JPH0244474B2 - Karubasefuemukagobutsu - Google Patents
KarubasefuemukagobutsuInfo
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- JPH0244474B2 JPH0244474B2 JP7203483A JP7203483A JPH0244474B2 JP H0244474 B2 JPH0244474 B2 JP H0244474B2 JP 7203483 A JP7203483 A JP 7203483A JP 7203483 A JP7203483 A JP 7203483A JP H0244474 B2 JPH0244474 B2 JP H0244474B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なカルバセフエム化合物に関す
る。さらに詳しくは本発明は一般式〔〕 〔式中、ＲはC1〜C5の直鎖もしくは分岐のア
ルキル基（ハロゲンで置換されていてもよい）、
置換シリル基、またはベンジル基、ベンズヒドリ
ル基もしくはトリチル基（ただし、これらの基の
フエニル核はメチル基、メトキシ基またはニトロ
基で置換されていてもよい）である〕で表わされ
る新規なカルバセフエム化合物（以下、化合物
〔〕又は単に〔〕という。他の式番号の化合
物についても同様）に関する。 従来３位に置換基を有するカルバセフエム化合
物として、３位にハロゲン原子を有するもの
（GB2041923A、特開昭55−87791）、メチル基、
ヒドロキシメチル基等を有するもの（米国特許第
4226866号）等が知られている。 かくのごとく、３位にホルミル基を有する該化
合物〔〕は文献上に記載のない新しい化合物で
あり、このものは後述するように抗菌作用をもつ
化合物に交換できる有用な中間体である。 一般式〔〕中、Ｒについて「C1〜C5の直鎖
または分岐のアルキル基」としてはメチル、エチ
ル、tert―ブチル等があげられる。Ｒについてハ
ロゲンで置換した基としてはクロロメチル、クロ
ロエチル、２，２，２―トリクロロエチル、２，
２，２―トリフルオロエチル等が例示され、ハロ
ゲンとしては塩素、フツ素、臭素が例示される。
置換シリル基としてはトリメチルシリル、tert―
ブチルジメチルシリル等が例示される。 化合物〔〕は一般式〔〕 （式中、Ｒは前記と同義である。）で表わされ
る特願昭57−198719に記載されている化合物を出
発化合物として、以下のプロセスに従つて合成さ
れる。 〔〕→（〕へのニトロメチル基のアルデヒ
ド基への変換は、好ましい方法としてネツフ反応
（希酸処理）、塩基処理後のMoO5・ピリジン・ヘ
キサメチルホスホラミドによる反応、塩基処理後
のオゾン酸化、塩基処理後の過マンガン酸カリウ
ムによる反応、三塩化チタンによる反応等が例示
されるが、特に最後の方法がおだやかで好まし
い。その反応方法はJ.Org.Chem.，38，＃26，
4367（1973）に記載されている。特に好ましくは、
ニトロ体〔〕を三塩化チタンの水溶液とメタノ
ール、エタノール、１，２―ジメトキシエタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒と
の混合系で0゜〜30℃で反応を行なう。反応系に例
えば酢酸アンモニウム等を加えて弱酸性条件下で
行えば更に収率が良い。用いる三塩化チタンは基
質に対して１〜10当量である。 〔〕→〔〕への二重結合の導入は、〔〕
を適当なハロゲン化物と処理し、アルデヒドのα
位、すなわち３位にハロゲンを導入し、その後、
適当な塩基を用いて脱ハロゲン化水素することに
より行なわれる。３位のハロゲン化には、通常の
アルデヒドのα位のハロゲン化に用いられる試薬
が用いられるが好ましくは、臭素、塩素、Ｎ―ブ
ロモサクシイミド、Ｎ―クロロサクシイミド、Ｎ
―ブロモアセタミド、スルフリルクロライド、臭
化第二銅、塩化第二銅、沃化ベンゼンジクロライ
ド、ピロリドンハイドロトリプロマイド、５，５
―ジブロモ―２，２―ジメチル―４，６―ジオキ
ソ―１，３―ジオキサン等が例示される。特に最
後の２つのハロゲン化剤が好ましい。使用する溶
媒はそれ自身反応に関与しない不活性なものであ
れば、特に限定されないが、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、１，２―ジメトキシエタン、ジ
エチルエーテル、塩化メチレン、クロロホルム、
トルエン、アセトニトリル等が例示される。反応
温度は−20℃〜80℃、好ましい温度は用いるハロ
ゲン化剤によつて異なるが０℃〜60℃である。ま
たハロゲン化反応の際反応を円滑に進行させるた
めに必要により、適当な酸、塩基を加えることも
可能である。反応時間は用いるハロゲン化剤、反
応温度、溶媒等により異なるが通常10分〜２時間
である。生成したハロゲン化物は単離することな
く、適当な塩基と処理することにより、目的の化
合物〔〕を得ることができる。その時用いる塩
基としてはトリエチルアミン、ジエチルアミン、
１，５―ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノネン―
５，１，８―ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウン
デセン―７、ピペラジン、ピロリジン、ピリジ
ン、Ｎ，Ｎ―ジメチルアニリン、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カル
シウム等が例示される。用いる塩基の量は出発原
料〔〕に対して１〜５当量、好ましくは２〜３
当量であり、その時の反応温度は−10゜〜50℃、
好ましくは氷冷下に行い、反応時間は30分〜６時
間、好ましくは１〜３時間である。 ここで得られた化合物〔〕は、抗菌作用を有
する化合物に変換できる有用な中間体であるが、
以下にその一例としてビニルカルバセフアロスポ
リン化合物への誘導を例示する。またその実施態
様については参考例に示す。 上記工程式について、Ｙとしてはエトキシカル
ボニル基、シアノ基、１―メチル―５―テトラゾ
リン基等が例示され、R1としては、ペニシリン、
セフアロスポリンの化学の領域で常用される種々
のアシル基が選択される。 脱フタロイル化は特開昭57−91991に記載され
ているヒドラジン化合物を用いる方法により行な
うことができる。またCO2Rで示されるエステル
基はペニシリン、セフアロスポリンの化学で頻用
されている手法を用いて、適当な条件、試剤を選
ぶことにより分子中の置換基、官能基を損なわず
にカルボキシル基に変換できる。 本発明の実施例、参考例を以下に示す。 実施例 １ 1‐1 （±）―６，７―シス―７―フタリミド―
１―アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―３―
ホルミル―８―オキソ―２―カルボン酸，第３
