JPS62194225A - 表示パネル用電極基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 本発明は各種表示装置に用いられる平板状表示パネルを
構成する電極基板の製造において、複数の電極が形成さ
れた基板上の所定領域面に、５〜ｌＯμｍの厚さの低融
点ガラスからなる誘電体層を直接形成すると、材質の異
なる電極面と基板面に対する低融点ガラスの濡れ特性及
び熱伝導率の差異により該誘電体層の厚さが不均一にな
り、絶縁耐圧が低下することを解決するため、前記誘電
体層を形成するに先立って、前記基板面に絶縁用無機質
材料からなる中間膜を形成し、該中間膜上に該誘電体層
を形成することにより、全面にわたり平坦で、かつ均一
な厚さの薄い誘電体層を備えた平板状表示パネル用の電
極基板を容易に得るようにしたものである。

〔産業上の利用分野〕

本発明は各種表示装置に用いられる平板状表示パネルを
構成する電極基板の製造方法に係り、特に複数の電極が
形成された基板面上に、厚膜形成法により比較的薄い厚
さの誘電体層を均一な厚さで平坦に形成する方法に関す
るものである。

平板状表示パネル、例えばプラズマディスプレイパネル
の名称で知られるガス放電表示パネルとしては、ドツト
表示形式のマトリックス形パネルを初めとし、特殊な電
極パターンを用いた数字表示形及び文字表示形のパネル
、或いは一方のパネル基板側のみに一対の放電電極が配
設された面放電型表示パネル等、種々のタイプのものが
提案されている。

このようなガス放電表示パネルを構成する電極基板にお
いては、例えばガラス基板上に設けられている電極には
ガス放電空間より絶縁する目的で、ｐｂｏ系の低融点ガ
ラスなどの溶着層、所謂誘電体層が被覆形成されている
。

この誘電体層の厚さは１０μ鱗程度以下に薄く形成する
と、材質の異なる電極面と基板面に対する低融点ガラス
の濡れ具合等の差異により、その表面が凹凸になって該
誘電体層の厚さが不均一になる問題がある。このため、
厚膜形成法により下地面の材質の違いに影響されずに比
較的薄い厚さの誘電体層を均一な厚さで平坦に形成する
方法が要求されている。

〔従来の技術〕 従来、上記したドツト表示形式のマトリックス形ガス放
電表示パネルを構成する電極基板を得るには、第２図に
示すように例えばガラス基板１上に、蒸着法等とフォト
リソグラフィ法によりクロム（Ｃｒ）薄膜からなる複数
の電極２を形成した後、これらの電極２を含むガラス基
板ｌ上の所定領域面に、ｐｂｏ系の低融点ガラスからな
る塗着層をスクリーン印刷法により形成し、これを焼成
処理することによって該電極２をガス放電空間より絶縁
するだめの誘電体層３を形成し、更にその表面に阿ｇＯ
からなる保護層４を被覆することによって完成させてい
る。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、上記の如き電極基板の形成工程において、ク
ロム（Ｃｒ）薄膜等からなる複数の電極２が形成された
ガラス基板１上に、ＰｂＯ系の低融点ガラスからなる誘
電体層３を５〜ｌＯμｍの厚さに形成する際に、基板１
面と電極２面に対する低融点ガラスの焼成時の濡れ特性
及び熱伝導率の差異等に起因して、第３図に示すように
形成された誘電体層３の厚さが前記各電極２のエツジ部
分で薄くなって不均一になると共に、その表面が凸凹と
なり、絶縁耐圧が著しく低下するという欠点があうた。

本発明はこのような従来の欠点に鑑みてなされたもので
、その目的とするところは、複数の電極が形成されたガ
ラス基板面に対して誘電体層となる低融点ガラスの濡れ
特性や熱伝導率の差異に影１されずに、５〜１０μｍの
厚さの低融点ガラスからなる比較的薄い誘電体層を均一
な厚さで平坦に形成し得る新規な表示パネル用電極基板
の製造方法を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は上記目的を達成するため、第１図に示すように
、例えばガラス基板ｌ上に、蒸着法及びフォトリソグラ
フィ工程によりクロム（Ｃｒ）ａＷＩＩＲ’からなる複
数の電極２を形成した後、これらの電極２を含む基板ｌ
上の所定領域面に、絶縁用無機質材料からなる中間膜、
例えば中間５ｉＯＪ？？２１を５００〜１００００人の
厚さに形成する。

更にその中間５ｉ０２膜（２１）上にｐｂｏ系の低融点
ガラスからなる塗着層をスクリーン印刷法により形成し
た後、焼成処理を行って、５〜１０μｍの厚さの誘電体
層３が形成されたドツト表示形式のマトリックス形表示
パネル用の電極基板を得るようにする。

