JPS632559B2 - - Google Patents

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JPS632559B2
JPS632559B2 JP57139196A JP13919682A JPS632559B2 JP S632559 B2 JPS632559 B2 JP S632559B2 JP 57139196 A JP57139196 A JP 57139196A JP 13919682 A JP13919682 A JP 13919682A JP S632559 B2 JPS632559 B2 JP S632559B2
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JP
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mmol
nmr
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JP57139196A
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JPS5929683A (ja
Inventor
Tamejiro Hyama
Kazuhiro Kobayashi
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Sagami Chemical Research Institute
Original Assignee
Sagami Chemical Research Institute
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Publication date
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Priority to EP83902577A priority patent/EP0117252B1/en
Publication of JPS5929683A publication Critical patent/JPS5929683A/ja
Publication of JPS632559B2 publication Critical patent/JPS632559B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07HSUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H15/00Compounds containing hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
    • C07H15/02Acyclic radicals, not substituted by cyclic structures
    • C07H15/04Acyclic radicals, not substituted by cyclic structures attached to an oxygen atom of the saccharide radical
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/72Nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D317/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D317/08Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
    • C07D317/10Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings
    • C07D317/14Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D317/30Radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D317/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D317/08Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
    • C07D317/72Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 spiro-condensed with carbocyclic rings

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  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式 (式中、Rはアルキル基、アリール基又はアルキ
レン基、R1はメチル基、R2は水素原子又はアシ
ル基、R3は水素原子、R4はホルミル基もしくは
ヒドロキシル基置換アルキル基又はアルコキシカ
ルボニルアルキル基であり、R3とR4とは一体と
なつ2−アルコキシカルボニルエテニル基を形成
し得る。)。で表わされるアミノポリオール誘導体
に関する。 本発明の前記一般式()で表わされるアミノ
ポリオール誘導体は制ガン剤として有用なドーノ
マイシン(daunomycin)の糖部分であるドーノ
サミン(daunosamine)、3−エピ・ドーノサミ
ンやアコサミン(acosamine)あるいはリストサ
ミン(ristosamine)に誘導出来る化合物である
(下記参考例及びTopics in Antibiotic
Chemistry、Vol2参照)。従来これらアミノ糖を
合成する方法としては糖類を出発原料として用
いる方法〔Topics in Antibiotic Chemistry、
Ellis Horwood、Ltd.、Chichester、Vol2、p137
及びChem.Comm.、973(1967)〕、石油化学製
品を出発原料に用い、立体選択的変換を施した後
ラセミ体として目的物を得る方法〔Angew.
Chem.90、728(1978)及びBull.Chem.Soc.Jpn.、
52、2731(1979)〕、糖以外の光学活性天然物を
出発原料に用いる方法〔Tetrahedron Lett.、
1979、3833;21、2999(1980);22、4017、5073
(1981)及びJ.Chem.Soc.Chem.Comm.、442
(1980)〕がある。の方法はキラル中心をすでに
持つ糖類から出発するため、光学活性体を得る目
的には有利であるが、一般に長い工程を経なけれ
ば目的物が得られない点、経済的に不利である。
の方法では立体選択的変換法が鍵であるがこの
決め手といつたものはなく、更に最終化合物を光
学分割しなければならないなど問題点は多い。現
在のところの方法が最も実用的であるが、これ
まで出発原料として用いられているものは(+)
酒石酸やD−トレオニンである。酒石酸から出発
する限りの方法と同じ欠点が伴う。又、D−ト
レオニン自身の合成は多段階を要し容易でない。 本発明者等はこれらの背景を充分考慮した上
で、発酵法で安価に入手出来る(−)乳酸エステ
ルあるいは(+)乳酸エステルから得られる化合
物がドーノサミン、アコサミン、リストサミンあ
るいはその鏡像体に容易に導きうることを見出し
本発明を完成した。 本発明の化合物は以下の反応式に従い製造でき
る。 (式中、Rは、アルキル基、アリール基又はアル
キレン基、R1はメチル基、R2′はアシル基であ
り、R5は低級アルキル基である。) 〔第一工程〕 本工程は前記一般式()で表わされる2・3
−アルキリデンジオキシブタンニトリルと、一般
式 CH3COOR5 −() (式中、R5は低級アルキル基である。)で表わさ
れる酢酸エステルと塩基とを反応させ前記一般式
(a)で表わされるβ−アミノアクリル酸誘導
体を製造するものである。 本工程の原料である前記一般式()で表わさ
れる2・3−アルキリデンジオキシブタンニトリ
ルは一般式 (式中、R1はメチル基であり、EEはエトキシエ
チル基である。)で表わされるシアノヒドリンと
一般式 R2C(OR62 −() (式中、Rは、アルキル基、アルキレン基又はア
リール基であり、R6は低級アルキル基である。)
で表わされる化合物とを反応させることにより得
られる化合物である(下記参考例参照)。前記一
般式()で表わされる化合物としては例えば
2・3−シクロヘキシリデンジオキシブタンニト
リル、2・3−シクロペンチリデンジオキシブタ
ンニトリル、2・3−シクロドデシリデンジオキ
シブタンニトリル、2・3−(2・2−プロピリ
デンジオキシ)ブタンニトリル、2・3−(3・
3−ペンチリデンジオキシ)ブタンニトリル、
2・3−(ジフエニルメチレンジオキシ)ブタン
ニトリル、2・3−(シクロヘキシリデンジオキ
シ)ペンタンニトリルなどを例示出来る。 一方の原料である前記一般式()で表わされ
