JPS63266797A - 電磁コイル - Google Patents
電磁コイルInfo
- Publication number
- JPS63266797A JPS63266797A JP9966187A JP9966187A JPS63266797A JP S63266797 A JPS63266797 A JP S63266797A JP 9966187 A JP9966187 A JP 9966187A JP 9966187 A JP9966187 A JP 9966187A JP S63266797 A JPS63266797 A JP S63266797A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- wafer
- wound
- center
- ferrite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 abstract description 3
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 3
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は半導体ウェーハ上のレジスト硬化に用いる誘導
加熱用の電磁コイルに関する。
加熱用の電磁コイルに関する。
（従来の技術）
半導体ウェーハ上のレジストをＵＶ光で硬化する場合、
ウェーハをホッ゛ドブレート上に載せ、加熱しながら行
う。この場合、ウェーハを急速に昇温し、かつ降温して
スループットを改善することが望まれる。また、ウェー
ハに加わる温度ムラをできるだけ小さくする必要もある
。
ウェーハをホッ゛ドブレート上に載せ、加熱しながら行
う。この場合、ウェーハを急速に昇温し、かつ降温して
スループットを改善することが望まれる。また、ウェー
ハに加わる温度ムラをできるだけ小さくする必要もある
。
（発明が解決しようとする問題点）
従来、上記ウェーハの加熱には電熱ヒータを用い、これ
によりホットプレートを加熱していた。
によりホットプレートを加熱していた。
しかし、電熱ヒータによる加熱では温度の急激な昇温、
降温は難しかった。また、ウェーハに対する温度ムラを
少なくすることも技術的に難しかった。
降温は難しかった。また、ウェーハに対する温度ムラを
少なくすることも技術的に難しかった。
本発明の目的は、ウェーハを急激に昇温、降温でき、か
つ温度ムラの発生を大きく抑制することにより、スルー
プットを改善し、良好な品質の製品を得ることができる
誘導加熱用の電磁コイルを提供することにある。
つ温度ムラの発生を大きく抑制することにより、スルー
プットを改善し、良好な品質の製品を得ることができる
誘導加熱用の電磁コイルを提供することにある。
（問題点を解決するための手段）
本発明による電磁コイルは板状のコイル取付架台を有し
、このコイル取付架台の表面に平面状がつうず巻状にコ
イル巻回すると共に、このコイルの中心から放射状に延
在する如くフェライトを前記コイル取付台の裏面に取付
けられている。前記コイルは中心部にコイルが巻回され
ない中空部を有し、かつ１ターン毎に隙間を生じさせ、
密着巻きしない構造とした。
、このコイル取付架台の表面に平面状がつうず巻状にコ
イル巻回すると共に、このコイルの中心から放射状に延
在する如くフェライトを前記コイル取付台の裏面に取付
けられている。前記コイルは中心部にコイルが巻回され
ない中空部を有し、かつ１ターン毎に隙間を生じさせ、
密着巻きしない構造とした。
（作用）
本発明ではコイルを平面状かつうず巻状に巻回すること
によりコイル断面積に対する表面積の割合を大きくし、
かつコイル中心部にはコイルを巻かない中空部を形成し
、さらに密着巻きしないようにして、ウェーハに加わる
温度を均一に、かつフェライトを設けたことにより漏洩
磁束を有効活用して低消費電力により大出力を得ている
。
によりコイル断面積に対する表面積の割合を大きくし、
かつコイル中心部にはコイルを巻かない中空部を形成し
、さらに密着巻きしないようにして、ウェーハに加わる
温度を均一に、かつフェライトを設けたことにより漏洩
磁束を有効活用して低消費電力により大出力を得ている
。
（実施例）
以下本発明の一実施例を図面を参照して説明する。第１
図および第２図において、−２は板状のコイル取付架台
で、その表面にはコイル１が平面状かつうず巻状に巻回
されている。コイル取付架台２はコイル１の外形に合わ
せて円板状に形成し。
図および第２図において、−２は板状のコイル取付架台
で、その表面にはコイル１が平面状かつうず巻状に巻回
されている。コイル取付架台２はコイル１の外形に合わ
せて円板状に形成し。
その裏面の外周縁部には第３図で示すように取付足５を
複数等間隔で設けている。上記コイル１の外径寸法は、
加熱対象である図示しないウェーハの温度分布を均一に
するため、ウェーハの外径の約１．２倍の大きさに設定
する。例えば６′ウエーハに対しては１８０φのコイル
を用いる。 また表面積を大きくし、同一人力電力で大