ブチルエステル： 参考例６で得られた（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―３―ニトロメチル―８―オキソ―２―カ
ルボン酸，第３ブチルエステル2.75ｇ（6.4ミリ
モル）を１，２―ジメトキシエタン60mlとメタノ
ール40mlに溶解し、このものに酢酸アンモニウム
11.5ｇ、25％水性三塩化チタン溶液15.5ｇおよび
水からなる70mlの溶液を７回にわけて１時間かけ
て加え、その後室温で１時間撹拌を行なう。反応
液に水200mlと酢酸エチル200mlを加え抽出を行な
う。抽出液を飽和食温水で２度、飽和重そう水で
１度、水で２度、飽和食温水で１度、順次洗浄
後、芒硝で乾燥後、溶媒を留去すると粗目的物
1.92ｇ（74.9％）を得る。このものは精製するこ
となく次の工程に使用できる。 以下に粗目的物の一部をシリカゲルクロマトグ
ラフイー（ｎ―ヘキサン―酢酸エチル１：１）に
より精製した目的化合物の物性値を示す。 ＜高極性化合物＞ IRνKBr nax（cm-1）：1795，1780（sh），1775，1740
（sh），1730 NMR（CDCl3）δ：9.90（1H，ｓ），7.67−7.93
（4H，ｍ），5.43（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz），5.17
（1H，br.s），3.90−4.20（1H，ｍ），2.77−2.93
（1H，ｍ），1.47−2.57（4H，ｍ），1.50（9H，
ｓ） ＜低極性化合物＞ IRνKBr nax（cm-1）：1795，1780（sh），1775，1740
（sh），1730 NMR（CDCl3）δ：9.80（1H，ｓ），7.70−7.97
（4H，ｍ），5.50（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz），5.20
（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz），3.93−4.27（1H，ｍ），
2.93−3.13（1H，ｍ），1.23−2.43（4H，ｍ），
1.47（9H，ｓ） 1‐2 （±）―６，７―シス―７―フタリミド―
１―アザビジクロ〔４，２，０〕オクト―２―
エン―３―ホルミル―８―オキソ―２―カルボ
ン酸，第３ブチルエステル： １−１）で得られた（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―３―ホルミル―８―オキソ―２―カルボ
ン酸，第３ブチルエステル10.2ｇを無水テトラヒ
ドロフラン200mlに溶解し、このものにピロリド
ン・ハイドロトリブロマイド12.8ｇを加え、50℃
にて、１時間撹拌を行なう。次に反応液を０℃に
冷却し、このものに撹拌下トリエチルアミン12.5
mlを加え、そのまま２時間撹拌を行なう。反応液
を冷却下1N塩酸水にあけ、酢酸エチルで抽出を
行なう。有機層を水、亜硫酸ナトリウム水、水そ
して飽和食塩水の順に洗滌し、芒硝で乾燥後、溶
媒を減圧下留去する。得られた残渣を酢酸エチル
―ジメチルエーテル―ｎ―ヘキサンからなる混合
溶媒系より結晶化を行ない、目的物2.36ｇを固形
物として得る。更に母液を減圧下濃縮し、シリカ
ゲル100ｇ（ｎ―ヘキサン／酢酸エチル１：１）
を用いて精製すると更に1.26ｇの目的物を得る
（収率36％）。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（CDCl3）δ：9.97（1H，ｓ），7.70〜8.00
（4H，ｍ），5.68（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz），3.90〜
4.20（1H，ｍ），2.77〜3.10（1H，ｍ），1.33〜
1.67（3H，ｍ），1.60（9H，ｓ）。 IRνCHCl 3nax（cm-1）：1810（sh），1800，1790，1730
，
1725（sh），1670，1600。 実施例 ２ （±）―６，７―シス―７―フタリミド―１―
アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―２―エン
―３―ホルミル―８―オキソ―２―カルボン
酸，第３ブチルエステル： 参考例６で得られた（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―３―ニトロメチル―８―オキソ―２―カ
ルボン酸，第３ブチルエステル2.75ｇ（6.4ミリ
モル）を１，２―ジメトキシエタン60mlとメタノ
ール40mlに溶解し、このものに酢酸アンモニウム
11.5ｇ，25％水性三塩化チタン溶液15.5ｇおよび
水からなる70mlの溶液を７回にわけて１時間かけ
て加え、その後室温で１時間撹拌を行なう。反応
液に水200mlと酢酸エチル200mlを加え抽出を行な
う。抽出液を飽和食塩水で２度、飽和重そう水で
１度、水で２度、飽和食塩水で１度、順次洗浄
後、芒硝で乾燥後、溶媒を留去する。残渣に無水
テトラヒドロフラン35mlを加え、このものにピロ
リドンハイドロトリブロマイド2.4ｇを加え、50
℃にて１時間撹拌を行なう。次に反応液を０℃に
冷却し、このものに撹拌下、トリエチルアミン
2.4mlを加え、そのまま２時間撹拌を行なう。反
応液を冷却下1N塩酸水にあけ、酢酸エチルで抽
出を行なう。有機層を水、亜硫酸ナトリウム水、
そして飽和食塩水の順に洗浄し、芒硝で乾燥後、
溶媒を減圧留去する。得られた残渣を酢酸エチル
―ジエチルエーテル―ｎ―ヘキサンからなる混合
溶媒系より結晶化を行なうと目的物631mgを固形
物として得る。更に母液をシリカゲル20ｇ（ｎ―
ヘキサン／酢酸エチル１：１）を用いて精製する
と更に303mgの目的物を得る（収率35％）。 このものの物性値は実施例１で得られたものと
全く同一である。 参考例 １ （±）―６，７―シス―７―フタリミド―１―
アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―２―エン
―３―〔２―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）ビニル〕―８―オキソ―２―カ
ルボン酸，第３ブチルエステル： 実施例１で得られる（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―２―エン―３―ホルミル―８―オキソ―
２―カルボン酸，第３ブチルエステル600mgを無
水テトラヒドロフラン20mlに溶解し、このものに
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）メ
チレントリフエニルホスホラン1.1ｇを加え、室
温に24時間撹拌を行なう。反応液を減圧下濃縮
し、残渣をクロロホルムに溶かし、シリカゲル
100ｇ（酢酸エチル：クロロホルム：ｎ―ヘキサ
ン＝３：１：１）を用いて精製すると520mgの目
