JPS632435B2

JPS632435B2 -

Info

Publication number: JPS632435B2
Application number: JP56069687A
Authority: JP
Inventors: Shigeru Torii; Hideo Tanaka; Junzo Nogami; Norio Saito; Takashi Shiroi; Michio Sasaoka
Original assignee: Otsuka Chemical Co Ltd
Current assignee: Otsuka Chemical Co Ltd
Priority date: 1981-05-08
Filing date: 1981-05-08
Publication date: 1988-01-19
Also published as: JPS57185295A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規な塩素化チアゾリノアゼチジノン
誘導体及びその製造法に関する。本発明の塩素化チアゾリノアゼチジノン誘導体
は文献未載の新規化合物であつて、下記一般式
〔〕で表わされる。〔式中R¹はアリール基又はアリールオキシ基
を示す。R²は基

【式】基

【式】又は基

【式】を示す。ここでR³はフエニル環上にニトロ基を有することのあるアリール低
級アルキル基、フエニル環上にニトロ基を有する
ことのあるアリールオキシ低級アルキル基又はハ
ロゲン原子を置換基として有することのある低級
アルキル基を示す。〕上記一般式〔〕で表わされるチアゾリノアゼ
チジノン誘導体はペニシリン系、セフアロスポリ
ン系抗生物質を合成するための中間体として有用
な化合物である。例えば下記反応式に従い本発明
の化合物から抗菌剤として有用なセフアロスポリ
ン系化合物〔〕に誘導し得る。〔式中Ｘはハロゲン原子を示す。R¹，R²及び
R³は前記に同じ。〕上記一般式〔〕で表わされる塩素化チアゾリ
ノアゼチジノン誘導体は種々の方法により製造さ
れるが、その好ましい一例を挙げれば例えば酢酸
の存在下一般式〔式中R¹及びR²は前記に同じ。〕で表わされる塩素化チアゾリノアゼチジノン誘導
体に亜鉛を作用させることにより製造される。本発明において、R¹で示されるアリール基と
しては例えばフエニル基、トリル基、キシリル
基、ナフチル基、ｐ−クロルフエニル基、ｐ−メ
トキシフエニル基、ｐ−ニトロフエニル基、ｐ−
ヒドロキシフエニル基等を挙げることができ、ま
たアリールオキシ基としては例えばフエノキシ
基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチ
ルオキシ基、ｐ−クロルフエニルオキシ基、ｐ−
メトキシフエニルオキシ基、ｐ−ニトロフエニル
オキシ基、ｐ−ヒドロキシフエニルオキシ基等を
挙げることができる。R³で示されるフエニル環
上にニトロ基を有することのあるアリール低級ア
ルキル基としては例えばベンジル基、ｐ−ニトロ
ベンジル基、ジフエニルメチル基、２−フエニル
エチル基、２−（ｐ−ニトロフエニル）エチル基、
３−フエニルプロピル基、３−（ｐ−ニトロフエ
ニル）プロピル基等を挙げることができ、フエニ
ル環上にニトロ基を有することのあるアリールオ
キシ低級アルキル基としては例えばフエノキシメ
チル基、ｐ−ニトロフエノキシメチル基、２−フ
エノキシエチル基、２−（ｐ−ニトロフエノキシ）
エチル基、３−フエノキシプロピル基、３−（ｐ
−ニトロフエノキシ）プロピル基等を挙げること
ができ、またハロゲン原子を置換基として有する
ことのある低級アルキル基としては例えばメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、tert−ブチル基、２−クロロ
エチル基、２，２，２−トリクロロエチル基等を
挙げることができる。本発明において出発原料として用いられる一般
式〔〕の化合物は新規化合物であり、例えば下
記反応式に示す方法に従い製造される。〔式中R¹及びR³は前記に同じ〕。即ち一般式〔〕の化合物のうちR²が基

【式】を示す化合物（一般式〔 −ａ〕の化合物）は電解クロル化法により公知の
一般式〔〕の化合物から製造される。一般式
〔〕の化合物のうちR²が基

【式】を示す化合物（一般式〔−ｂ〕の化合物）は上
記で得られる一般式〔−ａ〕の化合物に光照射
下塩素を作用させることにより製造される。また
一般式〔〕の化合物のうちR²が基