きな出力（発熱）を得るため線径は細く、ターン数を多
くし、同一断面積で大きな表面積を得るようにする。例
えば線径０．３７φ、３７本２０Ｔにてコイル１を巻回
する。
複数等間隔で設けている。上記コイル１の外径寸法は、
加熱対象である図示しないウェーハの温度分布を均一に
するため、ウェーハの外径の約１．２倍の大きさに設定
する。例えば６′ウエーハに対しては１８０φのコイル
を用いる。 また表面積を大きくし、同一人力電力で大
きな出力（発熱）を得るため線径は細く、ターン数を多
くし、同一断面積で大きな表面積を得るようにする。例
えば線径０．３７φ、３７本２０Ｔにてコイル１を巻回
する。
また、コイル１は１ターン毎に隙間が生じるように巻回
する。すなわち密着巻きはしない、密着巻きをするとウ
ェーハ上に温度ムラが生じる。この現象はサーマルビデ
オで観測するとよくわかる。
する。すなわち密着巻きはしない、密着巻きをするとウ
ェーハ上に温度ムラが生じる。この現象はサーマルビデ
オで観測するとよくわかる。
上記隙間は１．５■／１タ一ン程度とする。また、コイ
ルの巻始めである中心部にはコイルを巻回しない中空部
４をあけておく、この中空部の大きさは２０■φ程度と
する。この中空部４はウェーハ中心部の温度を小さくす
るためである。すなわち、この中空部４を設けずに巻回
するとウェーハ中心部の温度が異常に高くなるが、中空
部４を設けることにより、ウェーハ中心部の温度は外側
寄りの部分とほぼ等しくなる。なお、前記コイル取付架
台２および取付足５には耐熱性のセラミックを使用する
・３はフェライトで、第４図で示すように放射状に形成
され、コイル１の下部に漏れる漏洩磁束を捕えるべく、
第２図で示す如くコイル取付架台２の裏側に、コイル１
の中心に相当する部分から放射状に延在するように取付
ける。
ルの巻始めである中心部にはコイルを巻回しない中空部
４をあけておく、この中空部の大きさは２０■φ程度と
する。この中空部４はウェーハ中心部の温度を小さくす
るためである。すなわち、この中空部４を設けずに巻回
するとウェーハ中心部の温度が異常に高くなるが、中空
部４を設けることにより、ウェーハ中心部の温度は外側
寄りの部分とほぼ等しくなる。なお、前記コイル取付架
台２および取付足５には耐熱性のセラミックを使用する
・３はフェライトで、第４図で示すように放射状に形成
され、コイル１の下部に漏れる漏洩磁束を捕えるべく、
第２図で示す如くコイル取付架台２の裏側に、コイル１
の中心に相当する部分から放射状に延在するように取付
ける。
上記構成において、コイル１は同一断面積で。
コイルの細径を細く、ターン数を多くシ、平面状に巻回
して表面積を大きくした巻き方をしているので、同一人
力電力にて大きな出力（発熱）が得られ、ウェーハを急
速に昇温させることができる。
して表面積を大きくした巻き方をしているので、同一人
力電力にて大きな出力（発熱）が得られ、ウェーハを急
速に昇温させることができる。
コイル１の巻き始め（中心部）の部分は中空部７を作り
、かつ外側に向ってコイルを等間隔に巻いているので、
加熱されるウェーハの中心部と外側との温度が均一とな
り、温度ムラがなくなって良好な加熱状態を得ることが
できる。フェライト３を放射状に６方向に向けてコイル
１の直径の長さ迄延在させているのでコイル１の漏洩磁
束を有効活用でき、少ない消費電力にて大きな発熱を得
ることができる。さらに、コイルの耐圧温度を高くとれ
るため、絶縁被膜線を使用できる。
、かつ外側に向ってコイルを等間隔に巻いているので、
加熱されるウェーハの中心部と外側との温度が均一とな
り、温度ムラがなくなって良好な加熱状態を得ることが
できる。フェライト３を放射状に６方向に向けてコイル
１の直径の長さ迄延在させているのでコイル１の漏洩磁
束を有効活用でき、少ない消費電力にて大きな発熱を得
ることができる。さらに、コイルの耐圧温度を高くとれ
るため、絶縁被膜線を使用できる。
以上のように本発明によれば、加熱対象であるウェーハ
を急速に昇温できると共に、温度ムラを生じることなく
均一に加熱でき、しかも漏洩磁束を有効活用し、効率的
な加熱を行うことができる銹導加熱用コイルを得ること
ができる。
を急速に昇温できると共に、温度ムラを生じることなく
均一に加熱でき、しかも漏洩磁束を有効活用し、効率的
な加熱を行うことができる銹導加熱用コイルを得ること
ができる。
第１図および第２図は本発明による電磁コイルの一実施
例を示す平面図および側面図、第３図は第１図で用いる
コイル取付架台を示す側面図、第４図は第２図で示した
フェライトの平面図である。 １・・・コイル ２・・・コイル取付架台３・
・・フェライト ４・・・中央部代理人 弁理士
則 近 憲 佑 同 第子丸 健
例を示す平面図および側面図、第３図は第１図で用いる
コイル取付架台を示す側面図、第４図は第２図で示した
フェライトの平面図である。 １・・・コイル ２・・・コイル取付架台３・
・・フェライト ４・・・中央部代理人 弁理士
則 近 憲 佑 同 第子丸 健
Claims (1)
- 板状のコイル取付架台と、このコイル取付架台の表面に