的物を固形物として得る（収率72％）。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（CDCl3）δ：8.17（1H，ｄ，Ｊ＝16.5Hz），
7.70〜7.93（4H，ｍ），6.51（1H，ｄ，Ｊ＝16.5
Hz），5.65（1H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），4.07（3H，
ｓ），3.90〜4.17（1H，ｍ），1.90〜3.00（4H，
ｍ），1.60（9H，ｓ）。 IRνKBr nax（cm-1）：1795，1785，1775（sh），1730，
1725（sh），1625。 参考例 ２ （±）―６，７―シス―７―フタリミド―１―
アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―２―エン
―３―（２―エトキシカルボニルビニル）―８
―オキソ―２―カルボン酸，第３ブチルエステ
ル： 実施例１で得られる（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―２―エン―３―ホルミル―８―オキソ―
２―カルボン酸，第３ブチルエステル2.73mgをト
ルエン14mlに溶解し、このものにカルベトキシメ
チレントリフエニルホスホラン32mgを加え、60℃
に４時間撹拌を行なう。反応液を減圧下濃縮し、
残渣をクロロホルムに溶かし、シリカゲル50ｇ
（ｎ―ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）を用いて
精製すると190mgの目的物を固形物として得る
（収率59％）。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（CDCl3）δ：8.03（1H，ｄ，Ｊ＝16.5Hz），
7.67〜7.90（4H，ｍ），5.95（1H，ｄ，Ｊ＝16.5
Hz），5.63（1H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），4.20（2H，
ｑ，Ｊ＝7.5Hz），3.83〜4.10（1H，ｍ），1.77〜
2.90（4H，ｍ），1.60（9H，ｓ），1.27（3H，ｔ，
Ｊ＝7.5Hz） IRνCHCl 3nax（cm-1）：1800（sh），1795，1785（sh）
，
1780，1730，1725（sh），1710（sh），1620 参考例 ３ （±）―６，７―シス―７―フタリミド―１―
アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―２―エン
―３―（２―シアノビニル）―８―オキソ―２
―カルボン酸，第３ブチルエステル： 実施例１で得られる（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―２―エン―３―ホルミル―８―オキソ―
２―カルボン酸，第３ブチルエステル１ｇを無水
テトラヒドロフラン28mlに溶解し、このものにシ
アノメチレントリフエニルホスホラン1.1ｇを加
え、室温に18時間撹拌を行なう。反応液を減圧下
濃縮し、残渣をクロロホルムに溶かし、シリカゲ
ル120ｇ（ｎ―ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）
を用いて精製すると708mgの目的物を固形物とし
て得る（収率67％）。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（CDCl3）δ：7.70〜7.93（4H，ｍ），7.5
（1H，，Ｊ＝13.5Hz），5.67（1H，ｄ，Ｊ＝5.5
Hz），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝13.5Hz），3.90〜4.13
（1H，ｍ），3.07〜3.43（1H，ｍ），2.37〜2.90
（1H，ｍ），1.77〜2.36（2H，ｍ），1.57（9H，
ｓ） IRνKBr nax（cm-1）：2225，1805（sh），1800，1790，
1780（sh），1735（sh），1730 参考例 ４ （±）―６，７―シス―７―〔２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）―２―シン―メトキ
シイミノアセタミド〕―３―〔２―（１―メチ
ル―1H―テトラゾール―５―イル）ビニル〕
―８―オキソ―１―アザビシクロ〔４，２，
０〕オクト―２―エン―２―カルボン酸： 参考例１で得られた（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―２―エン―３―〔２―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イン）ビニル〕―８―
オキソ―２―カルボン酸，第３ブチルエステル
540mgをテトラヒドロフラン15.6mlと水2.7mlに溶
かし、氷冷下、硫化ナトリウム・９水塩375mgを
含有する水溶液3.52mlを加え、15分間撹拌を行な
う。反応液に1N塩酸を加え、PHを1.5に調整し、
酢酸エチルで２度抽出を行ない、有機層を飽和食
塩水で洗滌後、芒硝で乾燥する。減圧下溶媒を留
去し、残渣に無水テトラヒドロフラン6.8mlを加
え、このものにＮ，N′―ジシクロヘキシルカル
ボジイミド281mgを加え、室温に２時間撹拌を行
なう。生成した沈殿を別後、液を−78℃に冷
却し、このものにメチルヒドラジン72μを加
え、そのまま20分撹拌を行なう。次に1N塩酸1.2
mlを加え、20分かけて室温にもどし、そのまま更
に30分間撹拌を行なう。反応液に水50mlと1N塩
酸２mlを加え、酢酸エチルで３度水層を洗滌後、
冷却下、飽和重そう水で水層のPHを８に調整し、
酢酸エチルで３度抽出を行なう。有機層を飽和食
塩水で洗滌し、芒硝で乾燥する。有機層にトリフ
ルオロ酢酸0.8mlを加え、減圧下溶媒を留去する。
残渣に、無水塩化メチレン７mlを加え、更にトリ
フルオロ酢酸７mlを加えて室温に１時間放置す
る。減圧下溶媒を留去する。残渣に酢酸エチル５
mlを加え再び減圧下溶媒を留去する。得られた残
渣をエーテルで破砕すると固化物135mgを得る。
このものを水3.7ml、テトラヒドロフラン2.2mlか
らなる溶液に溶解し、トリエチルアミンでPHを
7.7に調整する。 一方、２―（２―トリチルアミノ―４―チアゾ
リル）―２―シン―メトキシイミノ酢酸266mgを
３mlの無水テトラヒドロフランに溶解し、氷冷下
84μのトリエチルアミンを加える。次いで五塩
化リン125mgを加え同温度で１時間撹拌を行ない
酸クロライド溶液とする。この酸クロライド溶液
をトリエチルアミンでPHを7.5〜8.0に保ちなが
ら、上記溶液に滴下する。その後同温度で１時間
撹拌を行なう。次いで1N塩酸でPHを1.5とした
後、飽和食塩水を加えて、酢酸エチルで２度抽出