〔作　用〕

このように本発明の製造方法によって得られた表示パネ
ル用の電極基板は、複数の電極２が形成されたガラス基
板１上に中間５ｉ０２膜２１を介して低融点ガラスから
なる誘電体層３が形成されているため、該中間５ｉ０２
膜（２１）により、誘電体層３を形成する低融点ガラス
の焼成時の濡れ特性及び熱伝導率の差異等が解消され、
焼成された低融点ガラスからなる誘電体層３は、均一な
厚さで平坦化され、絶縁耐圧の低下も防止される。

〔実施例〕

以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。

第１図は本発明に係る表示パネル用電極基板の製造方法
の一実施例を説明するための要部断面図である。

図において、先ず例えばガラス基板１上に、蒸着法及び
フォトリソグラフィ法によりクロム（Ｃｒ）薄膜からな
る複数の電極２を形成した後、これらの電極２を含む基
板１上の所定領域面に、珪素化合物を主材とする塗布液
、例えばｒＨＳＧ−２０００シリ一ズ高純度シリカ液（
日立化成社製）、あるいはＡＴＯＬＯＮ　Ｎ５Ｉ−５０
０（日本曹達社製）」を用いてスピン塗布法、或いは浸
漬法等によって、焼成後の厚さを５００〜１００００人
、本実施例では好適とされる４０００人となるように塗
着した後、約４００℃程度で焼成処理を行って珪素化合
物を主材とする中間層、例えば中間ＳｉＯ□膜２１を形
成する。

次に、その中間５ｉ０２膜２１上にｐｂｏ系の低融点ガ
ラスからなる塗着層をスクリーン印刷法により形成した
後、焼成処理を行って５〜１０μｍの厚さの低融点ガラ
スからなる誘電体層３を形成し、更にその表面にＭｇＯ
からなる保護層４を被覆することによって、ドツト表示
形式のマトリックス形表示パネル用の電極基板を得るよ
うにする。

かくすれば、誘電体層３を形成する下地面として前記中
間５ｉ０２膜２１が介在されているため、この面に対す
る低融点ガラスの焼成時の濡れ特性及び熱伝導率の差異
等が解消され、全面にわたって平坦で、かつ均一な厚さ
の薄い低融点ガラスからなる誘電体層３を容易に形成す
ることが可能となる。

また、形成された誘電体層３の絶縁耐圧も向上する。

尚、以上の実施例では説明の都合上、例えば汎用のドツ
ト表示形式のマトリックス形表示パネル用の電極基板を
対象にした場合の例について説明したが、本発明はこの
例に限定されるものではなく、例えば特願昭５９−１７
６０１０号により提案されている２層電極構造のガス放
電パネルの眉間絶縁膜の形成にも通用可能である。

その他、下地材質面が部分的に異なる基板上に１０μｍ
程度、或いはそれ以下の厚さの薄い低融点ガラスからな
る誘電体層を、均一な厚さに形成することを必要とする
各種のガス放電表示パネル、液晶表示パネル等の電極基
板の製造にも適用可能である。

また中間膜の材料としてＭｇＯ＋　Ｓ　ｉ　０２　＋　
Ａｔ　２０３　＋　ＣｒＯ等が使用可能であり、その形
成には塗布・焼成、または蒸着法、スパッタリング法が
通用できる。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように、本発明に係る表示パネ
ル用電極基板の製造方法によれば、絶縁耐圧が良好で、
かつ均一な１０μｍ程度、或いはそれ以下の厚さの低融
点ガラスからなる誘電体層を設けた各種のガス放電表示
パネル用、液晶表示パネル用等の電極基板を容易に形成
することが可能となり、実用上優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る表示パネル用電極基板の製造方法
の一実施例を説明するための 要部断面図、 第２図は従来の表示パネル用電極基板の製造方法を説明
するための要部断面図、 第３図は従来の表示パネル用電極基板の製造上の問題点
を説明するための要部断面図 である。 第１図において、

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板（１）上に複数の電極（２）を形成した後、
   該電極（２）を含む基板（１）上の所定領域面に、５〜
   １０μｍの厚さの誘電体層（３）を形成するに先立って
   、該所定領域面に絶縁用無機質材料の中間膜（２１）を
   形成することを特徴とする表示パネル用電極基板の製造
   方法。
2. （２）上記中間膜（２１）の焼成後の厚さが５００〜１
   ００００Åであることを特徴とする特許請求の範囲第（
   １）項に記載した表示パネル用電極基板の製造方法。