る酢酸エステルは工業原料として入手容易な化合
物であり、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸イソブチル、酢酸t−ブチル、酢
酸t−アミル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ジフエ
ニルメチル、酢酸トリフエニルメチル、酢酸1−
フエニルエチル、酢酸1・1−ジフエニルエチ
ル、酢酸1−メチル−1−フエニルエチルなどを
例示することが出来る 本工程において効率よく前記一般式(a)で
表わされるβ−アミノアクリル酸誘導体を得るに
は、前記一般式()で表わされる酢酸エステル
と塩基とを反応させ、次いで前記一般式()で
表わされる2・3−アルキリデンジオキシブタン
ニトリルを反応させることが好ましい。 塩基としてはMg(NEt22、Mg(N i−
Pr22、Mg〔N(i−Pr)(c−C6H11)〕2、Mg〔N
(c−C6H11)〕2、【式】Mg〔N (SiMe322、Al〔N(SiMe323、Zn〔N
(SiMe322、Al〔N i−Pr23、Mg
(NMePh)2、Al(NMePh)3等の金属アミドを例
示出来る。本工程は溶媒中で行うことが望ましく
例えばトルエン、ヘキサン、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフランの如く非プロトン性溶媒を使
用するが、就中、反応効率、経済性の点でジエチ
ルエーテルを用いることが望ましい。反応温度は
−100℃〜50℃の範囲で行うことができる。 〔第二工程〕 本工程は第一工程で得られた前記一般式(
a)で表わされるβ−アミノアクリル酸誘導体を
アシル化し、前記一般式(b)で表わされるβ
−アシルアミノアクリル酸誘導体を製造するもの
である。 本工程のアシル化に使用するアシル化剤として
は酢酸やプロピオン酸など低級脂肪酸の酸無水物
及び酸ハロゲン化物、トリフルオロ酢酸、トリク
ロロ酢酸、モノクロロ酢酸、モノフルオロ酢酸、
モノブロモ酢酸などのハロ酢酸の酸無水物及び酸
ハロゲン化物、安息香酸、フマル酸など芳香族カ
ルボン酸の酸無水物及び酸ハロゲン化物などを使
用することができる。 本工程の反応を効率よく行うには塩基を共存さ
せることが好ましい。塩基としてはトリエチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、
キノリン、4−ジメチルアミノピリジン、N・N
−ジメチルアニリンなどの三級アミンの他、使用
するカルボン酸のナトリウムあるいはカリウム塩
を用いることができる。 本工程を行うにあたつては溶媒は必ずしも使用
しなくてもよいが、反応に直接関与しない溶媒、
例えばトルエン、ベンゼン、ヘキサン、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン
などを使用することもできる。 反応は−78℃〜100℃の範囲で進行する。 〔第三工程〕 本工程は第二工程で得られた前記一般式(
b)で表わされるβ−アシルアミノアクリル酸誘
導体を還元し、前記一般式(c)で表わされる
β−アミノ酸誘導体を製造するものである。 本工程の還元は常圧ないし加圧下に水素添加す
ることにより達成することができる。本工程の水
素添加を行なうには触媒の存在下に行うことが必
要である。触媒としては酸化白金、パラジウム・
カーボン、ロジウム・カーボン、イリジウム・カ
ーボン、トリストリフエニルホスフイン塩化ロジ
ウム等の通常この種の水添触媒として用いること
ができるものを挙げることができる。 本工程を行うにあたつては溶媒の使用が望まし
く、例えば、水、メタノール、エタノール、酢酸
エチル、酢酸、ジエチルエーテル、シクロヘキサ
ン、ベンゼンあるいはこれらの混合物を使用する
ことができる。 反応は室温〜100℃で進行する。 〔第四工程〕 本工程は第三工程で得られた前記一般式(
c)で表わされるエステルを前記一般式(d)
で表わされるアルコールに還元するものである。 本工程の還元は還元剤の存在下に行うものであ
り、還元剤としては水素化アルミニウム、水素化
アルミニウムリチウム、水素化ホウ素リチウム、
水素化イソブチルアルミニウム等を使用すること
ができる。 本工程を行うにあたつて溶媒はジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなど
のエーテル系溶媒の他、ジクロロメタン、トルエ
ン、ヘキサン、など反応に直接関与しないものを
用いることができる。 反応は−78℃〜100℃で円滑に進行する。 〔第五工程〕 本工程は第四工程で得られる前記一般式(
