がO0♂jμmで、全体の膜厚に対する5no
2:F膜の膜厚の割合Xが、O2り、 /LJ 、27
 、 jJ 。
ケタ、t 、 73及び100%であるようなr種類の
試料を得た。以下これらの試料をAと呼ぶ。
比較のためにSnO2:C1膜と5n02 :F膜の形
成の順序を逆にした5n02 : Ol/ 5n02 
:li’二層膜を形成した。上述の膜厚比Xの値が/3
,2t、!;、30.tjおよび7t、3%であるよう
な5種類の試料を得た。
以下これらの試料をBと呼ぶ。
これらの試料について可視光透過率および面積抵抗を測
定した。第3図に、得られた測定結果を示す。図より明
らかなようにXによらずAとBの透過率は等しく、同じ
XではAの方がBよりも面積抵抗が小さい。
〔発明の効果〕
本発明によれば実施例からも明らかなとおり、低抵抗高
透過率を有する透明導電膜体を得ることができる。特に
低抵抗であることから、本発明を大面積太陽電池用透明
導電膜体として用いた場合にその効果が大きい。
また本発明は太陽電池以外の光電素子用透明導電膜体と
して利用できることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による透明導電膜体の構造を示す断面図
であり、第2図は従来の透明導電膜体の構造を示す断面
図である。第3図は本発明の透明導電膜体と従来の透明
導電膜体について、透明導電膜体全体の膜厚に対する7
ソ素ドープ酸化錫膜の膜厚比と透過率、m1積抵抗との
関係を示すグラフである。 l・・・基体(カラス) A・・本発明によるもの2・
・・5n02 :01膜 B・・・・・従来のもの3・
・・・・5n02 :F膜 第1図 第2図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)透明基板上に設けられたフッ素を含まない酸化錫
    を主成分とする透明導電膜上にフッ素を含む酸化錫を主
    成分とする透明導電膜を設けてなる二層構造を有する透
    明導電膜体。
  2. (2)該フッ素を含まない酸化錫を主成分とする透明導
    電膜が、塩素以外のハロゲンを含まない酸化錫を主成分
    とする透明導電膜である特許請求の範囲第1項に記載の
    二層構造を有する透明導電膜体。
  3. (3)該二層構造を有する透明導電膜体の膜厚が0.6
    μm乃至1.0μmである特許請求の範囲第1項または
    第2項に記載の二層構造を有する透明導電膜体。
  4. (4)該二層構造を有する透明導電膜体の膜厚に対する
    フッ素を含む酸化錫を主成分とする透明導電膜の膜厚の
    割合が5%以上、50%未満である特許請求の範囲第3
    項に記載の二層構造を有する透明導電膜体。
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