JPS63271317A - 表示装置用電極板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、液晶ディスプレイや液晶？用いた表示・入力
装曖等の゛成極駆動型・表示装置に用いる表示装置用電
極板に関する。

〈従来の技術〉 液晶等のディスプレイは大画面・高ｆｉ度表示のため画
素や端子部のピッチが１００μｍ付近まで要求されるよ
うになり、きわめて高精細化しつつある。これに伴い、
ディスプレイと駆動回路との接続がむつかしいものとな
ってきている。また表示のための透明電極が微細化のた
め抵抗値が高くなり、駆動回路と透明電極とのインピー
ダンス整合がうま（いかなくなってきている。加えて、
大画面・高密度化と同時にディスプレイの薄型化が進め
られている。こうした背景から液晶ディスプレイの基板
（通常ｔ１Ｍ！１１厚さのガラス板）へ直接駆動用のＩ
Ｃｘ実装するＣＯＧと呼ばれろ方法や、フレキシブルな
コネクター？介してのはんだ付けが試みられている。

はんだ付けやＣＯＧのためにあらかじめＮｉにッケル）
￥基板にパタニングしてお（ことが−投的である。

〈発明が解決しようと丁す問題点〉 はんだ付け？行う場合、Ｎｉパターン？あらかじめ形成
しておくことが好しいが、ディスプレイの基板であるガ
ラス板にＮｉ等の金属嘆馨強い密着力にてパタニング形
成することはさほど容易でない。無電解めっきの方法で
は密着力のあろＮｉ＠２つげられるが抵抗の高い膜とな
り、またはんだ付性も蒸着嗅より悪い。蒸着の方法では
基板との密着力？得るために基板温度９２００℃以上に
加熱して成模しなければならず、基板の昇温・冷却のた
め生産性が低下してしまう。さらに蒸着の場合、有機の
カラーフィルターのように耐熱性のない模が形成された
基板では上記のような成膜はきわめて困難になる。スパ
ッタリングの方法では基板温度乞２００℃まで昇温させ
なくとも十分な密着力が得られるが、Ｎｉが強磁性体で
あるためＮｉ自体が磁界？吸収してしまい高速に膜付け
できろマグネトロンスパッタリングの方法がとりにくく
、成膜レートがきわめて遅いものになってしまう。

この意味でＣｕ　　（銅）は磁界吸収性がない為にスパ
ッタリングに向いているが、はんだ食われ性が大きいた
め厚膜でつげなげればならず生産性がなく、加えてＣｕ
の表面は酸化しゃ丁いためディスプレイなどの微細パタ
ーンのはんだ付けには不適である。またスパッタリング
にょるＮｉ　　膜は蒸着によろものよりはんだとの濡れ
が悪いという欠点がある。

く問題を解決するだめの手段〉 本発明は透明な基板上に少くとも透明電極と金属薄膜層
１ａｌ−積層せしめた表示装置用電極板において、金属
薄膜層が、ニッケル？７０〜１０重量パーセント含有し
、残部？銅もしくは銀とした２元合金、あるいは残部？
銅と銀とによる３元合金？出発物質としてスパッタリン
グ法により形成せしめた金属薄膜であることを特徴とす
る表示装置用電極板である。

透明電極は、ＩＴＯとよばれるインジウムと錫の酸化物
、あるいは錫の酸化物にアンチモンの酸化物？混合した
もの、または酸化亜鉛に酸化アルミニウム？混合したも
の、これらの金属酸化物により形成された導電膜？エツ
チング等によりパタニシグしたものである。必要に応じ
てカラーフィルター？基板に形成しても良いがモノクロ
の場合は不要となる。加えて、別途、基板にブラックマ
トリクスパターンや座標大力用の検出用導線（センス線
）としてパタニングされた金属薄ａ層？設けても良いが
、これまた必ずしも必要ではない。

しかしながらこれ金属薄膜層は本発明による金属薄＠喝
を形成すると同時に同じ材料で形成した方が簡便である
が用途に応じて不要な場合もある。

また必要に応じて金属薄膜層の上に、無電解めっきや電
気めっきではんだやＡｕ　　（金）？積層しても良いが
、必ずしも必須要件ではない。

〈作　用〉 本発明は以上のようにニッケルと銅もしくは銀。

あるいはニッケルと銅と銀との合金による金属薄嗅なの
でスパッタリングで容易に形成・する事が出来、しかも
形成した金属薄嘆層馨横１ｍ　Ｌだ表示装（近用電極板
であるため、基板温度？昇温させなくとも密着力の高い
ｖＸｒ：ｔ、生産性高く得ることかできろ。