d)で表わされるアルコールを酸化し、前記一般
式(e)で表わされるアルデヒドを製造するも
のである。 本工程の酸化は酸化剤の存在下に行うものであ
る。酸化剤としてはピリジン・無水クロム酸錯
体、ピリジニウムクロロクロメート、重クロム酸
ピリジニウム、ジメチルスルホキシド等を使用す
ることができる。 本工程を行うにあたつては反応に直接関与しな
い溶媒、例えばジクロロメタン、クロロホルム、
ジエチルエーテル等を使用することができる。 反応は−78℃〜100℃で円滑に進行する。 以下、実施例及び参考例で本発明を更に詳細に
説明する。 参考例 1 S(−)乳酸エチル(11.8g、0.1mol)、エチル
ビニルエーテル(10.8g、14.3ml、0.15mol)を
ジクロロメタン(100ml)に溶かし、この溶液へ
0℃にてピリジニウムパラトルエンスルホナート
(1.53g、6mmol)のジクロロメタン(26ml)
溶液をゆつくり加えた。0℃で50分、室温で1時
間撹拌した後、飽和食塩水で洗い、水層をエーテ
ル抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
したのち濃縮蒸留して(2S)−2−(1−エトキ
シ)エトキシプロパン酸エチル(18.4g、収率97
%)を得た。 bp 77〜78℃/26Torr. 1H NMR(CDCl3):δ1.1〜1.5(m、12H)、3.3〜
3.9(m、2H)、4.20(q、2H、J=7.5Hz)、4.30
(q、1H、J=6.0Hz)、4.76(q、1H、J=6.0
Hz). 〔α〕28 D −71.7゜(MeOH、c4.18). 参考例 2 水素化アルミニウムリチウム(4.05g、
0.106mol)をエーテル(150ml)に懸濁溶解させ
ておき、激しく撹拌しながら0℃にて参考例1で
得た出発物(14.9g、0.078mol)のエーテル
(100ml)溶液を25分間かけて加えた。続いて7時
間加熱還流させたのち冷却し、飽和硫酸ナトリウ
ム水溶液で過剰の水素化物を分解させ、析出した
無機物をセライト層を通じて別した。液を濃
縮蒸留して目的とするアルコール(10.9g、収率
94%)を得た。 bp 77〜79℃/17Torr. 1H NMR(CDCl3):δ1.1〜1.4(m、9H)、3.1〜
4.0(m、5H)、4.70及び4.78(2q、おのおのJ=
5.3Hz、1H). 元素分析値:C7H16O3として 計算値:C、56.73;H、10.88%. 実測値:C、56.91;H、11.03%. 〔α〕29 D −42.2゜(CHCl3、c5.87). 参考例 3 塩化オキザリル(6.4g、4.4ml、0.050mol)を
ジクロロメタン(100ml)に溶かし、この溶液へ
−70℃にてジメチルスルホキシド(7.9g、7.2
ml、0.1mol)のジクロロメタン(40ml)溶液を
15分かけて加えた。同温度で10分撹拌したのち、
参考例2で得たアルコール(5.0g、0.034mol)
のジクロロメタン(50ml)溶液を15分かけて滴下
した。反応液の温度は−65℃〜−70℃に保つた。
−70℃で30分撹拌した後、トリエチルアミン
(17.1g、23.5ml、0.168mol)を15分かけて加え、
同温度で25分撹拌した後、冷浴を除き、10℃まで
徐々に昇温した。後処理の後、蒸留して目的とす
るアルデヒド(3.82g、収率78%)を得た。 1H NMR(CDCl3):δ1.1〜1.4(m、9H)、3.20
(q、J=7.5Hz、2H)、3.7〜4.3(m、1H)、
4.71及び4.81(q、J=5.3Hz、1H)、9.59及び
9.64(d、各々J=3.0Hz及び1.5Hz、1H). 〔α〕23 D −56.9゜(CHCl3、c6.31). 参考例 4 参考例3で得られたアルデヒド(2.2g、15m
mol)、アセトンシアノヒドリン(1.53g、1.64
ml、18mmol)とトリエチルアミン(0.021ml)
とを0℃にて1時間撹拌した。減圧下に低沸点物
を留去させ、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイーで精製(ヘキサン−酢酸エチル3:1〜
1:1)して目的とするシアノヒドリン(2.6g、
収率100%)を得た。 Rf 0.28(ヘキサン−酢酸エチル=3:1) 1H NMR(CDCl3):δ1.1〜1.4(m、9H)、3.4〜
4.1(m、3H)、4.25及び4.28(2d、各々J=1.5Hz
及び4.5Hz、あわせて1H)、4.6〜5.0(m、1H). 参考例 5 参考例4で得たシアノヒドリン(2.55g、14.7