を行なう。有機層を飽和食塩水で洗滌後、溶媒を
減圧下留去する。残渣に50％酢酸水20mlを加え、
50℃で１時間撹拌する。溶媒を減圧留去し、得ら
れた残渣を少量のジメチルスルホキシドに溶解
し、ダイヤイオンHP10（30ml）に通塔し、カラ
ムを水洗後、水―メタノール（３：１）で溶出さ
れる目的物を含有する画分を集め、減圧下溶媒を
留去すると36mgの目的物を固形物として得る（収
率７％）。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（D2O−CD3OD−d6DMSO）δ：8.10（1H，
ｄ，Ｊ＝16.5Hz），6.92（1H，ｓ），6.73（1H，
ｄ，Ｊ＝16.5Hz），5.52（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz），
4.10（3H，ｓ），3.90〜4.17（1H，ｍ），4.00
（3H，ｓ），1.67〜3.10（4H，ｍ） IRνKBr nax（cm-1）：1780（sh），1770，1755（sh），
1660，1620 参考例 ５ （±）―６，７―シス―７―〔２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）―２―シン―メトキ
シイミノアセタミド〕―３―（２―エトキシカ
ルボニルビニル）―８―オキソ―１―アザビシ
クロ〔４，２，０〕オクト―２―エン―２―カ
ルボン酸： 参考例２で得られた（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―２―エン―３―（２―エトキシカルボニ
ルビニル）―８―オキソ―２―カルボン酸，第３
ブチルエステル390mgを用い、参考例４と同様の
方法で脱保護、アシル化反応を行ない、目的化合
物40mgを固形物として得る（収率14％）。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（D2−CD3OD−d6DMSO）δ：7.95（1H，
ｄ，Ｊ＝16.4Hz），6.81（1H，ｓ），6.10（1H，
ｄ，Ｊ＝16.4Hz），5.53（1H，ｄ，Ｊ＝5.2Hz），
4.19（2H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz），3.94（3H，ｓ），
1.27（3H，ｔ，Ｊ＝7.0Hz） IRνKBr nax（cm-1）：1790（sh），1780，1770（sh），
1760
（sh），1670，1630 参考例 ６ （±）―６，７―シス―７―フタリミド―１―
アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―３―ニト
ロメチル―８―オキソ―２―カルボン酸，第３
ブチルエステル： （±）―シス―７―フタリミド―１―アザビシ
クロ〔４，２，０〕オクト―２―エン―８―オキ
ソ―２―カルボン酸，第３ブチルエステル６ｇ
（16.3ミリモル）をニトロメタン60mlに懸濁し、
このものに１，８―ジアザビシクロ〔５，４，
０〕ウンデセン―７ 1.05mlを加え、室温で23時
間撹拌を行なう。反応液を氷冷した0.5N塩酸水
200mlにあけ、酢酸エチル200mlで抽出し、飽和食
塩水で３度、飽和重そう水で２度、水で２度、飽
和食塩水で１度順次洗滌後、芒硝で乾燥後、溶媒
を留去する。得られた残渣を酢酸エチル―ｎ―ヘ
キサンより結晶化すると、4.55ｇ（65％）の目的
物を得る。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（CDCl3）δ：7.63〜7.97（4H，ｍ），5.48
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz），5.03（1H，dd，Ｊ＝
10.5，7.5Hz），4.85（1H，dd，Ｊ＝10.5，7.5
Hz），4.51（1H，br.s），3.93〜4.23（1H，ｍ），
2.87〜3.17（1H，ｍ），1.43〜1.93（4H，ｍ），
1.50（9H，ｓ） IRνKBr nax（cm-1）：1790（sh），1780（sh），1770，
1730，1560，1385 参考例 ７ （±）―６，７―シス―７―フタリミド―１―
アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―２―エン
―３―シアノ―８―オキソ―２―カルボン酸，
第３ブチルエステル： 実施例１で得られる（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―２―エン―３―ホルミル―８―オキソ―
２―カルボン酸，第３ブチルエステル800mgをト
ルエン10mlに懸濁する。このものにピリジン
550μとＯ，Ｎ―ビス―（トルフルオロアセチ
ル）―ヒドロキシアミン960mgを加え、85℃に一
時間加熱撹拌を行なう。反応液を冷却後、水と酢
酸エチルを加え、有機層を分離する。有機層を
水、重そう水、飽和食塩水で順次洗浄後、有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥する。有機層を減圧
下留去し、得られた残渣を酢酸エチル―クロロホ
ルム―ｎ―ヘキサン系より結晶化と行なうと目的
のシアノ体596mgを得る。更に母液をシリカゲル
70ｇ（クロロホルム―ｎ―ヘキサン―酢酸エチル
＝１：１：１）を用いて精製すると124mgの目的
物を得る。（収率91.5％） このものの物性値は以下の通りである。 NMR（CDCl3）δ：7.7〜8.0（4H，ｍ）、5.70（1H，
ｄ，Ｊ＝5.5Hz）、3.83〜4.23（1H，ｍ）、2.37〜
2.73（2H，ｍ）、1.80〜2.17（2H，ｍ）、1.59
（9H，ｓ） IRνKBr nax（cm-1）：2230，1810（sh），1805，1795
（sh），1780（sh），1740（sh），1735，1725（sh） 参考例 ８ Mueller−Hinton寒天（PH7.0）上での希釈法
による最終有用化合物の抗菌活性を次表に示す
（MIC μｇ／ml）。 【表】
る。さらに詳しくは本発明は一般式〔〕 〔式中、ＲはC1〜C5の直鎖もしくは分岐のア
ルキル基（ハロゲンで置換されていてもよい）、
置換シリル基、またはベンジル基、ベンズヒドリ
ル基もしくはトリチル基（ただし、これらの基の
フエニル核はメチル基、メトキシ基またはニトロ
基で置換されていてもよい）である〕で表わされ
る新規なカルバセフエム化合物（以下、化合物
〔〕又は単に〔〕という。他の式番号の化合
物についても同様）に関する。 従来３位に置換基を有するカルバセフエム化合
物として、３位にハロゲン原子を有するもの
（GB2041923A、特開昭55−87791）、メチル基、
ヒドロキシメチル基等を有するもの（米国特許第
4226866号）等が知られている。 かくのごとく、３位にホルミル基を有する該化
