JPS63262453A - 噴出溶射用のセラミツク−ガラス粒子およびその製法 - Google Patents

噴出溶射用のセラミツク−ガラス粒子およびその製法

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JPS63262453A
JPS63262453A JP62095914A JP9591487A JPS63262453A JP S63262453 A JPS63262453 A JP S63262453A JP 62095914 A JP62095914 A JP 62095914A JP 9591487 A JP9591487 A JP 9591487A JP S63262453 A JPS63262453 A JP S63262453A
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JP
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ceramic
thermal spraying
powder
particles
glass
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JP62095914A
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English (en)
Inventor
Tatsuya Nagata
達也 永田
Haruyuki Mizuno
治幸 水野
Isozou Kubota
久保田 五十蔵
Yasushi Shimizu
泰 清水
Shingo Nakamura
真吾 中村
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Inax Corp
Original Assignee
Inax Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は噴出溶射用のセラミック−ガラス粒子およびそ
の製法に関する。更に詳しくは、プラズマ又は火炎噴出
溶射による溶射膜の形成に使用する、実質的に球状の流
動性に優れたセラミック−ガラス粒子およびその製法に
関する。
[従来の技術およびその問題点] 従来、噴出溶射用セラミック粉は、塊状物を粉砕し、特
定粒度範囲の粉末を分級したものが用いられている。従
って該セラミック粉を調整する場合には、利用できない
粉末が副次的に相当量生成する。大き過ぎる粉末は再粉
砕によって利用すれば良いが、微粉末は利用できないば
かりか、利用可能な粒子に付随して、溶射ガン中に導か
れてしまう場合が多い。更にフレーム(火炎)中への導
入部分で、微粉末はフレーム中に入らずそしてフレーム
周辺をとり巻く様に飛んでしまい、充分に熔融せずに溶
射皮膜表面に付着するため、得られる溶射皮膜自体にも
悪影響を及ぼす結果となる。
更に該粉末は粉砕によって作成されるので、立方体形状
に近いものからかなり細長いものまで幅広く分布してお
り、分級しても流動性が非常に悪い(第2図参照)。従
って溶射フレーム中への定速、定量搬送が不可能となる
。また溶射フレーム中におけるセラミック粒子の滞留時
間は非常に短時間である為に、フレーム中に導入される
粒子は小さい方が溶は易く望ましい。しかし、微粉状の
セラミック粉は、溶射用粉末供給装置内で詰まりが生じ
た″す、粉末の粒子重量が軽いのでフレーム中に確実に
送り込めなかったりするため、実用性がない。更に、セ
ラミック粉を溶射する場合、現行技術では溶射膜中に数
%の気孔が形成されてしまい、得られた製品の耐久性を
低下させている。例えば金属に溶射したものは、溶射皮
膜中の開気孔により下地金属の腐食が進行する。また、
薬品等に侵食されるので、化学プラントなどでの利用に
は制限がある。セメント質基材に溶射してセラミックコ
ーティング膜として利用する場゛合には、セメント分の
溶出により白華の原因となる。更に、セラミックのみか
らなる皮膜は光沢がなく、外装用建材として使用する場
合には美観に欠ける。
上記の諸問題に関連して、耐火材料粒子を造粒して平均
径30〜500ミクロンの二次粒子とした窯炉壁用の溶
射材料が提案されている(特開昭56−108871号
)。しかし、このような高熔融温度のセラミック粒子の
みからなる造粒材料は、滞留時間の極めて短いプラズマ
溶射炎中にて、完全に熔融することが難しくそして半熔
融状で分散する虞もある。従って、溶射による噴出粒の
大きさが不均一となりそして熔融が不十分であるために
、溶射形成膜が融着不十分となり、多孔性となる傾向が