mmol)、シクロヘキサノンジメチルアセタール
(2.39g、16.5mmol)のジクロロメタン(40ml)
溶液にモレキユラーシーブ4A(約5g)共存下、
0℃にて硫酸ビストリメチルシリルのジクロロメ
タン溶液(1mol/dm3、0.45ml)を加え、0℃
にて10分、次いで室温で30分撹拌した。ピリジン
(0.1ml)を加えたのち、不溶物を別し、液を
濃縮したのち、残渣をカラムクロマトグラフイー
(ヘキサン−酢酸エチル10:1〜6:1)で精製
した。最初に溶出してきたものは(2S・3S)−
2・3−シクロヘキシリデンジオキシブタンニト
リル(0.69g、収率28%)であつた。 Rf 0.68(SiO2TLC、ヘキサン−酢酸エチル=
3:1) bp 130〜155℃(バス温)/16Torr. 1H NMR(CCl4):δ1.38(d、J=6.0Hz、3H)、
1.5〜1.8(m、10H)、4.02(d、J=7.5Hz、
1H)、4.36(quintet、J=6.0Hz、1H). MS:m/e(相対強度)181(M+、9.3)、152(11)、
138(100)、55(29)、41(15). 元素分析値 C10H15NO2として 計算値:C、66.27;H、8.34;N、7.73%. 実測値:C、66.38;H、8.39;N、7.57%. 〔α〕24 D +15.5゜(CHCl3、c8.84). 次に溶出したものが(2R・3S)−2・3−シク
ロヘキシリデンジオキシブタンニトリル(1.05g
収率40%)であつた。 Rf 0.55(SiO2、ヘキサン−酢酸エチル=3:
1). bp 130〜155℃(バス温)/16Torr. 1H NMR(CCl4):δ1.45(d、J=6.0Hz、3H)、
1.5〜1.8(m、10H)、4.21(quintet、J=6.0
Hz)、4.58(d、J=5.3Hz、1H). MS:m/e(相対強度)181(M+、9.3)、152(12)、
138(100)、84(10)、55(31)、42(10)、41(15). 元素分析値 C10H15NO2として 計算値:C、66.27;H、8.34;N、7.73%. 実測値:C、66.40;H、8.44;N、8.09%. 〔α〕23 D +26.4゜(CHCl3、c5.57). (2S・3S)−及び(2R、3S)−2・3−シクロ
ヘキシリデンジオキシブタンニトリルいずれもシ
フト剤(Eu(TFC)3〕を用いて光学純度を測定し
たところ95%以上の純度をもつことがわかつた。 実施例 1 臭化エチルマグネシウム(14mmol)のエーテ
ル溶液(21ml)に氷冷下、ジイソプロピルアミン
(2.84g、28mmol)を加え、1.5時間撹拌してMg
(Ni−Pr22を調製した。この溶液を−78℃に冷
却し酢酸エチル(617mg、7mmol)、次いで
(2S*・3S*)−2・3−シクロヘキシリデンジオ
キシブタンニトリル(370mg、1.75mmol)を加
えた。反応温度を約2時間かけて徐々に0℃に上
げた。塩化アンモニウム水溶液を加えて反応をと
め、エーテル抽出した。乾燥、濃縮後、蒸留によ
り(4S*・5S*)−3−アミノ−4・5−(シクロ
ヘキシリデンジオキシ)−2−ヘキセン酸エチル
を単離した(370mg、収率79%)。 bp 116℃/0.09Torr. 1H NMR(CDCl3):δ1.26、1.35及び1.64(それぞ
れt、d及びbr、s、合わせて16H)、3.8〜4.3
及び4.14(それぞれm及びq合わせて4H)、4.54
(S、1H)、5.8〜7.4(br、2H). 実施例 2 臭化エチルマグネシウム(14mmol)のエーテ
ル溶液(21ml)に氷冷下、ジイソプロピルアミン
(2.84g、28mmol)を加え、1.5時間撹拌した後、
酢酸t−ブチル(813mg、7mmol)を加えた。
同温度で30分間撹拌した後、(2S*・3S*)−2・
3−シクロヘキシリデンジオキシブタンニトリル
(634mg、3.5mmol)を加え、さらに3時間撹拌
を続けた。塩化アンモニウム水溶液を加えて反応
をとめ、エーテル抽出した。乾燥、濃縮後、蒸留
により、(4S*・5S*)−3−アミノ−4・5−(シ
クロヘキシリデンジオキシ)−2−ヘキセン酸t
−ブチルを単離した(790mg、収率76%)。 bp 128℃/0.07Torr. mp 96〜97℃. 1H NMR(CDCl3):δ1.33(d、3H)、1.46(s、
9H)、1.63(br、10H)、3.7〜4.0(m、2H)、
4.43(s、1H)、5.9〜6.9(br、2H). 実施例 3〜6 実施例1と同様の条件下表1の実施例3、4の