合物〔〕は文献上に記載のない新しい化合物で
あり、このものは後述するように抗菌作用をもつ
化合物に交換できる有用な中間体である。 一般式〔〕中、Ｒについて「C1〜C5の直鎖
または分岐のアルキル基」としてはメチル、エチ
ル、tert―ブチル等があげられる。Ｒについてハ
ロゲンで置換した基としてはクロロメチル、クロ
ロエチル、２，２，２―トリクロロエチル、２，
２，２―トリフルオロエチル等が例示され、ハロ
ゲンとしては塩素、フツ素、臭素が例示される。
置換シリル基としてはトリメチルシリル、tert―
ブチルジメチルシリル等が例示される。 化合物〔〕は一般式〔〕 （式中、Ｒは前記と同義である。）で表わされ
る特願昭57−198719に記載されている化合物を出
発化合物として、以下のプロセスに従つて合成さ
れる。 〔〕→（〕へのニトロメチル基のアルデヒ
ド基への変換は、好ましい方法としてネツフ反応
（希酸処理）、塩基処理後のMoO5・ピリジン・ヘ
キサメチルホスホラミドによる反応、塩基処理後
のオゾン酸化、塩基処理後の過マンガン酸カリウ
ムによる反応、三塩化チタンによる反応等が例示
されるが、特に最後の方法がおだやかで好まし
い。その反応方法はJ.Org.Chem.，38，＃26，
4367（1973）に記載されている。特に好ましくは、
ニトロ体〔〕を三塩化チタンの水溶液とメタノ
ール、エタノール、１，２―ジメトキシエタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒と
の混合系で0゜〜30℃で反応を行なう。反応系に例
えば酢酸アンモニウム等を加えて弱酸性条件下で
行えば更に収率が良い。用いる三塩化チタンは基
質に対して１〜10当量である。 〔〕→〔〕への二重結合の導入は、〔〕
を適当なハロゲン化物と処理し、アルデヒドのα
位、すなわち３位にハロゲンを導入し、その後、
適当な塩基を用いて脱ハロゲン化水素することに
より行なわれる。３位のハロゲン化には、通常の
アルデヒドのα位のハロゲン化に用いられる試薬
が用いられるが好ましくは、臭素、塩素、Ｎ―ブ
ロモサクシイミド、Ｎ―クロロサクシイミド、Ｎ
―ブロモアセタミド、スルフリルクロライド、臭
化第二銅、塩化第二銅、沃化ベンゼンジクロライ
ド、ピロリドンハイドロトリプロマイド、５，５
―ジブロモ―２，２―ジメチル―４，６―ジオキ
ソ―１，３―ジオキサン等が例示される。特に最
後の２つのハロゲン化剤が好ましい。使用する溶
媒はそれ自身反応に関与しない不活性なものであ
れば、特に限定されないが、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、１，２―ジメトキシエタン、ジ
エチルエーテル、塩化メチレン、クロロホルム、
トルエン、アセトニトリル等が例示される。反応
温度は−20℃〜80℃、好ましい温度は用いるハロ
ゲン化剤によつて異なるが０℃〜60℃である。ま
たハロゲン化反応の際反応を円滑に進行させるた
めに必要により、適当な酸、塩基を加えることも
可能である。反応時間は用いるハロゲン化剤、反
応温度、溶媒等により異なるが通常10分〜２時間
である。生成したハロゲン化物は単離することな
く、適当な塩基と処理することにより、目的の化
合物〔〕を得ることができる。その時用いる塩
基としてはトリエチルアミン、ジエチルアミン、
１，５―ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノネン―
５，１，８―ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウン
デセン―７、ピペラジン、ピロリジン、ピリジ
ン、Ｎ，Ｎ―ジメチルアニリン、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カル
シウム等が例示される。用いる塩基の量は出発原
料〔〕に対して１〜５当量、好ましくは２〜３
当量であり、その時の反応温度は−10゜〜50℃、
好ましくは氷冷下に行い、反応時間は30分〜６時
間、好ましくは１〜３時間である。 ここで得られた化合物〔〕は、抗菌作用を有
する化合物に変換できる有用な中間体であるが、
以下にその一例としてビニルカルバセフアロスポ
リン化合物への誘導を例示する。またその実施態
様については参考例に示す。 上記工程式について、Ｙとしてはエトキシカル
ボニル基、シアノ基、１―メチル―５―テトラゾ
リン基等が例示され、R1としては、ペニシリン、
セフアロスポリンの化学の領域で常用される種々
のアシル基が選択される。 脱フタロイル化は特開昭57−91991に記載され
ているヒドラジン化合物を用いる方法により行な
うことができる。またCO2Rで示されるエステル
基はペニシリン、セフアロスポリンの化学で頻用
されている手法を用いて、適当な条件、試剤を選
ぶことにより分子中の置換基、官能基を損なわず
にカルボキシル基に変換できる。 本発明の実施例、参考例を以下に示す。 実施例 １ 1‐1 （±）―６，７―シス―７―フタリミド―
１―アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―３―
ホルミル―８―オキソ―２―カルボン酸，第３
ブチルエステル： 参考例６で得られた（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―３―ニトロメチル―８―オキソ―２―カ
ルボン酸，第３ブチルエステル2.75ｇ（6.4ミリ
モル）を１，２―ジメトキシエタン60mlとメタノ
ール40mlに溶解し、このものに酢酸アンモニウム
11.5ｇ、25％水性三塩化チタン溶液15.5ｇおよび
水からなる70mlの溶液を７回にわけて１時間かけ
て加え、その後室温で１時間撹拌を行なう。反応
液に水200mlと酢酸エチル200mlを加え抽出を行な
う。抽出液を飽和食温水で２度、飽和重そう水で
１度、水で２度、飽和食温水で１度、順次洗浄
後、芒硝で乾燥後、溶媒を留去すると粗目的物
1.92ｇ（74.9％）を得る。このものは精製するこ
となく次の工程に使用できる。 以下に粗目的物の一部をシリカゲルクロマトグ
ラフイー（ｎ―ヘキサン―酢酸エチル１：１）に
より精製した目的化合物の物性値を示す。 ＜高極性化合物＞ IRνKBr nax（cm-1）：1795，1780（sh），1775，1740
（sh），1730 NMR（CDCl3）δ：9.90（1H，ｓ），7.67−7.93
（4H，ｍ），5.43（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz），5.17
（1H，br.s），3.90−4.20（1H，ｍ），2.77−2.93
（1H，ｍ），1.47−2.57（4H，ｍ），1.50（9H，
ｓ） ＜低極性化合物＞ IRνKBr nax（cm-1）：1795，1780（sh），1775，1740
（sh），1730 NMR（CDCl3）δ：9.80（1H，ｓ），7.70−7.97