ある。窯炉の炉壁用としては、使用時の窯炉内の加熱に
よってこのような多孔性の欠陥は自然に補修されるので
、その効果は十分に達成されるものと思考される。しか
し、建材等の、使用時に加熱されない材料では、多孔性
の溶射膜では実用性に乏しい。
従って、本発明の目的は、噴出溶射用粉末の上記の問題
点を解消し、実質的に無孔性のセラミック系溶射皮膜を
形成しうる噴出溶射用セラミック系粉末を提供すること
にある。
[問題点を解決するための手段] 本発明によって、溶射用セラミック粉約5〜約80重量
゛%およびガラス粉約20〜約95重量%が実質的に均
一に混合分散して乾燥付着している状部の、粒径約35
0ミクロン以下の実質的に球状の顆粒であることを特徴
とする、噴出溶射用のセラミック−ガラス粒子lが提供
される(第1図参照)。
上記の溶射用粒子は、溶射用のセラミック粉約5〜約8
0重量%およびガラス粉約20〜約95重量%を混合し
、該混合物に必要に応じてバインダーを加えて湿式化し
、得られた材料を噴霧乾燥等によって顆粒状の粒子に造
粒し、得られた粒子を必要に応じて篩分けすることを特
徴とする方法によって製造される。
上記のセラミック粉およびガラス粉とは、平均径が通常
約10ミクロン以下、好ましくは約5ミクロン以下の微
粒子をいう。これらの粉末は、例えばそれぞれセラミッ
ク材料およびガラス材料を網層することにより得ること
ができる。ここで網層とは、例えばボールミル等の摩擦
力を利用して粉゛砕する器具を用いて、窯業用釉薬或い
は素地原料を調合する場合と同様に、充分細かい粒子(
約10ミクロン以下、好ましくは約5ミクロン以下)に
微粉砕することを意味する。
上記の溶射用セラミック材料は、単一の化合物であって
も或いは2種以上の化合物の混合物であってもよい。該
材料としては、例えばアルミナ、チタニア、長石、石英
、およびこれらの2種以上の混合物が例示される。
上記のガラス粉は、使用したセラミックよりも低い融点
を有するガラス材料からなり、一般には普通ガラスが使
用される。
本発明のセラミック−ガラス粒子において、ガラス粉が
該粒子全体の約55重量%以上であると、更に緻密な実
質的に無孔性の溶射膜が得られる。
一方、セラミック皮膜の耐久性を保持するためには、セ
ラミック粉は該粒子全体の約lO〜約40重量%である
のが好ましい。従って、ガラス粉は好ましくは該粒子全
体の約55〜約90重量%、更に好ましくは約60〜約
90重量%である。
なお、上記の「実質的に球状」とは、球形、卵形、回転
楕円体形等の曲面からなる表面を有する形状を意味する
上記の湿式化した粉末濃度は、造粒が可能な濃度範囲で
あり、噴霧乾燥の場合は例えば約10〜約85重信%で
ある。湿式化のための分散剤としては、例えばポリアク
リル酸アンモニウム、リン酸ナトリウム等が用いられる
。必要に応じて添加されるバインダーとしては、メチル
セルロース、ポリビニルアルコール、澱粉等が例示され
る。
代表的に噴霧乾・燥による造粒では、慣用のスプレード
ライヤー(回転円板型、圧力ノズル型、二流体ノズル型
)を用いて行われる。スプレードライヤーにより、粒径
を所望の範囲に容易に制御することができる。粒径の範
囲は、用いたセラミック材料およびガラス材料によって
変わる。例えば、比較的高い融点を有するセラミック(
例えばアルミナ等)を用いる場合は粒径を小さい(例え
ば、約5〜約200ミクロン)範囲に、そして比較的低
融点の6のは粒径を大きい(例えば約20〜約350ミ
クロン)範囲に調整する。スプレードライヤーから得ら
れるスプレー粉は実質的に変形粒子或いは微粉を独立粒
子として含まず、実質的に球状であり、通常約90%以
上が利用可能であるが、必要に応じて更に篩分けして特
に大きい粒子を取り除く。
本発明により得られる噴出溶射用粒子は、プラズマ溶射
装置、火炎(アセチレン炎等)溶射装置等の噴出溶射装
置により、金属、陶磁器、セメント質およびその他の耐
熱性基村上へ皮膜を形成するのに用いられる。この際に
セラミック粉成分が部分的に熔融不十分であっても、ガ
ラス粉成分は完全に熔融して実質的に球状の熔融粒を形
成して該基材上に衝突し、無孔性の溶射膜を形成する。
〔実施例] 以下に本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例1: ガラス粉成分 60〜75%、八l*os:5〜20%、CaO:0〜
5%、MgO:0〜5%、LitO:10〜15%、 
 N a to : 0〜3%、に、0:0〜3%、B
、O,:l−10%、Zr0t:0〜5%、合計100
%]1600gおよび99.6%Altoa400gを
、水800gと共に、分散剤としてポリアクリル酸アン