【式】を示す化合物（一般式〔− ｃ〕の化合物）は上記で得られる一般式〔−
ｂ〕の化合物に塩基性化合物を作用させることに
より製造される。一般式〔〕で表わされる化合物の電解クロル
化は、例えば水と酢酸メチル、酢酸エチル、ギ酸
メチル、プロピオン酸エチル、クロロホルム、四
塩化炭素等の有機溶媒との混合溶媒中、塩酸及
び／又は塩化物の存在下に一般式〔〕で表わさ
れる化合物を電解処理すればよい。電解処理の条
件としては、通常約５〜500mA／cm²の範囲の電
流密度で約２〜50F／molの電気量を通電し、約
20〜100℃の範囲の温度で電解を行なえばよい。
斯くして一般式〔−ａ〕の化合物が製造され
る。一般式〔−ａ〕の化合物と塩素との反応は、
光照射下適当な有機溶媒中にて行なわれる。使用
される有機溶媒としては塩素に対して不活性な溶
媒をいずれも使用でき、例えばジクロルメタン、
ジブロムエタン、ジクロルエタン、クロロホル
ム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸
メチル、酢酸エチル、ギ酸メチル、酢酸ブチル、
プロピオン酸エチル等のエステル類、ジエチルエ
ーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリ
ル、ブチロニトリル等のニトリル類、ペンタン、
ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の
芳香族炭化水素、二硫化炭素又はこれらの混合溶
媒等を挙げることができる。塩素としては通常分
子状塩素が用いられる。一般式〔−ａ〕で表わ
される化合物と塩素との使用割合としては特に限
定がなく、広い範囲内にて適宜選択することがで
きるが、通常前者に対して後者を１〜10倍モル
量、好ましくは１〜５倍モル量用いるのがよい。
該反応は通常−20〜100℃程度にて行なわれ、斯
くして一般式〔−ｂ〕の化合物が製造される。一般式〔−ｂ〕で表わされる化合物に塩基性
化合物を作用させると脱塩酸反応が起こり一般式
〔−ｃ〕で表わされる化合物が生成する。塩基
性化合物としては従来公知のものを広く使用でき
るが、有機アミン類を用いるのが好ましく、具体
的にはジメチルアミン、ジエチルアミン、トリエ
チルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピペ
リジン、ルチジン、ピリジン、１，５−ジアザビ
シクロ〔５，４，０〕ウンデセン−５、１，５−
ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノネン−５等を例
示できる。塩基性化合物の使用量としては特に限
定がなく広い範囲内で適宜選択することができる
が、通常一般式〔−ｂ〕で表わされる化合物に
対して0.5〜10倍モル量、好ましくは１〜５倍モ
ル量用いられる。この脱塩酸反応は有機溶媒中で
行なつてもよいし、或いは使用する塩基性化合物
を溶媒として使用することもできる。有機溶媒と
しては原料化合物、目的化合物及び塩基性化合物
に対して不活性な溶媒を広く使用でき、例えば塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ルエタン、ジブロムエタン等のハロゲン化炭化水
素類、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭
化水素類、ベンゼン、クロルベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類等を挙げるこ
とができる。該反応は室温下、加温下及び冷却下
のいずれでも行なわれるが、通常−20〜80℃の範
囲内で行なうのがよく、斯くして一般式〔−
ｃ〕の化合物が製造される。一般式〔〕で表わされる化合物に亜鉛を作用
させるに際しては、反応系内に酢酸を存在させる
ことが必要である。酢酸の使用量としては特に制
限がなく広範囲から適宜選択され得るが、通常一
般式〔〕で表わされる化合物に対して１〜10倍
モル量、好ましくは２〜４倍モル量の酢酸を反応
系内に存在させるのがよい。また一般式〔〕で
表わされる化合物と亜鉛との使用割合としては特
に限定されず広い範囲内で適宜選択できるが、通
常一般式〔〕で表わされる化合物に対して通常
１〜10倍モル量、好ましくは２〜４倍モル量とす
るのがよい。該反応は一般に有機溶媒中にて行な
われる。有機溶媒としては原料化合物及び目的化
合物に不活性な溶媒を広く使用でき、例えば酢酸
エチル、酢酸メチル、プロピオン酸メチル等のエ
ステル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレン、
ジクロルエタン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類等を挙げることがで
きる。該反応においては比較的低温下に反応を行
なうことが望ましく、その反応温度としては−50
〜30℃程度が好適である。斯くして得られる本発明の化合物は通常行なわ
れている分離手段、例えば溶媒抽出、カラムクロ
マトグラフイー等の手段により反応混合物から容
易に単離精製される。以下に参考例及び実施例を挙げる。参考例１塩化ナトリウム１ｇを水３mlに溶解し、これに
濃硫酸0.07ml、塩化メチレン５ml及び化合物
〔〕（R¹＝フエニル、R³＝メチル）50mgを加え
電解液を調製する。３cm²の白金板電極を装入し
30mA定電流、1.6〜1.8V、25℃で約２時間電解
を行う。電解終了後塩化メチレン（30ml）で抽出
を行う。抽出液は亜硫酸ナトリウム水、重ソウ
水、食塩水で洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を除去して淡黄色の液体74mgを得た。こ
のものをシリカゲルカラムを用い、ベンゼン：酢
酸エチル（５：１）の混合溶液で展開すると目的
化合物〔−ａ〕（R¹＝フエニル、R³＝メチル）
が62.5mg（収率96％）得られた。（IR） 1780，1745cm^-1 NMR（CDC₃） 3.75（3H，ｓ，COOCH₃） 3.81（2H，ｓ，−CH₂C） 5.14（2H，ｓ，Ｃ＝CH₂） 5.41（1H，ｓ，