（4H，ｍ），5.50（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz），5.20
（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz），3.93−4.27（1H，ｍ），
2.93−3.13（1H，ｍ），1.23−2.43（4H，ｍ），
1.47（9H，ｓ） 1‐2 （±）―６，７―シス―７―フタリミド―
１―アザビジクロ〔４，２，０〕オクト―２―
エン―３―ホルミル―８―オキソ―２―カルボ
ン酸，第３ブチルエステル： １−１）で得られた（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―３―ホルミル―８―オキソ―２―カルボ
ン酸，第３ブチルエステル10.2ｇを無水テトラヒ
ドロフラン200mlに溶解し、このものにピロリド
ン・ハイドロトリブロマイド12.8ｇを加え、50℃
にて、１時間撹拌を行なう。次に反応液を０℃に
冷却し、このものに撹拌下トリエチルアミン12.5
mlを加え、そのまま２時間撹拌を行なう。反応液
を冷却下1N塩酸水にあけ、酢酸エチルで抽出を
行なう。有機層を水、亜硫酸ナトリウム水、水そ
して飽和食塩水の順に洗滌し、芒硝で乾燥後、溶
媒を減圧下留去する。得られた残渣を酢酸エチル
―ジメチルエーテル―ｎ―ヘキサンからなる混合
溶媒系より結晶化を行ない、目的物2.36ｇを固形
物として得る。更に母液を減圧下濃縮し、シリカ
ゲル100ｇ（ｎ―ヘキサン／酢酸エチル１：１）
を用いて精製すると更に1.26ｇの目的物を得る
（収率36％）。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（CDCl3）δ：9.97（1H，ｓ），7.70〜8.00
（4H，ｍ），5.68（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz），3.90〜
4.20（1H，ｍ），2.77〜3.10（1H，ｍ），1.33〜
1.67（3H，ｍ），1.60（9H，ｓ）。 IRνCHCl 3nax（cm-1）：1810（sh），1800，1790，1730
，
1725（sh），1670，1600。 実施例 ２ （±）―６，７―シス―７―フタリミド―１―
アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―２―エン
―３―ホルミル―８―オキソ―２―カルボン
酸，第３ブチルエステル： 参考例６で得られた（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―３―ニトロメチル―８―オキソ―２―カ
ルボン酸，第３ブチルエステル2.75ｇ（6.4ミリ
モル）を１，２―ジメトキシエタン60mlとメタノ
ール40mlに溶解し、このものに酢酸アンモニウム
11.5ｇ，25％水性三塩化チタン溶液15.5ｇおよび
水からなる70mlの溶液を７回にわけて１時間かけ
て加え、その後室温で１時間撹拌を行なう。反応
液に水200mlと酢酸エチル200mlを加え抽出を行な
う。抽出液を飽和食塩水で２度、飽和重そう水で
１度、水で２度、飽和食塩水で１度、順次洗浄
後、芒硝で乾燥後、溶媒を留去する。残渣に無水
テトラヒドロフラン35mlを加え、このものにピロ
リドンハイドロトリブロマイド2.4ｇを加え、50
℃にて１時間撹拌を行なう。次に反応液を０℃に
冷却し、このものに撹拌下、トリエチルアミン
2.4mlを加え、そのまま２時間撹拌を行なう。反
応液を冷却下1N塩酸水にあけ、酢酸エチルで抽
出を行なう。有機層を水、亜硫酸ナトリウム水、
そして飽和食塩水の順に洗浄し、芒硝で乾燥後、
溶媒を減圧留去する。得られた残渣を酢酸エチル
―ジエチルエーテル―ｎ―ヘキサンからなる混合
溶媒系より結晶化を行なうと目的物631mgを固形
物として得る。更に母液をシリカゲル20ｇ（ｎ―
ヘキサン／酢酸エチル１：１）を用いて精製する
と更に303mgの目的物を得る（収率35％）。 このものの物性値は実施例１で得られたものと
全く同一である。 参考例 １ （±）―６，７―シス―７―フタリミド―１―
アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―２―エン
―３―〔２―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）ビニル〕―８―オキソ―２―カ
ルボン酸，第３ブチルエステル： 実施例１で得られる（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―２―エン―３―ホルミル―８―オキソ―
２―カルボン酸，第３ブチルエステル600mgを無
水テトラヒドロフラン20mlに溶解し、このものに
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）メ
チレントリフエニルホスホラン1.1ｇを加え、室
温に24時間撹拌を行なう。反応液を減圧下濃縮
し、残渣をクロロホルムに溶かし、シリカゲル
100ｇ（酢酸エチル：クロロホルム：ｎ―ヘキサ
ン＝３：１：１）を用いて精製すると520mgの目
的物を固形物として得る（収率72％）。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（CDCl3）δ：8.17（1H，ｄ，Ｊ＝16.5Hz），
7.70〜7.93（4H，ｍ），6.51（1H，ｄ，Ｊ＝16.5
Hz），5.65（1H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），4.07（3H，
ｓ），3.90〜4.17（1H，ｍ），1.90〜3.00（4H，
ｍ），1.60（9H，ｓ）。 IRνKBr nax（cm-1）：1795，1785，1775（sh），1730，
1725（sh），1625。 参考例 ２ （±）―６，７―シス―７―フタリミド―１―
アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―２―エン
―３―（２―エトキシカルボニルビニル）―８
―オキソ―２―カルボン酸，第３ブチルエステ
ル： 実施例１で得られる（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―２―エン―３―ホルミル―８―オキソ―
２―カルボン酸，第３ブチルエステル2.73mgをト
ルエン14mlに溶解し、このものにカルベトキシメ
チレントリフエニルホスホラン32mgを加え、60℃
に４時間撹拌を行なう。反応液を減圧下濃縮し、
残渣をクロロホルムに溶かし、シリカゲル50ｇ
（ｎ―ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）を用いて
精製すると190mgの目的物を固形物として得る