モニウムを用いて、磁器製湿式ボールミルに入れて4昼
夜回転させて充分細磨した。これにバインダーとしてカ
ルボキシメチルセルロース3%溶液を200g加え、泥
漿化した。
得られた泥漿を噴霧乾燥機(大川原化工機(株)FOC
−16型)を用いて噴霧乾燥して、粒径約10〜250
ミクロンの球状の顆粒を得た。
得られた球状粒子を、第一メテコ社製5P型サーモスプ
レーガンを用いて、下記の条件にてタイル素焼き素地上
に溶射した。
タイル素地−溶射ガン先端間距@:4〜10cm溶射ガ
ン走査速度=10〜30cm/秒。
上記の溶射により、光沢のある均質な無孔性セラミック
−ガラス皮膜がタイル素地上に形成された。また、溶射
ガンに目詰まりが生じることなく溶射用粒子がスムーズ
に溶射された。
比較例1: 実施例1に使用した組成のガラス材料およびアルミナ材
料を粉砕し、分級し、そして均一に混合して、粒度範囲
約10〜250ミクロンの粒子を得た。この粒子を実施
例1と同様にしてタイル素焼き素地上に溶射した。
この溶射においては溶射ガンにしばしば目詰まりを生じ
、均質な皮膜を得ることが困難であった。
比較例2: 99.6%Altosをポリアクリル酸アンモニウムを
分散剤として用い、アルミナ製ボールミルを使用して充
分細磨した後、バインダーとしてカルボキシメチルセル
ロース3%溶液を用いて泥漿化した。得られた泥漿を、
噴霧乾燥機(大川原化工機(株)FOC−16型)を用
いて、約10〜250ミクロンの粒径を有する球状の顆
粒とした。得られた顆粒をそのまま、プラズマテクニッ
ク社製、PTA−2000プラズマ溶射装置を利用して
鉄板上にアルミナの溶射条件で溶射した。
得られた溶射膜には、かなりの融着不十分の部分が認め
られた。
実施例2: 99、−6% Alt03 75重量部と下記第1表の
組成のガラス25重量部とを、ポリアクリル酸アンモニ
ウムを分散剤として用い、磁器製ボールミルを使用して
充分網層した後、カルボキシメヂルセルロースのバイン
ダーを用いて泥漿化した。
得られた。泥漿を噴霧乾燥機を用いて約10〜200ミ
クロンの粒度範囲を有する球状の顆粒とした。
得られた顆粒を、プラズマテクニック社製PTA−20
00プラ、ズマ溶射装置を用い、セメント質基板上にア
ルミナの溶射条件で溶射した。このようにして、実質的
に気孔の無いアルミナ−ガラス質溶射膜が得られた。こ
れは、溶射中に完全に熔融したガラス成分がアルミナ粒
子の間に入り込んで、空隙を十分に埋めた結果である。
第1表 S i Ox : 60〜75%  Nano : 0
〜3%A I !03: 5〜20    KtO: 
0〜3CaO:  0〜5          B*O
*:  I  〜I  OM g O:  0〜5  
       Z r Ot :  O〜5L+*0:
10〜15 [作用および効果] 本発明による溶射用セラミック−ガラス粒子は、微細粒
子、変形粒子、粗大粒子等を含まない実質的に球状の顆
粒であるため、流動性に富む。更に、微粉末のセラミッ
ク材料およびガラス材料の均一混合物からなる制御され
た粒径範囲の顆粒状の造粒体である。従って、少なくと
もガラス粒子が溶射フレーム中で完全に熔融するのでセ
ラミック粉成分が部分的に融着不十分であっても、溶射
炎中で実質的に球状の熔融粒を形成して溶射用基材に衝
突し、無孔性の均質な溶射膜が容易に得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による声射用粉末の拡大模式図であり、
そして第2図は、従来の溶射用粉末の拡大模式図である
。 1・・・・セラミック−ガラス球状粒子、2・・・・粉
砕粒子、 3・・・・微粉。 特許出願人 株式会社 イナックス トセラミソクーガラス球状粒子 2:粉砕粒子 3:微粉

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)溶射用セラミック粉5〜80重量%およびガラス
    粉20〜95重量%が実質的に均一に混合分散して乾燥
    付着している状態の、粒径350ミクロン以下の実質的
    に球状の顆粒であることを特徴とする、噴出溶射用のセ
    ラミック−ガラス粒子。
  2. (2)溶射用のセラミック材料の粉末5〜80重量%お
    よびガラス粉20〜95重量%からなる材料を湿式造粒
    して乾燥し、セラミック粉およびガラス粉が実質的に均
    一に混合分散した粒径350ミクロン以下の実質的に球
    状の顆粒を得ることを特徴とする、噴出溶射用のセラミ
    ック−ガラス粒子の製法。
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