【式】 6.05（2H，ｓ，

【式】 7.3〜7.9（5H，ｍ、フエニル）参考例２化合物〔−ａ〕（R¹＝フエニル、R³＝メチ
ル）50mgを塩化メチレン0.5mlに溶解し、塩素の
飽和した塩化メチレン溶液1.5mlを加える。直ち
に750Wタングステンランプを用いて光照射しな
がら20〜27℃の範囲で１時間反応を行う。反応終
了後反応液を氷水に注ぎ、塩化メチレン層を分離
する。チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減
圧下溶媒を除去し、残渣をベンゼン−酢酸エチル
（９：１）を溶媒としてシリカゲルカラムで分離、
精製すると50.05mgの化合物〔−ｂ〕（R¹＝フエ
ニル、R³＝メチル）を得る。収率86％ IR（cm^-1） 1770，1760 NMR（CDC₃δ） 3.80（ｓ，3H）、3.89（bs，2H） 4.12（ｓ，2H）、5.12（ｓ，1H） 6.10（ｄ，1H）、6.28（ｄ，1H） 7.2〜7.5（ｍ，3H） 7.5〜7.8（ｍ，2H）参考例３化合物〔−ｂ〕（R¹＝フエニル、R³＝メチ
ル）55mgを塩化メチレン0.5mlに溶解し、これに
トリエチルアミン74μを加え、室温で撹拌す
る。２時間反応を行つた後エーテル５mlを加え、
次に水を加えて洗浄する。続いて10％塩酸、飽和
食塩水で洗浄する。エーテル層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧下溶媒を除去する。残渣をシ
リカゲルカラムで精製すると、無色油状物として
目的物〔−ｃ〕（R¹＝フエニル、R³＝メチル）
を得る。収率93％ IR（cm^-1） 1765，1735 NMR（CDC₃，δ，ppm） 3.83（ｓ，3H，COOCH₃） 4.10（bs，2H，−CH₂C） 4.67（ｓ，2H，−CH₂C） 5.94（ｄ，1H、ラクタム、Ｊ＝4.5
Hz） 6.16（ｄ，1H、ラクタム、Ｊ＝4.5
Hz） 7.2−7.55（ｍ，3H，Ph） 7.55−7.9（ｍ，2H，Ph）実施例１化合物〔〕（R¹＝フエニル、

【式】300mg及び亜鉛粉末 100mgを塩化メチレン２mlに混合し、０〜−５℃
に冷却する。これに酢酸0.5mlを加え、30分間撹
拌する。反応終了後冷却下エーテル15mlを加え、
有機溶液を分離する。次いで水、飽和重曹水、飽
和食塩水でそれぞれ洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥する。減圧下溶媒を除去し、残渣をベ
ンゼン−酢酸エチル（10：１）の溶媒を用いてシ
リカゲルカラムで精製、分離すると、目的物
〔〕（R¹＝フエニル、

【式】を得る。収率94.5％ IR（CHC₃，cm^-1） 1774，1744 NMR（CDC₃，δ，ppm） 3.71（ｓ，3H）、3.78（ｓ，2H） 3.83（ｓ，2H）、5.09（ｓ，2H） 5.37（ｓ，1H）、5.88（ｍ，2H） 7.22（ｓ，5H）実施例２〜７実施例１と同様の操作、処理を行つた。結果を
第１〜２表に示す。尚表中Phはフエニル基を意
味する。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１酢酸の存在下一般式〔式中R¹はアリール基又はアリールオキシ基
を示す。R²は【式】基【式】又は基【式】を示す。ここでR³はフエニル環上にニトロ基を有することのあるアリール低
級アルキル基、フエニル環上にニトロ基を有する
ことのあるアリールオキシ低級アルキル基又はハ
ロゲン原子を置換基として有することのある低級
アルキル基を示す。〕で表わされる塩素化チアゾリノアゼチジノン誘導
体に亜鉛を作用させて一般式〔式中R¹及びR²は前記に同じ。〕で表わされる塩素化チアゾリノアゼチジノン誘導
体を得ることを特徴とする塩素化チアゾリノアゼ
チジノン誘導体の製造法。