（収率59％）。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（CDCl3）δ：8.03（1H，ｄ，Ｊ＝16.5Hz），
7.67〜7.90（4H，ｍ），5.95（1H，ｄ，Ｊ＝16.5
Hz），5.63（1H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），4.20（2H，
ｑ，Ｊ＝7.5Hz），3.83〜4.10（1H，ｍ），1.77〜
2.90（4H，ｍ），1.60（9H，ｓ），1.27（3H，ｔ，
Ｊ＝7.5Hz） IRνCHCl 3nax（cm-1）：1800（sh），1795，1785（sh）
，
1780，1730，1725（sh），1710（sh），1620 参考例 ３ （±）―６，７―シス―７―フタリミド―１―
アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―２―エン
―３―（２―シアノビニル）―８―オキソ―２
―カルボン酸，第３ブチルエステル： 実施例１で得られる（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―２―エン―３―ホルミル―８―オキソ―
２―カルボン酸，第３ブチルエステル１ｇを無水
テトラヒドロフラン28mlに溶解し、このものにシ
アノメチレントリフエニルホスホラン1.1ｇを加
え、室温に18時間撹拌を行なう。反応液を減圧下
濃縮し、残渣をクロロホルムに溶かし、シリカゲ
ル120ｇ（ｎ―ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）
を用いて精製すると708mgの目的物を固形物とし
て得る（収率67％）。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（CDCl3）δ：7.70〜7.93（4H，ｍ），7.5
（1H，，Ｊ＝13.5Hz），5.67（1H，ｄ，Ｊ＝5.5
Hz），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝13.5Hz），3.90〜4.13
（1H，ｍ），3.07〜3.43（1H，ｍ），2.37〜2.90
（1H，ｍ），1.77〜2.36（2H，ｍ），1.57（9H，
ｓ） IRνKBr nax（cm-1）：2225，1805（sh），1800，1790，
1780（sh），1735（sh），1730 参考例 ４ （±）―６，７―シス―７―〔２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）―２―シン―メトキ
シイミノアセタミド〕―３―〔２―（１―メチ
ル―1H―テトラゾール―５―イル）ビニル〕
―８―オキソ―１―アザビシクロ〔４，２，
０〕オクト―２―エン―２―カルボン酸： 参考例１で得られた（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―２―エン―３―〔２―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イン）ビニル〕―８―
オキソ―２―カルボン酸，第３ブチルエステル
540mgをテトラヒドロフラン15.6mlと水2.7mlに溶
かし、氷冷下、硫化ナトリウム・９水塩375mgを
含有する水溶液3.52mlを加え、15分間撹拌を行な
う。反応液に1N塩酸を加え、PHを1.5に調整し、
酢酸エチルで２度抽出を行ない、有機層を飽和食
塩水で洗滌後、芒硝で乾燥する。減圧下溶媒を留
去し、残渣に無水テトラヒドロフラン6.8mlを加
え、このものにＮ，N′―ジシクロヘキシルカル
ボジイミド281mgを加え、室温に２時間撹拌を行
なう。生成した沈殿を別後、液を−78℃に冷
却し、このものにメチルヒドラジン72μを加
え、そのまま20分撹拌を行なう。次に1N塩酸1.2
mlを加え、20分かけて室温にもどし、そのまま更
に30分間撹拌を行なう。反応液に水50mlと1N塩
酸２mlを加え、酢酸エチルで３度水層を洗滌後、
冷却下、飽和重そう水で水層のPHを８に調整し、
酢酸エチルで３度抽出を行なう。有機層を飽和食
塩水で洗滌し、芒硝で乾燥する。有機層にトリフ
ルオロ酢酸0.8mlを加え、減圧下溶媒を留去する。
残渣に、無水塩化メチレン７mlを加え、更にトリ
フルオロ酢酸７mlを加えて室温に１時間放置す
る。減圧下溶媒を留去する。残渣に酢酸エチル５
mlを加え再び減圧下溶媒を留去する。得られた残
渣をエーテルで破砕すると固化物135mgを得る。
このものを水3.7ml、テトラヒドロフラン2.2mlか
らなる溶液に溶解し、トリエチルアミンでPHを
7.7に調整する。 一方、２―（２―トリチルアミノ―４―チアゾ
リル）―２―シン―メトキシイミノ酢酸266mgを
３mlの無水テトラヒドロフランに溶解し、氷冷下
84μのトリエチルアミンを加える。次いで五塩
化リン125mgを加え同温度で１時間撹拌を行ない
酸クロライド溶液とする。この酸クロライド溶液
をトリエチルアミンでPHを7.5〜8.0に保ちなが
ら、上記溶液に滴下する。その後同温度で１時間
撹拌を行なう。次いで1N塩酸でPHを1.5とした
後、飽和食塩水を加えて、酢酸エチルで２度抽出
を行なう。有機層を飽和食塩水で洗滌後、溶媒を
減圧下留去する。残渣に50％酢酸水20mlを加え、
50℃で１時間撹拌する。溶媒を減圧留去し、得ら
れた残渣を少量のジメチルスルホキシドに溶解
し、ダイヤイオンHP10（30ml）に通塔し、カラ
ムを水洗後、水―メタノール（３：１）で溶出さ
れる目的物を含有する画分を集め、減圧下溶媒を
留去すると36mgの目的物を固形物として得る（収
率７％）。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（D2O−CD3OD−d6DMSO）δ：8.10（1H，
ｄ，Ｊ＝16.5Hz），6.92（1H，ｓ），6.73（1H，
ｄ，Ｊ＝16.5Hz），5.52（1H，ｄ，Ｊ＝5.5Hz），
4.10（3H，ｓ），3.90〜4.17（1H，ｍ），4.00
（3H，ｓ），1.67〜3.10（4H，ｍ） IRνKBr nax（cm-1）：1780（sh），1770，1755（sh），
1660，1620 参考例 ５ （±）―６，７―シス―７―〔２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）―２―シン―メトキ
シイミノアセタミド〕―３―（２―エトキシカ
ルボニルビニル）―８―オキソ―１―アザビシ
クロ〔４，２，０〕オクト―２―エン―２―カ
ルボン酸： 参考例２で得られた（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―２―エン―３―（２―エトキシカルボニ
ルビニル）―８―オキソ―２―カルボン酸，第３
ブチルエステル390mgを用い、参考例４と同様の
方法で脱保護、アシル化反応を行ない、目的化合