化合物を合成した。また実施例2と同様の条件下
で表1の実施例5、6の化合物を合成した。 【表】 実施例 7 (4S*・5S*)−3−アミノ−4・5−(シクロ
ヘキシリデンジオキシ)−2−ヘキセン酸エチル
(300mg、1.12mmol)、無水酢酸(3ml)、酢酸ナ
トリウム(98mg、1.2mmol)の混合物を80℃で
一晩加熱撹拌した。過剰の無水酢酸と副生する酢
酸を減圧下除去し、残渣を水にあけてエーテルで
抽出した。濃縮後、分取TLCにより(4S*・5S*
−3−アセトアミド−4・5−(シクロヘキシリ
デンジオキシ)−2−ヘキセン酸エチルを単離し
た(219mg、収率63%)。 Rf 0.43(ヘキサン−酢酸エチル 5:1) 1H NMR(CCl4):δ1.30、1.34及び1.62(それぞ
れt、d及びbr s、合わせて16H)、2.10(s、
3H)、3.86及び4.11(それぞれquintet及びq、
合わせて3H)、5.45(d、1H)、5.53(s、1H)、
11.06(broad、1H). 実施例 8〜14 実施例7と同様の条件下に表2の化合物を合成
した。 【表】 【表】 実施例 15 (4S*・5S*)−3−アセトアミド−4・5−
(シクロヘキシリデンジオキシ)−2−ヘキセン酸
エチル(200mg、0.589mmol)及び酸化白金(8
mg、0.035mmol)を酢酸エチル(2ml)中、水
素雰囲気下(1atm)、50℃で13時間加熱撹拌し
た。ロ過濃縮後、分取TLCにより(4S*・5S*)−
3−アセトアミド−4・5−(シクロヘキシリデ
ンジオキシ)ヘキサン酸エチルを単離した(163
mg、81%)。 Rf 0.14(ヘキサン−酢酸エチル 3:1). 1H NMR(ジアステレオマー混合物)
(CDCl3):δ1.25、1.26及び1.56(それぞれd、s
及びbrs、合わせて16H)、1.96(s、3H)、2.4
〜2.7(m、2H)、3.4〜4.6(m、5H)、5.9〜6.2
及び6.4〜6.6(2br d、1H). ガスクロマトグラフイーおよび 1H NMRスペ
クトルからジアステレオマー比は約4:1であ
る。 実施例 16〜21 実施例15と同様の条件で表3の実施例16〜21の
化合物を合成した。 【表】 実施例 22 水素化アルミニウムリチウム(16.7mg、0.44m
mol)をエーテル(3ml)に懸濁溶解させ、0℃
に冷却した。これにエーテル(2ml)に溶かした
(4S*・5S*)−3−アセトアミド−4・5−(シク
ロヘキシリデンジオキシ)ヘキサン酸エチル
(150mg、0.44mmol)を滴下し、同温度で4.5時間
撹拌した。エーテルを20ml加え、飽和硫酸ナトリ
ウム少量で過剰の水素化アルミニウムリチウムを
つぶし、無水硫酸マグネシウムで過剰の水をと
り、セライトでロ過した。濃縮後、分取TLCで
(4S*・5S*)−3−アセトアミド−4・5−(シク
ロヘキシリデンジオキシ)ヘキサン−1−オール
を単離した(103mg、収率86%)。 Rf 0.33(酢酸エチル). 1H NMR(ジアステレオマー混合物)
(CDCl3):δ1.36(d、3H)、1.63(br、s、12H)、
2.09(s、3H)、3.2〜4.4(m、6H)、5.5〜6.5
(br、1H). 実施例 23、24 実施例22と同様の条件下で表4の化合物を合成
した。 【表】 実施例 25 オキザリルクロリド(52.4mg、0.413mmol)を
塩化メチレン(2ml)にとかし、−78℃に冷却し
た。ジメチルスルホキシド(70.3mg、0.9mmol)
を加え15分撹拌した。ジクロロメタン(2ml)に
とかした(4S*・5S*)−3−アセトアミド−4・
5−(シクロヘキシリデンジオキシ)ヘキサン−
1−オール(101mg、0.373mmol)を加え、15分
後更にトリエチルアミン(190mg、1.88ml)を加
え、室温に戻した。ジクロロメタン20mlで希釈
し、飽和食塩水で洗浄した。乾燥濃縮後分取
TLCにより(4S*・5S*)−3−アセトアミド−
4・5−(シクロヘキシリデンジオキシ)ヘキサ
ナールを単離した(82mg、収率82%)。 Rf 0.45(酢酸エチル). 1H NMR(ジアステレオマー混合物)
(CDCl3):δ1.30(d、3H)、1.58(br s、10H)、
2.01(s、3H)、2.5〜2.8(m、2H)、3.3〜4.5
(m、3H)、5.5〜6.2(2br d、1H)、9.86(br
s、1H). 実施例 26 実施例25と同じ処法にて前記一般式(d)に
おいてR=Ph、R1=Me、R2′=Acの化合物から
前記一般式(e)で表わされる化合物において