平面状かつうず巻状に巻回されたコイルと、このコイル
の中心から放射状に延在する如く前記コイル取付台の裏
面に取付けられたフェライトとを備え、前記コイルは中
心部にコイルが巻回されない中空部を有し、かつ１ター
ン毎に隙間を生じさせ、密着巻きしない構造としたこと
を特徴とする電磁コイル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9966187A JPS63266797A (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | 電磁コイル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9966187A JPS63266797A (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | 電磁コイル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63266797A true JPS63266797A (ja) | 1988-11-02 |
Family
ID=14253225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9966187A Pending JPS63266797A (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | 電磁コイル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63266797A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004265880A (ja) * | 2004-06-21 | 2004-09-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 誘導加熱調理器 |
-
1987
- 1987-04-24 JP JP9966187A patent/JPS63266797A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004265880A (ja) * | 2004-06-21 | 2004-09-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 誘導加熱調理器 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0182870B1 (en) | Method and apparatus for reducing temperature variations across a semiconductor wafer during heating | |
| KR101192501B1 (ko) | 반도체기판 열처리장치 | |
| JPS5818969B2 (ja) | レ−スリングの転動面を誘導加熱する方法及び装置 | |
| JPS63266797A (ja) | 電磁コイル | |
| US6121591A (en) | Flux guiding and cooling arrangements for induction heating units | |
| JPH1140335A (ja) | 電磁加熱調理器 | |
| JPH01236615A (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| JPH0237690A (ja) | ダイスの誘導加熱装置 | |
| JP3173995B2 (ja) | 誘導加熱式炊飯器 | |
| JPH1126143A (ja) | 電磁誘導加熱用コイル | |
| JPS6287500A (ja) | 拡散炉 | |
| JPS6134716Y2 (ja) | ||
| JP5443228B2 (ja) | 半導体熱処理装置 | |
| JP3002990B1 (ja) | 均熱ヒ―タ | |
| JP2597867Y2 (ja) | 電磁調理器 | |
| JPH10335056A (ja) | 電磁誘導加熱用コイル | |
| JPS6339962Y2 (ja) | ||
| JPH02301522A (ja) | 誘導加熱装置 | |
| JPH06275373A (ja) | 誘導加熱調理器の加熱コイルユニット | |
| JPH11309723A (ja) | 積層体の電磁誘導加熱方法とその装置 | |
| JPH01239790A (ja) | 電磁調理器の誘導加熱装置 | |
| JP3675015B2 (ja) | 誘導加熱装置の製造方法 | |
| JP2001164315A (ja) | 高周波加熱方法および高周波加熱装置 | |
| JPS6355882A (ja) | 誘導加熱調理器の加熱コイル | |
| JPS6142798U (ja) | ウエハ加熱用電磁誘導炉 |