物40mgを固形物として得る（収率14％）。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（D2−CD3OD−d6DMSO）δ：7.95（1H，
ｄ，Ｊ＝16.4Hz），6.81（1H，ｓ），6.10（1H，
ｄ，Ｊ＝16.4Hz），5.53（1H，ｄ，Ｊ＝5.2Hz），
4.19（2H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz），3.94（3H，ｓ），
1.27（3H，ｔ，Ｊ＝7.0Hz） IRνKBr nax（cm-1）：1790（sh），1780，1770（sh），
1760
（sh），1670，1630 参考例 ６ （±）―６，７―シス―７―フタリミド―１―
アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―３―ニト
ロメチル―８―オキソ―２―カルボン酸，第３
ブチルエステル： （±）―シス―７―フタリミド―１―アザビシ
クロ〔４，２，０〕オクト―２―エン―８―オキ
ソ―２―カルボン酸，第３ブチルエステル６ｇ
（16.3ミリモル）をニトロメタン60mlに懸濁し、
このものに１，８―ジアザビシクロ〔５，４，
０〕ウンデセン―７ 1.05mlを加え、室温で23時
間撹拌を行なう。反応液を氷冷した0.5N塩酸水
200mlにあけ、酢酸エチル200mlで抽出し、飽和食
塩水で３度、飽和重そう水で２度、水で２度、飽
和食塩水で１度順次洗滌後、芒硝で乾燥後、溶媒
を留去する。得られた残渣を酢酸エチル―ｎ―ヘ
キサンより結晶化すると、4.55ｇ（65％）の目的
物を得る。 このものの物性値は以下の通りである。 NMR（CDCl3）δ：7.63〜7.97（4H，ｍ），5.48
（1H，ｄ，Ｊ＝5.0Hz），5.03（1H，dd，Ｊ＝
10.5，7.5Hz），4.85（1H，dd，Ｊ＝10.5，7.5
Hz），4.51（1H，br.s），3.93〜4.23（1H，ｍ），
2.87〜3.17（1H，ｍ），1.43〜1.93（4H，ｍ），
1.50（9H，ｓ） IRνKBr nax（cm-1）：1790（sh），1780（sh），1770，
1730，1560，1385 参考例 ７ （±）―６，７―シス―７―フタリミド―１―
アザビシクロ〔４，２，０〕オクト―２―エン
―３―シアノ―８―オキソ―２―カルボン酸，
第３ブチルエステル： 実施例１で得られる（±）―６，７―シス―７
―フタリミド―１―アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト―２―エン―３―ホルミル―８―オキソ―
２―カルボン酸，第３ブチルエステル800mgをト
ルエン10mlに懸濁する。このものにピリジン
550μとＯ，Ｎ―ビス―（トルフルオロアセチ
ル）―ヒドロキシアミン960mgを加え、85℃に一
時間加熱撹拌を行なう。反応液を冷却後、水と酢
酸エチルを加え、有機層を分離する。有機層を
水、重そう水、飽和食塩水で順次洗浄後、有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥する。有機層を減圧
下留去し、得られた残渣を酢酸エチル―クロロホ
ルム―ｎ―ヘキサン系より結晶化と行なうと目的
のシアノ体596mgを得る。更に母液をシリカゲル
70ｇ（クロロホルム―ｎ―ヘキサン―酢酸エチル
＝１：１：１）を用いて精製すると124mgの目的
物を得る。（収率91.5％） このものの物性値は以下の通りである。 NMR（CDCl3）δ：7.7〜8.0（4H，ｍ）、5.70（1H，
ｄ，Ｊ＝5.5Hz）、3.83〜4.23（1H，ｍ）、2.37〜
2.73（2H，ｍ）、1.80〜2.17（2H，ｍ）、1.59
（9H，ｓ） IRνKBr nax（cm-1）：2230，1810（sh），1805，1795
（sh），1780（sh），1740（sh），1735，1725（sh） 参考例 ８ Mueller−Hinton寒天（PH7.0）上での希釈法
による最終有用化合物の抗菌活性を次表に示す
（MIC μｇ／ml）。 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式〔〕 〔式中、ＲはC1〜C5の直鎖もしくは分岐のア
ルキル基（ハロゲンで置換されていてもよい）、
置換シリル基、またはベンジル基、ベンズヒドリ
ル基もしくはトリチル基（ただし、これらの基の
フエニル核はメチル基、メトキシ基またはニトロ
基で置換されていてもよい）である〕で表わされ
るカルバセフエム化合物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7203483A JPH0244474B2 (ja) | 1983-04-23 | 1983-04-23 | Karubasefuemukagobutsu |
| EP83111375A EP0112481A1 (en) | 1982-11-12 | 1983-11-14 | Beta-lactam compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7203483A JPH0244474B2 (ja) | 1983-04-23 | 1983-04-23 | Karubasefuemukagobutsu |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59196891A JPS59196891A (ja) | 1984-11-08 |
| JPH0244474B2 true JPH0244474B2 (ja) | 1990-10-04 |
Family
ID=13477716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7203483A Expired - Lifetime JPH0244474B2 (ja) | 1982-11-12 | 1983-04-23 | Karubasefuemukagobutsu |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0244474B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1001531A4 (fr) * | 1988-03-25 | 1989-11-21 | Diamant Boart Sa | Machine de sciage a cadre vertical. |
-
1983
- 1983-04-23 JP JP7203483A patent/JPH0244474B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59196891A (ja) | 1984-11-08 |
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