R=Ph、R1=Me、R2′=Acの化合物を合成した
(収率73%)。 Rf 0.31(酢酸エチル). 1H NMR(ジアステレオマー混合物)(CDCl3)、
δ1.32(d、3H)、1.90(s、3H)、2.7〜2.9(m、
2H)、3.7〜4.5(m、3H)、5.8〜6.2(br、1H)、
7.2〜7.6(m、10H)、9.71(br s、1H). 参考例 6 (4S*・5S*)−3−アセトアミド−4・5−
(シクロヘキシリデンジオキシ)ヘキサナール
(70mg、0.26mmol)をメタノール(3ml)に溶
かし、塩酸を加え約0.01Nにした。室温で6時間
撹拌した後、炭酸水素ナトリウム少量加えて中和
し、析出物をロ過した。濃縮し、分取TLCで
(±)−N−アセチルドーノサミンメチルエーテル
(化合物A)及び(±)−3−エピ−N−アセチル
ドーノサミンメチルエーテル(化合物B)を混合
物として単離した(37mg、70%)。 1H NMRに
よりA:B=18:82であつた。これらは標品より
誘導したAとTLCにおいて一致した。 Rf 0.56(アセトン) 1H NMR(CDCl3)δ1.22及び1.31(2d、J=7
Hz、3H)、1.96、2.15及び1.8〜2.4(それぞれs、
s及びm、合わせて5H)、3.3〜3.4(4s、合わせ
て3H)、3.6〜4.4(m、3H)、4.75及び5.06(dd、
いずれもJ=4Hz、2Hz、合わせて1H)、5.7
〜6.4(br、1H). 参考例 7 (4R*・5S*)−3−アセトアミド−4・5−
(シクロヘキシリデンジオキシ)ヘキサン酸t−
ブチル(73mg、0.214mmol)をイソプロピルア
ルコール20mlに溶かし、これに濃塩酸水を加え約
0.01Nにした。45分間加熱還流させた後、減圧下
溶媒を除き、分取TLCで(4R*・5S*)−3−ア
セトアミド−5−ヒドロキシ−4−ヘキサノリド
を単離した(20mg、収率50%)。 Rf 0.22(酢酸エチル). 1H NMR(アセトン−d6):δ1.32(d、3H)、
2.08(s、3H)、2.50(dd、J=17、1.5Hz、
1H)、2.98(dd、J=17、7Hz、1H)、3.5〜3.9
(m、2H)、4.15(dd、J=7.5、4.0Hz、1H)、
4.5〜4.8(m、1H)、4.5(br、1H). この 1H NMRデータ(J34=7.5Hz)から上記
生成物はアコサミンと同じ立体配置をもつことが
わかつた。しかしリストサミンに相当する異性体
1H NMRで認められなかつたので上記生成物
の純度は95%以上といえる。 上の方法で得られたラクトンを文献〔J.C.S.
Chem.Comm.、442(1980)〕の方法で、水素化ジ
イソブチルアルミニウムで還元し、酸性条件下メ
タノール或は水で処理すればアコサミンメチルエ
ーテル或はアコサミンに誘導することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 で表わされるアミノポリオール誘導体(式中、R
    はアルキル基、アリール基又はアルキレン基R1
    はメチル基、R2は水素原子又はアシル基、R3
    水素原子、R4はホルミル基もしくはヒドロキシ
    ル基置換アルキル基又はアルコキシカルボニルア
    ルキル基であり、R3とR4とは一体となつて2−
    アルコキシカルボニルエテニル基を形成し得
    る。)。
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PCT/JP1983/000263 WO1984000755A1 (en) 1982-08-12 1983-08-12 Amino polyol derivatives
DE8383902577T DE3372207D1 (en) 1982-08-12 1983-08-12 Amino-polyol derivatives
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EP0117252A4 (en) 1985-02-18
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EP0117252B1 (en) 1987-06-24
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DE3372207D1 (en) 1987-07-30
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