〈実施例〉 本発明ケ実施列に基付き詳細に説明する。

〔実施例１〕 第１図は１本発明による金属薄膜層ｆ！：有した構成の
表示装置用電極板の模式断面図である。ガラスの基板ｔ
ｔＵ上に、既知の染色法により形成した膜厚１，５μｍ
の有機のフィルター？カラーフィルター４１４］として
、またオーバーコート層＋１５１として０．４μｍのゼ
ラチン膜と０，２μｍの二酸化硅素！’ａ？形成しであ
る。さらにこのオーバーコー）啼ｆ１５）上にはＩＴＯ
と呼ばれる透明電極化があり、この透明電極１１２１の
一部にＣｒ　　（クロム）による５ｏｏｎの接着金属層
・１ａｌが形成され、また接着金属層と同じパターンに
て１重量パーセントでＮｉ１３０パーセント、Ｃｕｇ６
８パーセント、入Ｊ馨２パーセント含む合金？ターゲッ
トとしてスパッタリングせしめた金属薄膜層１１３）が
ａ　ｏ　ｏ　ｏ　、；ｙの厚みで形成されている。なお
、当実施例において、透明成極と接着金属層もスパッタ
リングの方法により膜付したものであるが、もちろん別
の方法で設けても良い。

以上の実施例において、接着金属層の材料’ｘ　Ｃｒで
示したが、Ｔｉ　（チタン）、Ｗ（タングステン）。

Ｍ　（アルミニウム）でも良いし、あるいは接層金属層
？省いた構成であっても良い。接看金瞑り？省いた構成
では、金＠薄模層と基板、透明電極との密着力が若干低
下するため、金属薄膜層の出発物質ＫＣｒ、Ｔｉ、Ｍｏ
、Ｚｒ、Ｍｇ、ｓｉ、Ｔａ。

〜ｖ、Ａｌ　等の金属と数％添加した合金２用いて密者
曲？向上させても良い。はんだ付性や耐熱性を向上させ
るため、高価ではあるがＡｕやＰｄ　Ｙ若干な添υ口″
ｆることは好しい。

カラーフィルターは有機・無機材料２問わないが、カラ
ーフィルターの作りや丁さから言えば有機材料の方が好
しい。有機のカラーフィルターはアクリルやナイロン、
ペプチド樹脂など？染色しｆ、−モの、アクリルやエポ
キシ樹脂？バインダーとして印刷形成したもの等があり
、またこれらカラーフィルター上に、これらの有機樹脂
によるオーバーコートあるいはＳ　ｒ　０２等の無機材
料によるオーバーコート￥形成したものであっても良い
〇実施列では金＠薄嗅層の出発物質の組成？Ｎｉ：　Ｃ
’ｕ　：　ＡＪ　＝　３０　：’　６８　：　２で示し
たが本発明はこれに限定するものでない。耐熱性・耐候
性？目的とする場合はＮｉ、Ａｊ’の比率？・上げた方
が良いが、生産井や低コストＹ目的とする場合はＣｕの
割合？多くした方が良い。またはんだ付性や透明電極の
低抵抗化２目的とする場合はＣｕ、ＡｊＪの割合ケ増し
た方が良い。また、後工程に相当する液晶の封入プロセ
スや配向嗅の形成プロセスでの熱処哩条件によって金属
薄膜層の組成？調整することが望しい。本発明はＮｉ、
Ｃｕ、Ａ、Ｓｌ　　の割合ケ限定するものでない。ただ
し、Ｎｉが７０％以上の合金では磁性？おびてく、−ま
ためマグネトロＺノスパソタの成膜レートが低’Ｆする
ため好しくない。逆にＮｉ　が１０％以下では、成膜し
た金属薄膜層の耐熱性や耐腐食性が低下してしまうため
実用的でな（）。

〈発明の効果〉 本発明はＮｉとＣｕもしくは！ｙｙ　、あるいはＮｉと
ＣｕとＮ１の合金？出発物質として金属薄膜層？形成し
た表示装置用電極板であるため、はんだ付けが容易で、
しかもＩケ熱・耐食性に富み、しかも模の接着性の良い
表示装置用４極板？提供できた。

はんだ食われの少いＮｉ　ｆａｔ基材とした合金である
ため、はんだ付の作業性・信頼性？向上できろ。

大画面・高密度化に伴う透明電極の低抵抗化についても
１本発明による金属薄膜層？補助導帯として透明電極の
端部に接するように形成しておけば十分に低抵抗化？達
成できる。本発明は磁性のないＮｉ　合金にてスパッタ
リングで形成できるため、透明電極と接着金属１蛋及び
金属〆（膜層及びブラックマトリクスパターンと同じス
パッタリングの手法で連続成膜も可能であるため生産性
ケ向上できろ。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による。金属薄膜１−と有した構１茂の
表示装置用電極板の漢式断面図である。 １１・・・基板 １２・・・透明電極 １３・・・金属薄膜鳴 １４・・・カラーフィルター １５・・・オーバーコート 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）透明な基板上に少くとも透明電極と金属薄膜層を積
   層せしめた表示装置用電極板において、金属薄膜層がニ
   ッケルを７０〜１０重量パーセント含有し残部を銅もし
   くは銀とした２元合金あるいは残部を銅と銀にした３元
   合金を出発物質としてスパッタリング法により形成せし
   めた金属薄膜であることを特徴とする表示装置用電極板
   。